验证光学邻近效应校正的方法技术

一种验证光学邻近效应校正的方法，包括：生成包括目标图案的设计图案布局、通过执行光学邻近效应校正从设计图案布局生成校正图案布局、使用校正图案布局生成包括图像图案的轮廓图像、从轮廓图像的图像图案中检测缺陷图案、以及使用缺陷图案的数据校正来校正图案布局。检测缺陷图案包括获取目标图案的重心的位置数据、获取图像图案的重心的位置数据、以及通过将缺陷图案检测基准与目标图案的重心和图像图案的重心之间的距离进行比较来确定图像图案是否为缺陷图案。

【技术实现步骤摘要】
验证光学邻近效应校正的方法相关申请的交叉引用本申请要求享有2020年2月5日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2020-0013705号的优先权，该韩国专利申请的公开内容通过引用全文合并于此。
与本公开一致的装置和方法涉及验证光学邻近效应校正的方法。
技术介绍
随着小型且高度集成的半导体设备的发展，图案之间的距离可能非常短，并且掩模图案的尺寸可能接近光源的波长。由于图案之间的这种接近性，可能发生光的干涉和衍射，从而在基板上形成与期望的图案形状不同的畸变图案。为了解决此问题，已经开发了诸如光学邻近效应校正的分辨率提高技术。
技术实现思路
本公开的示例实施例提供了验证光学邻近效应校正的方法，其用于检测具有缺陷对称性的缺陷图案。一种验证光学邻近效应校正的方法可以包括生成包括目标图案的设计图案布局、通过执行光学邻近效应校正从设计图案布局生成校正图案布局、使用校正图案布局生成包括图像图案的轮廓图像、从轮廓图像的图像图案中检测缺陷图案、以及使用缺陷图案的数据校正来校正图案布局，其中，检测缺陷图案可以包括获取目标图案的重心的位置数据、获取图像图案的重心的位置数据、以及通过将缺陷图案检测基准与目标图案的重心和图像图案的重心之间的距离进行比较确定图像图案是否为缺陷图案，以及其中，获取图像图案的重心的位置数据可以包括将图像图案分割成多个精细图案、以及收集所述多个精细图案中的每个的重心的位置数据。一种验证光学邻近效应校正的方法可以包括生成包括目标图案的设计图案布局、通过执行光学邻近效应校正从设计图案布局生成校正图案布局、通过使用校正图案布局执行模拟生成模拟图案、以及从模拟图案中检测缺陷图案，其中，检测缺陷图案可以包括获取目标图案的重心的位置数据、获取模拟图案的重心的位置数据、以及使用目标图案的重心的位置数据和模拟图案的重心的位置数据确定模拟图案是否为缺陷图案。一种验证光学邻近效应校正的方法可以包括生成包括目标图案的设计图案布局、通过执行光学邻近效应校正从设计图案布局生成校正图案布局、使用校正图案布局在晶片上形成晶片图案、生成包括与晶片图案对应的图像图案的轮廓图像、以及从轮廓图像的图像图案中检测缺陷图案，其中，检测缺陷图案可以包括设置缺陷图案检测基准、获取图像图案的重心的位置数据、以及使用缺陷图案检测基准和图像图案的重心的位置数据确定晶片图案是否为缺陷图案，其中，获取图像图案的重心的位置数据可以包括将图像图案分割成多个精细图案、收集所述多个精细图案中的每个的重心的位置数据、以及计算图像图案的重心的位置数据，图像图案的重心的位置数据(CoM)由以下表达式表示：其中，i是等于或大于1且等于或小于n的自然数，n是等于或大于2的自然数，是所述多个精细图案之中的第i个精细图案的重心的位置数据，di是所述多个精细图案之中的第i个精细图案的面积，D是所述多个精细图案的整个面积。一种计算机可读记录介质可以在其上记录有用于运行该方法的程序。一种程序可以存储在用于在计算机中运行该方法的介质中。附图说明图1是示出根据本专利技术构思的一些实施例的验证光学邻近效应校正的方法的示意性流程图。图2是示出根据本专利技术构思的一些实施例的包括在设计图案布局中的目标图案和使用该目标图案形成的在晶片上的真实图案的概念图。图3是示出根据本专利技术构思的一些实施例的包括在校正图案布局中的标准图案和校正图案以及使用该标准图案和该校正图案形成的在晶片上的真实图案的概念图。图4是示出根据本专利技术构思的一些实施例的图1的用于检测缺陷图案的操作的流程图。图5示出了根据本专利技术构思的一些实施例的轮廓图像的目标图案和图像图案。图6是示出根据本专利技术构思的一些实施例的图4的轮廓图像的重心的位置数据的流程图。图7是示出根据本专利技术构思的一些实施例的其中轮廓图像的图像图案被分割成精细图案的示例的概念图。图8是示出根据本专利技术构思的一些实施例的验证光学邻近效应校正的方法的示意性流程图。图9是示出根据本专利技术构思的一些实施例的验证光学邻近效应校正的方法的示意性流程图。图10示出了根据本专利技术构思的一些实施例的用于验证光学邻近效应校正的系统。具体实施例图1是示出根据本专利技术构思的一些实施例的验证光学邻近效应校正的方法的示意性流程图。图2是用于解释包括在设计图案布局中的目标图案10和使用该目标图案10形成的在晶片上的真实图案20的概念图。图3是用于解释包括在校正图案布局30中的标准图案12和校正图案15以及使用该标准图案12和该校正图案15形成的在晶片上的真实图案21的概念图。图2和图3所示的图案的形状为了对本公开的示例实施例的理解而被示出，并且不限制本公开的示例性实施例。参照图1，该方法的一些实施例可以包括生成设计图案布局(S101)、通过执行光学邻近效应校正从设计图案布局生成校正图案布局(S102)、使用校正图案布局生成包括图像图案的轮廓图像(S103)、检测轮廓图像的图像图案之中的缺陷图案(S104)、以及校正校正图案布局(S105)。参照图1和图2，该方法可以包括生成包括目标图案10的设计图案布局1(S101)。设计图案布局1可以包括目标图案的布局。目标图案10可以是指初始设计图案，其形成在曝光工艺中使用的掩模图案上以形成将要在诸如晶片的基板上体现的真实图案20。即，可以通过曝光工艺将掩模图案上的目标图案10转移到基板，并且可以在基板上形成真实图案20。一般地，根据曝光工艺的特性，真实图案20的布局可能由于光的干涉、衍射等而具有来自目标图案10的布局的形状的畸变形状。设计图案布局1可以包括各种形状的目标图案。设计图案布局1可以配置有各种多边形的组合。例如，设计图案布局1可以包括线图案、接触图案、拐角图案和狭槽图案中的一种或更多种。设计图案布局1可以包括设计数据。例如，可以从CAD系统提供设计数据作为设计图案布局1的轮廓的坐标值。设计图案1布局的生成可以包括设计布局和/或从数据库获取设计数据。参照图1至图3，该方法的一些实施例可以包括通过执行光学邻近效应校正从设计图案布局1生成校正图案布局30(S102)。光学邻近效应校正可以是指用于校正设计图案布局1以减少或防止在用于将设计图案布局1体现在晶片上的光刻工艺或图案转移工艺中可能发生的畸变现象的技术。例如，光学邻近效应校正可以包括以下中的一项或更多项：调整设计图案布局1的每个图案的整体尺寸和处理拐角部分，移动图案的边缘、添加多边形等。例如，对其执行光学邻近效应校正的校正图案布局30的图案可以包括作为主图案的标准图案12和添加到标准图案12的校正图案15。例如，与图2所示的真实图案20相比，可以创建图3所示的校正图案布局30以形成其圆化现象得到抑制的真实图案21。光学邻近效应校正可以包括仅将单个模型应用于全芯片的基于模型的光学邻近效应校正方法、或将一种类型的规则应用于全芯片的基于规则的光学邻近效应校正方法。在基于模型的光学邻近效应校正中，可以形成具有预设本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种验证光学邻近效应校正的方法，包括：/n生成包括目标图案的设计图案布局；/n通过执行光学邻近效应校正，从设计图案布局生成校正图案布局；/n使用校正图案布局生成包括图像图案的轮廓图像；/n从轮廓图像的图像图案中检测缺陷图案；以及/n使用缺陷图案的数据校正校正图案布局，/n其中，检测缺陷图案包括：/n获取目标图案的重心的位置数据；/n获取图像图案的重心的位置数据；以及/n通过将缺陷图案检测基准与目标图案的重心和图像图案的重心之间的距离进行比较，确定图像图案是否为缺陷图案；以及/n其中，获取图像图案的重心的位置数据包括：/n将图像图案分割成多个精细图案；以及/n收集所述多个精细图案中的每个的重心的位置数据。/n

【技术特征摘要】
20200205 KR 10-2020-00137051.一种验证光学邻近效应校正的方法，包括：
生成包括目标图案的设计图案布局；
通过执行光学邻近效应校正，从设计图案布局生成校正图案布局；
使用校正图案布局生成包括图像图案的轮廓图像；
从轮廓图像的图像图案中检测缺陷图案；以及
使用缺陷图案的数据校正校正图案布局，
其中，检测缺陷图案包括：
获取目标图案的重心的位置数据；
获取图像图案的重心的位置数据；以及
通过将缺陷图案检测基准与目标图案的重心和图像图案的重心之间的距离进行比较，确定图像图案是否为缺陷图案；以及
其中，获取图像图案的重心的位置数据包括：
将图像图案分割成多个精细图案；以及
收集所述多个精细图案中的每个的重心的位置数据。


2.根据权利要求1所述的方法，其中，图像图案的重心的位置数据(CoM)由以下表达式表示：



其中，i是等于或大于1且小于或等于n的自然数，n是等于或大于2的自然数，是所述多个精细图案之中的第i个精细图案的重心的位置数据，di是所述多个精细图案之中的第i个精细图案的面积，并且D是所述多个精细图案的整个面积。


3.根据权利要求1所述的方法，其中，确定图像图案是否为缺陷图案包括：
当目标图案的重心与图像图案的重心之间的距离大于缺陷图案检测基准时，确定图像图案为缺陷图案。


4.根据权利要求1所述的方法，其中，缺陷图案检测基准是目标图案的重心与图像图案的重心之间的距离的基准值。


5.根据权利要求1所述的方法，其中，生成轮廓图像包括通过使用校正图案布局执行模拟来生成图像图案作为模拟图案。


6.根据权利要求1所述的方法，其中，生成轮廓图像包括：
使用校正图案布局在晶片上形成晶片图案；
获取晶片图案的扫描电子显微镜(SEM)图像；以及
从SEM图像中提取轮廓图像。


7.根据权利要求1所述的方法，其中，校正图案布局包括标准图案和校正图案，以及
其中，校正校正图案布局包括基于图像图案的重心的位置数据偏移校正校正图案相对于标准图案的位置。


8.根据权利要求1所述的方法，其中，设置缺陷图案检测基准包括在晶片上设置位置数据、以及选择轮廓图像的图像图案之中的缺陷图案确定目标图案。


9.如权利要求1所述的方法，其中，获取目标图案的重心的位置数据包括将目标图案的重心设置为原点。


10.一种验证光学邻近效应校正的方法，包括：
生成包括目标图案的设计图案布局；
通过执行光学邻近效应校正，从设计图案布局生成校正图案布局；
通过使用校正图案布局执行模拟，生成模拟图案；以及
从模拟图案中检测缺陷图案，
其中，检测缺陷图案包括：
获取目标图案的重心的位置数据；
获取模拟图案的重心的位置数据；以及
使用目标图案的重心的位置数据和模拟图案...

【专利技术属性】
技术研发人员：金基盛，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国;KR