一种遮罩结构及隔离柱制作方法技术

本发明专利技术公布一种遮罩结构及隔离柱制作方法，遮罩结构包括第一掩膜框、第二掩膜框和非镂空区域；所述第一掩膜框围绕所述非镂空区域，所述第一掩膜框和所述非镂空区域具有间隔，所述第一掩膜框和所述非镂空区域之间的间隔为镂空区域；所述第二掩膜框设置在所述第一掩膜框的顶部和所述非镂空区域的顶部上，所述第二掩膜框围绕所述非镂空区域，所述第二掩膜框上设置开孔，所述开孔位于镂空区域的上方，所述开孔用于作为薄膜材料沉积的通道。上述技术方案通过第二掩膜框来定位第一掩膜框和非镂空区域，当薄膜材料从第一掩膜框的顶部方向下沉积时，薄膜材料通过开孔和镂空区域沉积在下面的发光器件上，并形成隔离柱，可以减小了阴影效应的影响。

【技术实现步骤摘要】
一种遮罩结构及隔离柱制作方法
本专利技术涉及掩膜板
，尤其涉及一种遮罩结构及隔离柱制作方法。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLightEmittingDiode，缩写OLED)的显示器件具备自发光特性、低功耗、宽视角、响应速度快、超轻超薄、抗震性好等特点，采用薄膜封装技术可实现OLED显示器件的可折叠、可弯折等特点。薄膜封装技术(ThinFilmEncapsulastion，缩写TFE)，薄膜封装技术是在具有发光器件的衬底上，将有机材料蒸镀后，在发光器件上沉积Barrierlayer(隔绝层)和Bufferlayer(平坦层)，依次顺序制备3至5层的交叠结构来覆盖发光器件，起到隔绝水氧的作用。其中Barrierlayer(隔绝层)多采用PECVD(化学气相沉积)机台来沉积无机薄膜，无机薄膜如氮化硅，其作用是起到阻隔水氧的作用。Bufferlayer(平坦层)多采用IJP(喷墨打印)机台涂布有机薄膜，有机薄膜如高分子聚合物、树脂等，其作用是覆盖无机层的缺陷，实现平坦化，还可以释放无机层之间的应力，实现柔性封装。...

【技术保护点】
1.一种遮罩结构，其特征在于，包括第一掩膜框、第二掩膜框和非镂空区域；/n所述第一掩膜框围绕所述非镂空区域，所述第一掩膜框和所述非镂空区域具有间隔，所述第一掩膜框和所述非镂空区域之间的间隔为镂空区域；/n所述第二掩膜框设置在所述第一掩膜框的顶部和所述非镂空区域的顶部上，所述第二掩膜框围绕所述非镂空区域，所述第二掩膜框上设置开孔，所述开孔位于镂空区域的上方，所述开孔用于作为薄膜材料沉积的通道。/n

【技术特征摘要】
1.一种遮罩结构，其特征在于，包括第一掩膜框、第二掩膜框和非镂空区域；
所述第一掩膜框围绕所述非镂空区域，所述第一掩膜框和所述非镂空区域具有间隔，所述第一掩膜框和所述非镂空区域之间的间隔为镂空区域；
所述第二掩膜框设置在所述第一掩膜框的顶部和所述非镂空区域的顶部上，所述第二掩膜框围绕所述非镂空区域，所述第二掩膜框上设置开孔，所述开孔位于镂空区域的上方，所述开孔用于作为薄膜材料沉积的通道。


2.根据权利要求1所述的一种遮罩结构，其特征在于，所述第二掩膜框呈现倒“凹”字形的形状，所述开孔设置在倒“凹”字形的第二掩膜框中间的顶部。


3.根据权利要求1所述的一种遮罩结构，其特征在于，所述非镂空区域的底部位于所述第一掩膜框的底部和所述第一掩膜框的顶部之间，所述第一掩膜框的底部内侧壁用于围绕衬底上的发光器件外侧壁。


4.根据权利要求3所述的一种遮罩结构，其特征在于，所述非镂空区域的厚度在0.1毫米以上，在0.3毫米以下；或者：
所述第一掩膜框的厚度在3毫米以上，在5毫米以下。


5.根据权利要求1所述的一种遮罩结构，其特征在于，所述开孔为多个，多个的开孔沿着非镂空区域设置。


6.根据权利要求1所述的一种遮罩结构，其特征在于，所述第一掩膜框为矩形的框架，所述非镂空区域的形状为矩形。<...

【专利技术属性】
技术研发人员：温质康，乔小平，苏智昱，
申请(专利权)人：福建华佳彩有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35