一种近场光刻浸没系统及其浸没单元和接口模组技术方案

一种近场光刻浸没系统及其浸没单元和接口模组，包括设备基板；掩模装载模块，安装在设备基板上并用于安装掩模板；近场光刻浸没单元，通过接口模组安装在设备基板上；供给回收系统，用于通过接口模组向近场光刻浸没单元提供气体、液体并回收液体；控制系统，与供给回收系统和近场光刻浸没单元电连接以控制供液、供气、回收和制动。近场光刻浸没系统为近场光刻掩模板和基片之间形成稳定浸没场，以及如何在增设浸没场的情况下更加方便的自动上下掩模提供了解决方案。

【技术实现步骤摘要】
一种近场光刻浸没系统及其浸没单元和接口模组
本专利技术属于光刻
，具体涉及一种近场光刻浸没系统。
技术介绍
随着器件的特征尺寸越来越细，光刻分辨率越来越低，传统光刻技术已经不能适应当前的发展需要，如何提高光学光刻技术的分辨率是推动光刻技术发展的核心技术。投影光刻中，浸没式光刻是在传统干式光刻基础上，通过在最后一片投影物镜和硅片之间填充符合光学特性的高折射率液体的方法提高光刻分辨率。浸没式光刻不需要设计复杂的光源以及物镜系统，降低了研发成本和风险。近场光刻采用浸没方案，同样可以增加焦深、延伸工作距，同时更加便于对准操作，可以使光刻机向更小的节点延伸。但是由于近场光刻工作距短，液体完全润湿掩模与基片的难度更大，如何有效形成浸没场，以及如何在增加浸没场的情况下自动上下掩模，成为浸没方案应用于近场光刻的难题。
技术实现思路
本专利技术需要解决的技术问题是：提出一种近场光刻浸没系统，为掩模板和基片之间形成稳定浸没场，以及如何在增设浸没场的情况下更加方便的自动上下掩模提供了解决方案。为此，本专利技术的一方面提供了一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种近场光刻浸没单元，其特征在于，所述浸没单元包括由下至上依次叠置的气帘流道子单元、浸没流道子单元、浸没流道密封子单元和流道汇聚子单元；/n所述气帘流道子单元中设置有气体流道，所述气体流道能够引入气体；/n所述浸没流道子单元密封所述气帘流道子单元的气体流道且其中设置有注液流道和回液流道，所述注液流道能够引入液体至曝光场中形成浸没场，所述回液流道能够回收所述液体，其中，所述气体在所述浸没场的外围形成围绕浸没场的气帘；/n所述浸没流道密封子单元密封所述浸没流道子单元的注液流道和所述回液流道；/n所述流道汇聚子单元通过与接口模组的连接向所述浸没子单元中引入气体和液体并从所述浸没单元中回收液体。/...

【技术特征摘要】
1.一种近场光刻浸没单元，其特征在于，所述浸没单元包括由下至上依次叠置的气帘流道子单元、浸没流道子单元、浸没流道密封子单元和流道汇聚子单元；
所述气帘流道子单元中设置有气体流道，所述气体流道能够引入气体；
所述浸没流道子单元密封所述气帘流道子单元的气体流道且其中设置有注液流道和回液流道，所述注液流道能够引入液体至曝光场中形成浸没场，所述回液流道能够回收所述液体，其中，所述气体在所述浸没场的外围形成围绕浸没场的气帘；
所述浸没流道密封子单元密封所述浸没流道子单元的注液流道和所述回液流道；
所述流道汇聚子单元通过与接口模组的连接向所述浸没子单元中引入气体和液体并从所述浸没单元中回收液体。


2.根据权利要求1所述的近场光刻浸没单元，其特征在于，所述流道汇聚子单元设置有能够分别与所述气体流道、注液流道和回液流道连通的进气口、进液口和出液口，其中，引入的气体依次经过所述进气口以及浸没流道密封子单元和浸没流道子单元上开设的进气孔进入气体流道，引入的液体依次经过所述进液口和浸没流道密封子单元上开设的进液孔进入注液流道，引出的液体依次经过所述浸没流道密封子单元上开设的出液孔和所述出液口流出回液流道。


3.根据权利要求1所述的近场光刻浸没单元，其特征在于，所述流道汇聚子单元上还设置有导向口，所述导向口内安装有制动器；
所述流道汇聚子单元数量为4个，均匀设置在所述浸没单元的四个角上。


4.根据权利要求1所述的近场光刻浸没单元，其特征在于，所述浸没单元中气帘流道子单元、浸没流道子单元、浸没流道密封子单元和流道汇聚子单元一体成型或可拆卸地彼此连接。


5.根据权利要求1所述的近场光刻浸没单元，其特征在于，所述注液流道以预定角度的液体引入口将液体引入至曝光场中形成浸没场，所述气体流道以设置在液体引入口外侧的气体引入口将气体引入至浸没场的外围形成环形气...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗先刚，赵泽宇，赵承伟，蒲明博，罗云飞，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：四川;51