一种高活性纳米晶NiO薄膜的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种高活性纳米晶NiO薄膜的制备方法，包括以下步骤：(1)通过层层自组装方法在衬底上制备NiO前驱物薄膜；(2)将NiO前驱物薄膜放在紫外光下照射，利用紫外光分解NiO前驱物薄膜中的有机物并使NiO结晶成纳米颗粒，制得高活性纳米晶NiO薄膜。本发明专利技术利用紫外光照射和层层自组装相结合的方法，制备高活性NiO纳米薄膜，方法简单，廉价，不需要复杂的设备，所制备的NiO薄膜具有高度活性，电致变色效能在500nm波长处高达67％。

【技术实现步骤摘要】
一种高活性纳米晶NiO薄膜的制备方法
本专利技术涉及一种NiO薄膜的制备方法，尤其涉及一种高活性纳米晶NiO薄膜的制备方法。
技术介绍
NiO薄膜在超级电容器、电致变色材料、传感器、太阳能电池、光敏二极管等许多领域有着广泛的应用前景。NiO是一种电致变色性能较好的阳极变色材料，在水溶性或有机溶性电解质中都可以发生可逆氧化还原反应，在透明的还原态和棕黑色的氧化态之间产生可逆切换，实现电致变色功能，且具有电致变色响应速度快，变色范围大等优点。然而，NiO的稳定性和循环性较差，长期运行后会出现性能衰减，比如在碱性电解液中，NiO通过氧化着色反应会变成NiOOH，该物质经褪色还原反应后会部分变成Ni(OH)2，而不是NiO。另外，在产生电致变色的氧化还原反应中，水分子会逐渐包覆NiOOH颗粒并将它们隔离开，从而抑制它们的褪色还原反应。最后，NiOOH在退色还原过程中会产生自放电和部分溶解，这都会使NiO的电致变色性能产生衰减。如何简单廉价地制备出电致变色效能高，使用寿命长的NiO薄膜，不仅是NiO膜应用的要求，也是目前制备技术所急需解决的问题。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高活性纳米晶NiO薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：/n(1)通过层层自组装方法在衬底上制备NiO前驱物薄膜；/n(2)将NiO前驱物薄膜放在紫外光下照射，利用紫外光分解NiO薄膜中的有机物并使NiO结晶成纳米颗粒，制得高活性纳米晶NiO薄膜。/n

【技术特征摘要】
1.一种高活性纳米晶NiO薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)通过层层自组装方法在衬底上制备NiO前驱物薄膜；
(2)将NiO前驱物薄膜放在紫外光下照射，利用紫外光分解NiO薄膜中的有机物并使NiO结晶成纳米颗粒，制得高活性纳米晶NiO薄膜。


2.根据权利要求1所述的高活性纳米晶NiO薄膜的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，将衬底交替浸泡在聚丙烯酸水溶液、聚乙烯亚胺-Ni络合物水溶液中，得到NiO前驱物薄膜。


3.根据权利要求1所述的高活性纳米晶NiO薄膜的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，所述高活性纳米晶NiO薄膜的厚度为1-25nm。


4.根据权利要求2所述的高活性纳米晶NiO薄膜的制备方法，其特征在于，所述聚丙烯酸单体浓度为0.01-1M。


5.根据权利要求2所述的高活性纳米晶NiO薄膜的制备方法，其特征在于，所述聚乙烯亚胺-Ni络合物...

【专利技术属性】
技术研发人员：章建辉，施泽宇，顾明，
申请(专利权)人：南京大学，
类型：发明
国别省市：江苏;32