基座、基板支撑部及包括基座和基板支撑部的基板处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种基座、基板支撑部以及包括基座和基板支撑部的基板处理装置，该基座包括：基底，用于支撑基板；以及涂层，形成在所述基底上，用于放置基板，其中，所述涂层包括：第一涂层，支撑所述基板；以及第二涂层，形成为包围所述基板的侧面，其中，所述第二涂层包括：涂层倾斜面，与所述第一涂层以形成钝角的方式连接；以及凸出部件，位于所述涂层倾斜面的上部并朝向所述基板的内侧凸出，所述凸出部件朝向所述基板的外侧倾斜，以便从所述基板的侧面隔开。

【技术实现步骤摘要】
基座、基板支撑部及包括基座和基板支撑部的基板处理装置
本技术涉及对基板进行诸如蒸镀工艺、蚀刻工艺等处理工艺的基板处理装置，具体涉及用于支撑基板的基座。
技术介绍
通常，为了制造太阳能电池(SolarCell)、半导体元件、平板显示器等，需要在基板上形成预定的薄膜层、薄膜电路图案或光学图案。为此，会进行诸如在基板上蒸镀特定材料的薄膜的蒸镀工艺、使用感光材料来选择性地暴露薄膜的光刻工艺、选择性地去除暴露部分的薄膜以形成图案的蚀刻工艺等基板处理工艺。这些基板处理工艺由基板处理装置进行。所述基板处理装置包括用于放置基板的基座。所述基板处理装置能够在基板放置于所述基座的状态下进行多种基板处理工艺。所述基座包括用于支撑基板的基底及形成在所述基底上的涂层。可以在所述涂层上放置基板。其中，现有技术的基座被实现为，在所述基底上形成所述涂层的过程中，使得凸起形成于所述涂层的侧壁上。所述凸起被形成为从所述涂层的侧壁朝向基板凸出。因此，在进行基板处理工艺的过程中，现有技术的基座因所述凸起与基板彼此碰撞而导致所述基板发生损伤或破损。因此，现有技术的基座存本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基座，其特征在于，包括：/n基底，用于支撑基板；以及/n涂层，形成在所述基底上，用于放置基板，/n其中，所述涂层包括：第一涂层，支撑所述基板；以及第二涂层，形成为包围所述基板的侧面，/n所述第二涂层包括：涂层倾斜面，与所述第一涂层以形成钝角的方式连接；以及凸出部件，位于所述涂层倾斜面的上部并朝向所述基板的内侧凸出，/n所述凸出部件朝向所述基板的外侧倾斜，以便从所述基板的侧面隔开。/n

【技术特征摘要】
20191127 KR 10-2019-01540201.一种基座，其特征在于，包括：
基底，用于支撑基板；以及
涂层，形成在所述基底上，用于放置基板，
其中，所述涂层包括：第一涂层，支撑所述基板；以及第二涂层，形成为包围所述基板的侧面，
所述第二涂层包括：涂层倾斜面，与所述第一涂层以形成钝角的方式连接；以及凸出部件，位于所述涂层倾斜面的上部并朝向所述基板的内侧凸出，
所述凸出部件朝向所述基板的外侧倾斜，以便从所述基板的侧面隔开。


2.根据权利要求1所述的基座，其特征在于，
所述基底包括：基底支撑面，支撑所述第一涂层；以及基底倾斜面，连接于所述基底支撑面，
所述基底倾斜面与所述基底支撑面之间的夹角为91°至100°。


3.根据权利要求1所述的基座，其特征在于，
所述凸出部件形成为，比连接着所述第一涂层和所述涂层倾斜面的连接点更向外侧隔开。


4.根据权利要求1所述的基座，其特征在于，
所述涂层上形成有连接着所述第一涂层和所述涂层倾斜面的连接点，
所述凸出部件位于以垂直于所述第一涂层且经过所述连接点的垂线为基准的外侧。


5.根据权利要求1所述的基座，其特征在于，
所述涂层上形成有连接着所述第一涂层和所述涂层倾斜面的连接点，
以垂直于所述第一涂层且经过所述连接点的垂线为基准时，放置在所述涂层上的基板向内侧隔开。


6.根据权利要求1所述的基座，其特征在于，
所述第二涂层形成为，比所述基板的上表面更向上侧方向凸出。


7.根据权利要求1所述的基座，其特征在于，
所述涂层包括隔开部，所述隔开部形成于所述凸出部件与所述基板的侧面之间，以使所述凸出部件与所述基板的侧面之间隔开。


8.根据权利要求7所述的基座，其特征在于，
所述涂层上形成有连接着所述第一涂层和所述涂层倾斜面的连接点，
所述隔开部包括：
第一隔...

【专利技术属性】
技术研发人员：权秀泳，朴相和，
申请(专利权)人：周星工程股份有限公司，
类型：新型
国别省市：韩国;KR