显示基板及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

本申请实施例提供了一种显示基板及其制备方法、显示装置。该显示基板，包括：衬底基板；像素定义层，设于衬底基板的一侧，包括多个开口；像素间隔层，包括多个设于像素定义层远离衬底基板的一侧的像素支撑结构，像素支撑结构至少靠近开口的一侧为曲面。本申请实施例显示基板的像素支撑结构至少靠近开口的一侧为曲面，可以保证在蒸镀过程中有机材料不易附着在像素支撑结构上，降低PS暗点发生的概率，从而提高显示基板的产品性能和整体良率。

【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制备方法、显示装置
本申请涉及显示面板
，具体而言，本申请涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。
技术介绍
目前，OLED(OrganicLight-EmittingDiode，有机发光二极管)显示基板主要是利用共通层掩膜板CommonMask和FMM(FineMetalMask，高精度金属掩膜板)将有机材料以图案化的形式蒸镀到衬底基板上形成OLED器件。但是，在蒸镀过程中，容易产生PS(PhotoSpacer，间隔层)暗点，从而降低了OLED产品性能和整体良率。
技术实现思路
本申请针对现有方式的缺点，提出一种显示基板及其制备方法、显示装置，用以解决现有技术存在的容易产生PS暗点而带来的OLED产品性能和整体良率较低的技术问题。第一方面，本申请实施例提供一种显示基板，包括：衬底基板；像素定义层，设于衬底基板的一侧，包括多个开口；像素间隔层，包括多个设于像素定义层远离衬底基板的一侧的像素支撑结构，像素支撑结构至少靠近开口的一侧为曲面。在一个可能的实现方式中，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板，其特征在于，包括：/n衬底基板；/n像素定义层，设于所述衬底基板的一侧，包括多个开口；/n像素间隔层，包括多个设于所述像素定义层远离所述衬底基板的一侧的像素支撑结构，所述像素支撑结构至少靠近所述开口的一侧为曲面。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，其特征在于，包括：
衬底基板；
像素定义层，设于所述衬底基板的一侧，包括多个开口；
像素间隔层，包括多个设于所述像素定义层远离所述衬底基板的一侧的像素支撑结构，所述像素支撑结构至少靠近所述开口的一侧为曲面。


2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述像素间隔层是由光刻胶溶液和光致变形材料按照设计比例混合制成的。


3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述设计比例中，所述光刻胶溶液的份数不大于所述光致变形材料的份数。


4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述像素间隔层是由光致变形材料制成的。


5.根据权利要求2至4中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述光致变形材料包括开环形材料。


6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述开环形材料包...

【专利技术属性】
技术研发人员：李金钰，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11