【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光取向性共聚物、粘合剂组合物、粘合剂层、光学层叠体及图像显示装置
本专利技术涉及一种光取向性共聚物、粘合剂组合物、粘合剂层、光学层叠体及图像显示装置。
技术介绍
从消除图像着色及放大视角等观点考虑,在各种图像显示装置中使用光学补偿片及相位差膜等光学膜。使用拉伸双折射膜作为光学膜,但是近年来,提出使用光学各向异性层来代替拉伸双折射膜,所述光学各向异性层使用了液晶化合物。关于这种光学各向异性层,已知为了使液晶化合物取向而在形成光学各向异性层的支撑体上设置取向膜,并且作为该取向膜,已知有实施光取向处理来代替摩擦处理的光取向膜。例如,在专利文献1中,记载有一种光取向膜用组合物,其含有:聚合物A,具有包含肉桂酸酯基的构成单元a1;及低分子化合物B,具有肉桂酸酯基且分子量比聚合物A小([权利要求1]),并且记载有聚合物A具有包含环氧基、氧杂环丁基等交联性基团的构成单元a2的方式([0024]~[0028])。并且,在专利文献2中,记载有一种光取向性共聚物及使用含有该光取向性共聚物的光取向膜用组合物而形成的光取向膜,所述光取向性共聚物具有包含规定的光取向性基团的重复单元A和包含规定的交联性基团的重复单元B([权利要求1][权利要求13])。以往技术文献专利文献专利文献1:国际公开第2017/069252号专利文献2:国际公开第2018/173727号
技术实现思路
专利技术要解决的技术课题本专利技术人等对专利文献1及专利文献2中所记 ...
【技术保护点】
1.一种光取向性共聚物,其具有:/n重复单元A,包含光取向性基团;/n重复单元B,包含通过选自由光、热、酸及碱组成的组中的至少一种的作用而引起交联反应的交联性基团;及/n重复单元C,包含通过选自有光、热、酸及碱组成的组中的至少一种的作用进行分解而产生极性基团的裂解基团,其中,/n所述重复单元C在侧链具有所述裂解基团,并且在所述侧链的比所述裂解基团更靠末端侧具有能够使所述光取向性共聚物偏向存在于空气界面侧的原子团,/n相对于所述重复单元A的含量a、所述重复单元B的含量b及所述重复单元C的含量c的合计的各重复单元的含量以质量比计满足下述式(W1)~式(W3),/n0.03≤a/(a+b+c)≤0.75 (W1)/n0.20≤b/(a+b+c)≤0.90 (W2)/n0.03≤c/(a+b+c)≤0.70 (W3)。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181128 JP 2018-2222671.一种光取向性共聚物,其具有:
重复单元A,包含光取向性基团;
重复单元B,包含通过选自由光、热、酸及碱组成的组中的至少一种的作用而引起交联反应的交联性基团;及
重复单元C,包含通过选自有光、热、酸及碱组成的组中的至少一种的作用进行分解而产生极性基团的裂解基团,其中,
所述重复单元C在侧链具有所述裂解基团,并且在所述侧链的比所述裂解基团更靠末端侧具有能够使所述光取向性共聚物偏向存在于空气界面侧的原子团,
相对于所述重复单元A的含量a、所述重复单元B的含量b及所述重复单元C的含量c的合计的各重复单元的含量以质量比计满足下述式(W1)~式(W3),
0.03≤a/(a+b+c)≤0.75(W1)
0.20≤b/(a+b+c)≤0.90(W2)
0.03≤c/(a+b+c)≤0.70(W3)。
2.根据权利要求1所述的光取向性共聚物,其中,
相对于所述重复单元A的含量a、所述重复单元B的含量b及所述重复单元C的含量c的合计的各重复单元的含量以质量比计满足下述式(W4)~式(W6),
0.03≤a/(a+b+c)≤0.45(W4)
0.45≤b/(a+b+c)≤0.90(W5)
0.03≤c/(a+b+c)≤0.50(W6)。
3.根据权利要求1所述的光取向性共聚物,其中,
相对于所述重复单元A的含量a、所述重复单元B的含量b及所述重复单元C的含量c的合计的各重复单元的含量以质量比计满足下述式(W7)~式(W9),
0.03≤a/(a+b+c)≤0.40(W7)
0.55≤b/(a+b+c)≤0.90(W8)
0.03≤c/(a+b+c)≤0.40(W9)。
4.根据权利要求1所述的光取向性共聚物,其中,
相对于所述重复单元A的含量a、所述重复单元B的含量b及所述重复单元C的含量c的合计的各重复单元的含量以质量比计满足下述式(W10)~式(W12),
0.03≤a/(a+b+c)≤0.20(W10)
0.60≤b/(a+b+c)≤0.80(W11)
0.15≤c/(a+b+c)≤0.35(W12)。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的光取向性共聚物,其中,
所述重复单元C在侧链具有所述裂解基团,并且在所述侧链的比所述裂解基团更靠末端侧具有氟原子或硅原子。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的光取向性共聚物,其中,
所述重复单元C为下述式(C1)所表示的重复单元或者下述式(C2-1)或式(C2-2)所表示的重复单元,
其中,在所述式(C1)及式(C2-1)中,R11表示氢原子或碳原子数1~3的烷基,所述式(C1)中的多个R11可以分别相同,也可以不同,
并且,在所述式(C1)、式(C2-1)及式(C2-2)中,X11及X12分别独立地表示单键或2价的连接基,RK表示所述裂解基团,RL表示包含氟原子或硅原子的1价的有机基团。
7.根据权利要求6所述的光取向性共聚物,其中,
所述式(C1)、式(C2-1)及式(C2-2)中的RK为下述式(rk-1)~式(rk-13)中的任一个所表示的裂解基团,
其中,在所述式(rk-1)~式(rk-13)中,*1表示与所述式(C1)、式(C2-1)及式(C2-2)中的X11及X12中的任一个的键合位置,*2表示与在所述式(C1)、式(C2-1)及式(C2-2)中的X11及X12中未与所述*1键合的一侧的键合位置,R分别独立地表示氢原子或1价的有机基团。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的光取向性共聚物,其中,
所述重复单元A为下述式(A)所表示的重复单元,
在所述式(A)中,R1表示氢原子或甲基,L1表示2价的连接基,R2、R3、R4、R5及R6分别独立地表示氢原子或取代基,R2、R3、R4、R5及R6中相邻的两个基团可以键合而形成环。
9.根据权利要求8所述的光取向性共聚物,其中,
所述式(...
【专利技术属性】
技术研发人员:野副宽,饭泉隆史,渡边壮一郎,西川秀幸,中川一茂,渥美匡广,
申请(专利权)人:富士胶片株式会社,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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