一种高性能低缺陷石墨烯散热膜的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种高性能低缺陷石墨烯散热膜的制备方法，包括以下步骤：(1)浆料的制备：将氧化石墨烯与有机分散剂分散在去离子水中，经过机械搅拌、均质处理与脱泡处理，形成均一浆料；(2)浆料涂布：将步骤(1)中制备的浆料涂布成湿膜，在40～120℃干燥，形成氧化石墨烯干膜；(3)碳化处理：将步骤(2)制备出的氧化石墨烯干膜在200～1500℃，真空条件，碳化1～10h，使得氧化石墨烯得到还原；(4)石墨化处理：将步骤(3)处理后的石墨烯膜转移至石墨化炉中，在惰性气体保护下在2300～3000℃保温30～360min，得到石墨烯泡沫膜；(5)压延处理：将步骤(4)中得到的石墨烯泡沫膜压延，得到高密度、高热导率的石墨烯散热模。该方法制备的石墨烯散热膜热扩散效果好、热导率高。

【技术实现步骤摘要】
一种高性能低缺陷石墨烯散热膜的制备方法
本专利技术属于材料领域，更具体地说涉及一种高性能低缺陷石墨烯散热膜的制备方法及其制备的石墨烯散热膜。
技术介绍
随着5G时代的到来，以智能手机为代表的消费电子产品的性能不断提升，各类电子产品对散热的需求也进一步增加，散热成为当前亟待解决的问题。人工合成石墨膜作为市场上的主流散热材料，其散热性能较传统材料有很大提升，但由于人工合成石墨膜应用的聚酰亚胺膜(PI膜)原料需要进口，价格比较昂贵，因此在制造成本上相对较大。近几年发展的人工合成石墨膜所制备出的石墨散热膜，具有较好的散热效果，但是石墨散热膜的厚度较厚，导致厚度受限制，不能满足客户的不同厚度需求。石墨烯散热膜作为一种新的导热膜材料，生产成本低、性价比高、工艺过程简洁高效、厚度可控、综合性能优异，可望全面替代人工合成石墨膜，在各类电子产品的高效散热中使用，提高电子产品的运行速度，增加产品的使用寿命。这种散热膜也受到人们的广泛关注，并进行了深入的研究。例如中国专利申请公开号CN111286309A公开了一种高性能石墨烯散热膜、其制备方法及应用本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高性能低缺陷石墨烯散热膜的制备方法，其特征在于，该制备方法包括以下步骤：/n(1)浆料的制备：将氧化石墨烯与有机分散剂分散在去离子水中，经过机械搅拌、均质处理与脱泡处理，形成均一浆料；/n(2)浆料涂布：将步骤(1)中制备的浆料涂布成湿膜，在40～120℃干燥，形成氧化石墨烯干膜；/n(3)碳化处理：将步骤(2)制备的氧化石墨烯干膜在200～1500℃，真空条件，碳化1～10h，使得氧化石墨烯得到还原；/n(4)石墨化处理：将步骤(3)处理后的石墨烯膜转移至石墨化炉中，在惰性气体保护下在2300～3000℃，保温30～360min，得到石墨烯泡沫膜；/n(5)压延处理：将步骤(4)中得...

【技术特征摘要】
20210512 CN 20211051756041.一种高性能低缺陷石墨烯散热膜的制备方法，其特征在于，该制备方法包括以下步骤：
(1)浆料的制备：将氧化石墨烯与有机分散剂分散在去离子水中，经过机械搅拌、均质处理与脱泡处理，形成均一浆料；
(2)浆料涂布：将步骤(1)中制备的浆料涂布成湿膜，在40～120℃干燥，形成氧化石墨烯干膜；
(3)碳化处理：将步骤(2)制备的氧化石墨烯干膜在200～1500℃，真空条件，碳化1～10h，使得氧化石墨烯得到还原；
(4)石墨化处理：将步骤(3)处理后的石墨烯膜转移至石墨化炉中，在惰性气体保护下在2300～3000℃，保温30～360min，得到石墨烯泡沫膜；
(5)压延处理：将步骤(4)中得到的石墨烯泡沫膜压延，得到高密度、高热导率的石墨烯散热模。


2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，其中所述有机分散剂在200～1500℃易分解，且分解后不会在石墨烯干膜中留下除C、H以外的其他杂质元素。


3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述有机分散剂选...

【专利技术属性】
技术研发人员：李彦宏，张康，张明杰，
申请(专利权)人：江苏烯望新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32