【技术实现步骤摘要】
一种水洗式废气处理设备
本技术属于半导体、太阳能、薄膜电池、TFT等
内的废气处理领域,尤其涉及一种水洗式废气处理设备。
技术介绍
2012年国家推出《集成电路产业“十二五”发展规划》、2014年推出《国家集成电路产业发展推进纲要》、2015年推出《中国制造2025》、2016年推出《“十三五”国家信息化规划》和《“十三五”国家战略性新兴产业发展规划》等政策。全面推动“集成电路及专用装备”领域突破发展,半导体和集成电路产业上升为国家战略层面。全面推行绿色制造,加大先进节能环保技术、工艺和装备的研发力度,加快制造业绿色改造升级;积极推行低碳化、循环化和集约化,提高制造业资源利用效率;强化产品全生命周期绿色管理,努力构建高效、清洁、低碳、循环的绿色制造体系。工艺废气处理设备既属于环保行业,又属于半导体等新兴行业专用高端智能附属设备。在集成电路的生产制造过程中,其中的一些工艺流程模块(Module)如:化学气相沉淀(CVD)、刻蚀(Etch)、离子注入(Implant)和扩散(Diffusion),以及非晶硅薄膜太阳能、液晶TFT-LCD薄膜的PECVD工艺等都会用到大量的特殊气体。这些气体参与工艺反应之后,以废气的形式被排放,其种类可分为:有毒(Toxic)、酸性(Acid)、碱性(Alkali)、自燃(Self-ignitable)、易燃(Flammable)、腐蚀性(Caustic/Corrosive)以及全氟化合物(PFCs)与挥发性有机化合物(VOC)类气体等,这些原来作为工艺原料或者反应副 ...
【技术保护点】
1.一种水洗式废气处理设备,包括底座(100)、水箱(200)和多级喷淋系统(300),所述水箱(200)和多级喷淋系统(300)分别设置在底座(100)上部,其特征在于,所述水箱(200)的顶部连通进气口(400),水箱(200)内部设置有多个由分隔板(210)隔开但又顺序连通的废气处理区域(220,230,240,250),每个废气处理区域的顶部对应设置有多级喷淋系统(300)的喷头(308),每个废气处理区域都设置有填充料隔板(203),在填充料隔板(203)上设置有填充料;由进气口(400)进来的废气依序进入到每个废气处理区域,经过喷淋水洗吸附后从出气口(260)离开水箱(200)。/n
【技术特征摘要】
1.一种水洗式废气处理设备,包括底座(100)、水箱(200)和多级喷淋系统(300),所述水箱(200)和多级喷淋系统(300)分别设置在底座(100)上部,其特征在于,所述水箱(200)的顶部连通进气口(400),水箱(200)内部设置有多个由分隔板(210)隔开但又顺序连通的废气处理区域(220,230,240,250),每个废气处理区域的顶部对应设置有多级喷淋系统(300)的喷头(308),每个废气处理区域都设置有填充料隔板(203),在填充料隔板(203)上设置有填充料;由进气口(400)进来的废气依序进入到每个废气处理区域,经过喷淋水洗吸附后从出气口(260)离开水箱(200)。
2.如权利要求1所述的水洗式废气处理设备,其特征在于,所述水箱(200)为多空间结构,其包括水箱主体(201)、上盖(202)、多个分隔板(210)和填充料隔板(203),所述上盖(202)覆盖在所述水箱主体(201)的顶部,水箱主体(201)包括多个侧壁(204)和两个底壁(205),多个所述分隔板(210)与侧壁(204)或者底壁(205)连接,从而将水箱主体(201)内部分隔成多个废气处理区域(220,230,240,250)和一个除雾层(270),每个废气处理区域与相邻的废气处理区域有连通通道,两个相邻的所述连通通道不在同一水平位置,从而形成废气的S型长行程路径;每个废气处理区域内都设置有填充料隔板(203)。
3.如权利要求2所述的水洗式废气处理设备,其特征在于,所述水箱(200)的多空间结构包括了4个废气处理区域:即第一废气处理区域(220)、第二废气处理区域(230)、第三废气处理区域(240)和第四废气处理区域(250),所述第一废气处理区域(220)连接所述进气口(400),其内设置有两个不同水平位置的填充料隔板(203);所述第二废气处理区域(230)连接所述第一废气处理区域(220)和第三废气处理区域(240),其内设置有一个填充料隔板(203);所述第三废气处理区域(240)连接所述第二废气处理区域(230)和第四废气处理区域(250),其内设置有一个填充料隔板(203);所述第...
【专利技术属性】
技术研发人员:郭海蓉,胡建亮,唐雄,季永坚,周和武,钟建,黄高明,顾一峰,陈昕红,
申请(专利权)人:武汉更日敦科技有限公司,江西诺发科技有限公司,上海更日敦科技有限公司,
类型:新型
国别省市:湖北;42
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