本实用新型专利技术公开了一种用于基坑止水帷幕渗漏检测装置，包括止水帷幕、钻孔、仪器主机、供电电极A、回路电极B∞和观测电极；钻孔沿止水帷幕的周向布设。在距止水帷幕的3m范围内沿帷幕布设观测电极；保持回路电极B∞的位置不变，将供电电极A依次从孔底移动到孔口，并分别进行电位梯度观测，直至完成整个基坑的止水帷幕检测工作；对观测数据进行处理、分析，即可确定止水帷幕发生渗漏的位置和规模。本实用新型专利技术可实施性强；减少了钻孔数量，既降低了检测成本，又避免了对止水帷幕的结构造成破坏；检测灵敏度和精度高。灵敏度和精度高。灵敏度和精度高。
A leakage detection device for foundation pit waterproof curtain
【技术实现步骤摘要】
一种用于基坑止水帷幕渗漏检测装置
[0001]本技术涉及一种用于基坑止水帷幕渗漏检测装置，可广泛应用于水泥土搅拌墙、地下连续墙、咬合桩等不同形式的基坑止水帷幕中，用于检测止水帷幕发生渗漏的位置和规模。
技术介绍
[0002]止水帷幕是深基坑工程地下水控制的主要技术措施，主要用于阻止地下水从基坑侧壁或底部流入基坑。但是在工程实践中，由于水文地质情况调查不充分、止水方案选择不当、施工质量控制不严等原因，止水帷幕失效的情况时有发生，导致了很多基坑工程事故。因此，若能在基坑开挖前判断渗漏并准确检测出渗漏发生的位置，便能预先采取加固堵漏措施，避免开挖时因止水帷幕渗漏产生各类风险。
[0003]在目前的基坑止水帷幕渗漏检测中，最常用的方法主要有测量降水前、后帷幕两侧电阻率变化的高密度电法、跨孔电阻率CT、跨孔声波CT、跨孔电阻率CT、渗流场法(电位法)等方法，但各方法均具有一定的局限性，比如开展高密度电法检测工作需要具有能布设测线的开阔场地，且场地不能硬化，而城市基坑场地往往难以满足这样的条件；跨孔CT方法精度高，但需要沿基坑布设较多的钻孔，这一方面增加了检测成本，另一方面也对止水帷幕结构造成了破坏；渗流场法(电位法)虽然可以检测出渗漏发生的位置，但精度较低，不利于进行精准修复。
技术实现思路
[0004]为了克服
技术介绍
中的技术问题，本技术采用的技术方案是：
[0005]一种用于基坑止水帷幕渗漏检测装置，包括止水帷幕1、钻孔2、仪器主机 3、供电电极A4、回路电极B∞5和观测电极6；钻孔2布设在止水帷幕1内侧或外侧适当距离的位置，钻孔2的深度与止水帷幕1的高度相等；供电电极 A4位于钻孔2中，回路电极B∞5位于止水帷幕1的外部；观测电极6位于止水帷幕1的内侧且沿止水帷幕1的周向进行布设；供电电极A4、回路电极B∞5 和观测电极6均与仪器主机3连接。
[0006]进一步地，止水帷幕为水泥土搅拌墙、地下连续墙或咬合桩等。
[0007]进一步地，钻孔2要求为裸眼孔且裸眼孔中充满水或泥浆。
[0008]进一步地，仪器主机3为电法仪。
[0009]进一步地，供电电极A4和回路电极B∞5为铜电极，观测电极6为不极化电极。
[0010]进一步地，在基坑内部或外部适当位置布设钻孔2，钻孔2要求打到基坑底板深度，并测量钻孔2距止水帷幕1的距离。
[0011]进一步地，回路电极B∞5布设在距离钻孔2大于5倍待检测帷幕1长度的适当位置。
[0012]进一步地，在距止水帷幕1的3m范围内沿帷幕布设观测电极6(即电位梯度观测装置MN)，分别观测平行止水帷幕1方向和垂直止水帷幕1方向上的电位梯度变化，并做好记录；
[0013]进一步地，保持回路电极B∞5的位置不变，将供电电极A4依次从孔底移动到孔口，并分别进行电位梯度观测，直至完成整个基坑的止水帷幕检测工作.
[0014]进一步地，对观测数据进行处理、分析，即可确定止水帷幕发生渗漏的位置和规模。
[0015]本技术的有益效果是：(1)检测条件少，可实施性强；(2)减少了钻孔数量，既降低了检测成本，又避免了对止水帷幕的结构造成破坏；(3)检测灵敏度和精度高。
附图说明
[0016]图1是本技术的观测装置示意图。
[0017]图2是本技术的观测装置平面示意图。
[0018]图3水泥土搅拌墙渗漏检测成果图。
[0019]图中：1、止水帷幕；2、钻孔；3、仪器主机；4、供电电极A；5、回路电极B(∞)；6、观测电极。
具体实施方式
[0020]以下结合附图并通过实施例对本技术作进一步说明。
[0021]如图1
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2所示，一种用于基坑止水帷幕渗漏检测装置，该装置包括止水帷幕 1、钻孔2、仪器主机3、供电电极A4、回路电极B∞5和观测电极6；钻孔2 布设在止水帷幕1内部或外部适当位置，钻孔2的深度要求达到止水帷幕1底部，供电电极A4位于钻孔2中，回路电极B∞5位于止水帷幕外部距离钻孔2 大于5倍待检测帷幕长度的适当位置，观测电极6位于止水帷幕1内侧3m范围内且沿止水帷幕1布设。
[0022]本技术设计的一种用于基坑止水帷幕渗漏检测装置，其具体实施过程如下：在基坑内部或外部适当位置布设钻孔2，钻孔2要求打到基坑底板深度，并测量钻孔2距止水帷幕1的距离；在钻孔2的底部布设供电电极A4，在距离钻孔大于5倍待检测帷幕长度的适当位置布设回路电极B∞5；在距止水帷幕1 的3m范围内沿帷幕布设电位梯度观测装置MN，分别观测平行止水帷幕方向和垂直止水帷幕方向上的电位梯度变化，并做好记录；保持回路电极B∞5的位置不变，将供电电极A4依次从孔底移动到孔口，并分别进行电位梯度观测，直至完成整个基坑的止水帷幕检测工作；对观测数据进行处理、分析，即可确定止水帷幕发生渗漏的位置和规模。
[0023]利用本技术中的方法及装置对北京某基坑水泥土搅拌墙止水帷幕进行检测，检测效果见图3，可见，在南侧墙桩号
‑
1m附近止水帷幕存在渗漏，该结果与钻探结果一致。
本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于基坑止水帷幕渗漏检测装置，其特征在于：包括止水帷幕（1）、钻孔（2）、仪器主机（3）、供电电极A（4）、回路电极B∞（5）和观测电极（6）；钻孔（2）布设在止水帷幕（1）内侧或外侧，钻孔（2）的深度与止水帷幕（1）的高度相等；供电电极A（4）位于钻孔（2）中，回路电极B∞（5）位于止水帷幕（1）的外部；观测电极（6）位于止水帷幕（1）的内侧且沿止水帷幕（1）的周向进行布设；供电电极A（4）、回路电极B∞（5）和观测电极（6）均与仪器主机（3）连接。2.根据权利要求1所述的一种用于基坑止水帷幕渗漏检测装置，其特征在于：止水帷幕为水泥土...
【专利技术属性】
技术研发人员：马龙，张辉，刘国，贾辉，白朝旭，高宏伟，孙玉辉，赵翔，
申请(专利权)人：北京市勘察设计研究院有限公司，
类型：新型
国别省市：
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