一种光聚合单体,及其组成的高分辨率高附着LDI干膜抗蚀剂制造技术

技术编号:29441657 阅读:40 留言:0更新日期:2021-07-27 16:53
本发明专利技术属于感光材料技术领域,尤其涉及一种光聚合单体,及其组成的高分辨率高附着LDI干膜抗蚀剂。本发明专利技术通过对现有丙烯酸酯化合物进行改性,并且配合特定组成和比例的碱可溶性树脂、光引发剂组分以及添加剂的方式,制得综合性能突出的干膜抗蚀剂,以满足下游PCB面板生产厂商用LDI曝光方法制作高精密内层板工艺的要求。本发明专利技术具有以下优点:第一、改进的功能性光聚合单体,可以使得最终的干膜抗蚀剂与覆铜板基材之间的附着力,自身的耐蚀刻能力、显影性和分辨率都得到大大提高;第二、干膜抗蚀剂的光敏性提高、显影速度加快,能满足激光直接描绘成像技术的要求;第三、干膜抗蚀剂形成的干膜侧边形貌良好,提升生产良率。

The invention relates to a photopolymerization monomer and a high-resolution and high adhesion LDI dry film resist composed thereof

【技术实现步骤摘要】
一种光聚合单体,及其组成的高分辨率高附着LDI干膜抗蚀剂
本专利技术属于感光材料
,尤其涉及一种光聚合单体,及其组成的高分辨率高附着LDI干膜抗蚀剂。
技术介绍
LDI,指的是激光直接成像技术,原理是激光直接投射在涂有干膜抗蚀剂的线路板上,从而实现图形转移,相较于传统的光掩膜曝光法,位置配合精度更好,因此,现在的精密线路普遍使用该方法曝光。而制作精密线路,要求干膜抗蚀剂能兼具高解析、高附着力以及耐蚀刻性的这些优点。干膜抗蚀剂,其成分组成一般包括以下四类:碱可溶性树脂、光聚合单体、光引发剂以及添加剂,而现有的干膜抗蚀剂为了达到上述高解析、高附着力以及耐蚀刻的高效综合性能,作出的改进方法主要有以下两种:第一,在碱可溶性树脂体系内加入(甲基)丙烯酸苄酯、苯乙烯、苯乙烯衍生物作为共聚组份,且该类共聚组分在碱可溶树脂中占比较高,或者在光聚合单体中添加多官的单体以提高交联密度;第二,额外添加提升附着力的助剂,例如含磷酸基团的(甲基)丙烯酸酯或者苯并三氮唑类的化合物。但是以上两种方法都具有较大局限性,第一种方法带来的弊端本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光聚合单体,其特征在于:包括一种或多种亲水性多官(甲基)丙烯酸酯,所述亲水性多官(甲基)丙烯酸酯的结构通式为式I:

【技术特征摘要】
1.一种光聚合单体,其特征在于:包括一种或多种亲水性多官(甲基)丙烯酸酯,所述亲水性多官(甲基)丙烯酸酯的结构通式为式I:,或者式II:,或者式Ⅲ:,或者式Ⅳ:。


2.根据权利要求1所述的一种光聚合单体,其特征在于:所述式I、II、Ⅲ以及Ⅳ中,m表示4-30的整数,b表示0-30的整数,R*表示H或者C1-C10的直链或者支链烷基,R表示H或者CH3,所述亲水性多官(甲基)丙烯酸酯的重均分子量为800-6000g/mol。


3.根据权利要求1所述的一种光聚合单体,其特征在于:还包括结构通式为式Ⅴ:所示的EO/PO修饰的双酚A(甲基)丙烯酸酯。


4.根据权利要求3所述的一种光聚合单体,其特征在于:所述式Ⅴ中,R1表示H或者CH3,m1、m2分别为1-30的整数,n1、n2分别为0-20的整数,m1+m2为4-30的整数,n1+n2为0-20的整数。


5.一种如权利要求1所述的光聚合单体组成的高分辨率高附着LDI干膜抗蚀剂,其特征在于包括以下组分:碱可溶性树脂45-60wt%、所述光聚合单体35-50wt%、光引发剂组分0.1-10.0wt%,以及添加剂0.5-5.0wt%。


6.根据权利要求5所述的一种光聚合单体组成的高分辨率高附着LDI干膜抗蚀剂,其特征在于:所述亲水性多官(甲基)丙烯酸酯占所述光聚合单体的2-40wt%,占所述碱可溶性树脂和光聚合单体总和的1-20wt%。


7.根据权利要求5所述的一种光聚合单体组成的高分辨率高附着LDI干膜抗蚀剂,其特征在于:所述碱可溶性树脂的结构通式为式Ⅵ:,
其中,R2、R3、R5、R7分别独立表示为氢原子或者甲基,R4、R6分别独立地表示碳原子数为1-5的烷基、碳原子数1-5的烷氧基、羟基或者卤原子,x、y分别独立地表示0-5的整数,R8表示为碳原子数为1-18的直链、支链或者环状烷基;a、b、c、d分别表示各共聚组份在碱可溶性树脂中的比重,其中,a为15-35wt%,b为0-50wt%,c为0...

【专利技术属性】
技术研发人员:袁丽朱高华黄磊李伟杰钱伟强
申请(专利权)人:浙江福斯特新材料研究院有限公司
类型:发明
国别省市:浙江;33

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