【技术实现步骤摘要】
微型发光二极管显示器的光学补偿方法及微型发光二极管封装结构
本专利技术涉及一种微型发光二极管显示器的光学补偿方法及微型发光二极管封装结构,尤指一种藉由控制电压以补偿微型发光二极管显示器的方法及微型发光二极管封装结构。
技术介绍
近年来,在高性能显示中越来越多应用有机发光二极管作为电流型发光器件;由于有机发光二极管的自发光特性,相较于液晶屏幕而言,主动矩阵有机发光二极管(Active-matrixorganiclight-emittingdiode;简称AMOLED)具有高对比度、超轻薄、可弯曲等优点,但目前面临着高度均匀性及残像两个主要问题,要解决这两个问题就要考虑补偿技术。首先,与非晶硅薄膜晶体管相比,低温多晶硅薄膜晶体管(LowTemperaturePoly-silicon;简称LTPS)及氧化物薄膜晶体管(oxidethin-filmtransistor;简称OxideTFT)具有更高的迁移率及稳定性,更适合应用于AMOLED显示中。在中小尺寸应用中多采用低温多晶硅薄膜晶体管,而在大尺寸应用中多采用氧化物薄膜晶体管,在大面积玻璃基板上制作的低温多晶硅薄膜晶体管,在不同位置的薄膜晶体管在阈值电压、迁移率等电学参数上具有非均匀性的现象,这种非均匀性会转化为有机发光显示二极管显示器件的电流差异和亮度差异,并被人眼所感知,这就是mura现象。虽然氧化物薄膜晶体管的均匀性较好,但在长时间加压及高温下,其阈值电压会出现漂移,由于显示画面不同,面板各部分薄膜晶体管的阈值漂移量不同,会造成显示亮度差异,由于这种 ...
【技术保护点】
1.一种微型发光二极管显示器的光学补偿方法,其特征在于,该方法包括:/n设置数组像素和数个金属氧化物半导体晶体管于一基板上,每一像素具有红色微发光二极管芯片、绿色微发光二极管芯片及蓝色微发光二极管芯片,并将该些像素等距间隔设置;该红色微发光二极管芯片、该绿色微发光二极管芯片及该蓝色微发光二极管芯片分别对应设置一个该金属氧化物半导体晶体管;/n共极连接该些金属氧化物半导体晶体管的源极于一输入电压;/n连接该些金属氧化物半导体晶体管的一闸极于一闸极驱动电路;/n藉由一连接线路将每一像素的一端连接至一源极驱动电路,并将每一像素的另一端分别连接于该些金属氧化物半导体晶体管的汲极,连接该源极驱动电路以点亮每一像素的该红色微发光二极管芯片、该绿色微发光二极管芯片及该蓝色微发光二极管芯片并控制亮度;以及/n通过该闸极驱动电路施加与红色微发光二极管芯片、绿色微发光二极管芯片及蓝色微发光二极管芯片的亮度相对应的电压,并控制流过每一像素的电流来调节亮度。/n
【技术特征摘要】
1.一种微型发光二极管显示器的光学补偿方法,其特征在于,该方法包括:
设置数组像素和数个金属氧化物半导体晶体管于一基板上,每一像素具有红色微发光二极管芯片、绿色微发光二极管芯片及蓝色微发光二极管芯片,并将该些像素等距间隔设置;该红色微发光二极管芯片、该绿色微发光二极管芯片及该蓝色微发光二极管芯片分别对应设置一个该金属氧化物半导体晶体管;
共极连接该些金属氧化物半导体晶体管的源极于一输入电压;
连接该些金属氧化物半导体晶体管的一闸极于一闸极驱动电路;
藉由一连接线路将每一像素的一端连接至一源极驱动电路,并将每一像素的另一端分别连接于该些金属氧化物半导体晶体管的汲极,连接该源极驱动电路以点亮每一像素的该红色微发光二极管芯片、该绿色微发光二极管芯片及该蓝色微发光二极管芯片并控制亮度;以及
通过该闸极驱动电路施加与红色微发光二极管芯片、绿色微发光二极管芯片及蓝色微发光二极管芯片的亮度相对应的电压,并控制流过每一像素的电流来调节亮度。
2.如权利要求1所述的微型发光二极管显示器的光学补偿方法,其特征在于,该方法更包括通过一时序控制器获得每一像素的时序信号,从一垂直同步信号中获得要显示的一水平同步信号及一RGB信号,依次控制该闸极驱动电路及该源极驱动电路的照明。
3.如权利要求1所述的微型发光二极管显示器的光学补偿方法,其特征在于,该方法更包括通过一运算单元校正每一像素的一正向电压降,将每一像素的该正向压降的信息及有关亮度的颜色不均匀性的信息存储在一内存中。
4.如权利要求3所述的微型发光二极管显示器的光学补偿方法,其特征在于,该方法更包括一数字模拟转换器,通过该数字模拟转换器将与通过计算提供给该闸极驱动电路的颜色有关的数据提供给安装在每一像素上的该些金属氧化物半导体晶体管的该闸极的电压输入。
5.如权利要求3所述的微型发光二极管显示器的光学补偿方法,其特征在于,所述运算单元由一闪存只读存储器、一加法器及一乘法器组成。
6.如权利要求1所述的微型发光二极管显示器的光学补偿方法,其特征在于,所述源极驱动电路在通过一脉波宽度调变进行亮度调整的同时进行每一像素的水平方向控制。
7.一种微型发光二极管封装结构,用于权利要求1-6中任一项所述的光学补偿方法,...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘台徽,岩崎收,
申请(专利权)人:刘台徽,刘仲熙,
类型:发明
国别省市:中国台湾;71
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