一种导电膜的镀膜方法及其镀膜设备技术

本发明专利技术涉及光电镀膜技术领域，且公开了一种导电膜的镀膜设备，包括设备主体，所述设备主体的内部活动安装有始发机构，所述设备主体的内部固定安装有导流机构，所述设备主体的内部设置有导向装置，所述设备主体的内部且位于底端固定安装有电磁靶材机构。该导电膜的镀膜方法及其镀膜设备，通过启动内置的驱动装置带动始发转轴转动，始发转轴随即带动安装环同步旋转，从而带动导电膜再次穿过导流机构，导电膜再次穿过导向装置，原料滚筒的内部设置有加热层，加热层同步工作加热，穿过原料滚筒的导电膜进行预热，从而实现对导电膜的初次加热，便于后续的镀膜操作，避免传统设备镀膜预热往往需要两个机构才能实现的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种导电膜的镀膜方法及其镀膜设备
本专利技术涉及光电镀膜
，具体为一种导电膜的镀膜方法及其镀膜设备。
技术介绍
在PCB板的制造工艺中，一般采用化学沉铜的方式在有机基片上沉积上一层种子铜，然后在此基础上通过图形转移、电镀的方法生长出线路层和通孔级联层，通过该线路层可以实现导电，所述的线路层属于导电膜的一种。在实现上述导电膜制备过程中，专利技术人发现现有技术中至少存在如下问题：首先，随着布线密度的不断提高，导电膜线路宽度越来越窄，对线路与有机基片之间的附着力水平要求的程度越来越高，而目前用于PCB制造的绝大部分通用基片材料，使用传统的化学沉铜方式在其表面所制备的导电膜的附着力水平已无法满足这一要求。真空卷绕镀膜技术是在真空室内通过热蒸发或者磁控溅射等方法在柔性基材表面制备一层或者多层具有一定功能的薄膜的技术。真空卷绕镀膜设备主要技术特征是：其一，被镀基材为柔性基材，即具有可卷绕性；其二，镀膜过程具有连续性，即在一个工作周期内镀膜是连续进行的；其三，镀膜过程在一定的真空环境中进行。所以真空卷绕镀膜设备的基本结构必须有卷绕转动，有基材的放卷和收卷。在放卷和收卷过程中基材被镀上薄膜。镀膜的结构就是真空卷绕镀膜设备的工作部。对于过程的可控性不高。因此，我们提出了一种导电膜的镀膜方法及其镀膜设备。
技术实现思路
技术方案为解决上述问题，本专利技术提供如下技术方案：一种导电膜的镀膜方法及其镀膜设备，其特征在于：由如下组分按如下质量百分比组成：3％的二氧化硅、14％的氧化镓以及83％的氧化锌。包括以下制备步骤：步骤1：将权利要求中所述的3％的二氧化硅、14％的氧化镓以及83％的氧化锌的原料混合均匀，随即采用变频分散机以600～1000转/分钟的转速搅拌研磨30～60分钟，研磨完成后通过9500～1300℃烧结成烧结混合物；步骤2：将步骤1中得到的烧结混合物装入磁控溅射镀膜设备的真空腔体；步骤3：调整步骤2中磁控溅射镀膜设备工艺参数；接着根据确定的工艺参数进行镀膜处理，且在设备底部上不断交替溅射步骤1中得到的烧结混合物层，最后得到所述透明导电膜。一种如权利要求所述的导电膜的镀膜设备，包括设备主体，所述设备主体的内部活动安装有始发机构，所述设备主体的内部固定安装有导流机构，所述设备主体的内部设置有导向装置，所述设备主体的内部且位于底端固定安装有电磁靶材机构。优选的，所述始发机构的内部固定安装有始发转轴，所述始发转轴的外侧固定连接有缓冲弹簧，所述缓冲弹簧远离始发转轴的一端固定连接有安装环，所述安装环的外侧设置有导电膜。优选的，所述导流机构的内部活动安装有导流滚轮，所述导流滚轮的外侧固定连接有承接弹簧，所述承接弹簧远离导流滚轮的一端固定连接有承接杆。优选的，所述导向装置的外侧固定安装有原料滚筒，所述原料滚筒的内部固定安装有加热层，所述原料滚筒的内部活动安装有转动轴心，所述转动轴心的外侧固定连接有活动杆。优选的，所述电磁靶材机构的底端活动安装有伸缩螺杆，所述伸缩螺杆的上方固定安装有导向安装架，所述导向安装架的内部固定安装有靶材。优选的，所述导流机构设置有上下对称状的两组，导电膜夹持在两组导流机构之间。有益效果与现有技术相比，本专利技术提供了一种导电膜的镀膜方法及其镀膜设备，具备以下有益效果：1、该导电膜的镀膜方法及其镀膜设备，通过启动内置的驱动装置带动始发转轴转动，始发转轴随即带动安装环同步旋转，从而带动导电膜再次穿过导流机构，导电膜继而在导流滚轮上方滚动；导电膜再次穿过导向装置，导电膜的滚动同步带动原料滚筒同步转动，原料滚筒的内部设置有加热层，加热层同步工作加热，穿过原料滚筒的导电膜进行预热，从而实现对导电膜的初次加热，便于后续的镀膜操作，避免传统设备镀膜预热往往需要两个机构才能实现的问题。2、该导电膜的镀膜方法及其镀膜设备，当导电膜的下端穿过原料滚筒时，其下端同步接触电磁靶材机构，通过伸缩螺杆可以控制电磁靶材机构高度的整体上升以及下降，可以更加精准的控制靶材对导电膜的镀膜作业，实现更加的镀膜操作。附图说明图1为本专利技术设备主体连接结构示意图；图2为本专利技术导电膜连接结构示意图；图3为本专利技术始发机构连接结构示意图；图4为本专利技术导流机构连接结构示意图；图5为本专利技术导向装置连接结构示意图；图6为本专利技术电磁靶材机构连接结构示意图。图中：1、设备主体；2、始发机构；201、始发转轴；202、缓冲弹簧；203、安装环；204、导电膜；3、导流机构；301、导流滚轮；302、承接弹簧；303、承接杆；4、导向装置；401、原料滚筒；402、加热层；403、转动轴心；404、活动杆；5、电磁靶材机构；501、伸缩螺杆；502、导向安装架；503、靶材。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。实施例一：一种导电膜的镀膜方法及其镀膜设备，其特征在于：由如下组分按如下质量百分比组成：3％的二氧化硅、14％的氧化镓以及83％的氧化锌。包括以下制备步骤：步骤1：将权利要求中所述的3％的二氧化硅、14％的氧化镓以及83％的氧化锌的原料混合均匀，随即采用变频分散机以600～1000转/分钟的转速搅拌研磨30～60分钟，研磨完成后通过9500～1300℃烧结成烧结混合物；步骤2：将步骤1中得到的烧结混合物装入磁控溅射镀膜设备的真空腔体；步骤3：调整步骤2中磁控溅射镀膜设备工艺参数；接着根据确定的工艺参数进行镀膜处理，且在设备底部上不断交替溅射步骤1中得到的烧结混合物层，最后得到所述透明导电膜。实施例二：请参阅图1-3以及图5，一种如权利要求1的导电膜的镀膜设备，包括设备主体1，设备主体1的内部活动安装有始发机构2，始发机构2的内部固定安装有始发转轴201，始发转轴201的外侧固定连接有缓冲弹簧202，缓冲弹簧202远离始发转轴201的一端固定连接有安装环203，安装环203的外侧设置有导电膜204，设备主体1的内部固定安装有导流机构3，设备主体1的内部设置有导向装置4，导向装置4的外侧固定安装有原料滚筒401，原料滚筒401的内部固定安装有加热层402，原料滚筒401的内部活动安装有转动轴心403，转动轴心403的外侧固定连接有活动杆404。设备主体1的内部且位于底端固定安装有电磁靶材机构5。通过启动内置的驱动装置带动始发转轴201转动，始发转轴201随即带动安装环203同步旋转，从而带动导电膜204再次穿过导流机构3，导电膜204继而在导流滚轮301上方滚动；导电膜204再次穿过导向装置4，导电膜204的滚动同步带动原料滚筒401同步转动，原料滚筒401的内部设置有加本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种导电膜的镀膜方法及其镀膜设备，其特征在于：由如下组分按如下质量百分比组成：3％的二氧化硅、14％的氧化镓以及83％的氧化锌；/n包括以下制备步骤：/n步骤1：将权利要求1中所述的3％的二氧化硅、14％的氧化镓以及83％的氧化锌的原料混合均匀，随即采用变频分散机以600～1000转/分钟的转速搅拌研磨30～60分钟，研磨完成后通过9500～1300℃烧结成烧结混合物；/n步骤2：将步骤1中得到的烧结混合物装入磁控溅射镀膜设备的真空腔体；/n步骤3：调整步骤2中磁控溅射镀膜设备工艺参数；接着根据确定的工艺参数进行镀膜处理，且在设备底部上不断交替溅射步骤1中得到的烧结混合物层，最后得到所述透明导电膜。/n

【技术特征摘要】
1.一种导电膜的镀膜方法及其镀膜设备，其特征在于：由如下组分按如下质量百分比组成：3％的二氧化硅、14％的氧化镓以及83％的氧化锌；
包括以下制备步骤：
步骤1：将权利要求1中所述的3％的二氧化硅、14％的氧化镓以及83％的氧化锌的原料混合均匀，随即采用变频分散机以600～1000转/分钟的转速搅拌研磨30～60分钟，研磨完成后通过9500～1300℃烧结成烧结混合物；
步骤2：将步骤1中得到的烧结混合物装入磁控溅射镀膜设备的真空腔体；
步骤3：调整步骤2中磁控溅射镀膜设备工艺参数；接着根据确定的工艺参数进行镀膜处理，且在设备底部上不断交替溅射步骤1中得到的烧结混合物层，最后得到所述透明导电膜。


2.一种如权利要求1所述的导电膜的镀膜设备，包括设备主体(1)，其特征在于：所述设备主体(1)的内部活动安装有始发机构(2)，所述设备主体(1)的内部固定安装有导流机构(3)，所述设备主体(1)的内部设置有导向装置(4)，所述设备主体(1)的内部且位于底端固定安装有电磁靶材机构(5)。


3.如权利要求2所述的一种镀膜设备，其特征在于：所述始发机构(2)的内部固定安装有始发转轴(201)，所述始发转轴(201)的外侧固定连接有缓冲弹簧...

【专利技术属性】
技术研发人员：单敏，陈洪科，
申请(专利权)人：深圳市智顺科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44