一种显示模块的制备方法及显示模块技术

本发明专利技术涉及显示元器件领域，具体涉及一种显示模块的制备方法及显示模块，制备方法包括提供设置有发光单元的基板；在基板形成第一光学覆盖层，第一光学覆盖层将发光单元覆盖，第一光学覆盖层的厚度大于发光单元的厚度；采用反应离子蚀刻将第一光学覆盖层蚀刻至预设厚度；以及在第一光学覆盖层远离基板的一侧形成第二光学覆盖层。其能够保证蚀刻表面的平整度和均一性，提高了产品质量和发光效果。显示模块由上述的制备方法制备得到，发光效果好。发光效果好。发光效果好。

【技术实现步骤摘要】
一种显示模块的制备方法及显示模块


[0001]本专利技术涉及显示元器件领域，具体而言，涉及一种显示模块的制备方法及显示模块。

技术介绍

[0002]目前，在进行显示模块制备的过程中，经常需要将多余的胶层去除。常规的清洗方式/去除方式包括物理性刻蚀与化学性蚀刻两种，采用物理性刻蚀过后，容易影响产品外观并会损耗一定的光效，而采用化学性蚀刻容易导致各向异性，使整体表面平整度和均一性都变得很差，直接影响了产品品质和使用效果。
[0003]有鉴于此，特提出本申请。

技术实现思路

[0004]为克服现有的制备方法存在的损耗光效、平整度和均一性差的技术问题，本专利技术的实施例提供了一种显示模块的制备方法及显示模块。
[0005]本专利技术的实施例提供一种显示模块的制备方法，其包括：提供设置有发光单元的基板；在基板形成第一光学覆盖层，第一光学覆盖层将发光单元覆盖，第一光学覆盖层的厚度大于发光单元的厚度；采用反应离子蚀刻将第一光学覆盖层蚀刻至预设厚度；以及在第一光学覆盖层远离基板的一侧形成第二光学覆盖层。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示模块的制备方法，其特征在于，包括：提供设置有发光单元的基板；在所述基板形成第一光学覆盖层，所述第一光学覆盖层将所述发光单元覆盖，所述第一光学覆盖层的厚度大于所述发光单元的厚度；采用反应离子蚀刻将所述第一光学覆盖层蚀刻至预设厚度；及在所述第一光学覆盖层远离所述基板的一侧形成第二光学覆盖层。2.根据权利要求1所述的显示模块的制备方法，其特征在于，采用反应离子蚀刻所述第一光学覆盖层时，所述预设厚度为所述发光单元的厚度。3.根据权利要求1所述的显示模块的制备方法，其特征在于，所述第一光学覆盖层含有遮光材料；和/或所述第二光学覆盖层添加有荧光材料、调色材料、散射材料、雾度调节材料中的至少一者。4.根据权利要求1所述的显示模块的制备方法，其特征在于，采用反应离子蚀刻所述第一光学覆盖层包括：按预设流量通入作用气体，并电离所述作用气体；利用电离后的所述作用气体撞击所述第一光学覆盖层的表面；及将所述第一光学覆盖层蚀刻至所述预设厚度；其中，所述作用气体包括：O2、N2和C
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。5.根据权利要求4所述的显示模块的制备方法，其特征在于，所述作用气体撞击所述第一光学覆盖层的表面的撞击角度为30
°‑
90
°
。6.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：常德良，陈永铭，桑建，颜春明，
申请(专利权)人：广州市鸿利显示电子有限公司，
类型：发明
国别省市：