聚焦式原子力显微镜制造技术

技术编号:29286543 阅读:43 留言:0更新日期:2021-07-16 23:59
本发明专利技术公开一种聚焦式原子力显微镜,该显微镜包含有一光发射器、一聚光透镜、一检测件、及一光检测装置。光发射器能朝向聚光透镜发出一光线,以使光线穿过聚光透镜后聚焦于一聚焦位置。在光线穿过聚光透镜后于检测件反射,而后能被光检测装置接收。检测件能检测一待测物的表面轮廓,并且光检测装置能在接收光线后产生相对应的电流值,进而使聚焦式原子力显微镜能呈现待测物的表面轮廓。能呈现待测物的表面轮廓。能呈现待测物的表面轮廓。

【技术实现步骤摘要】
聚焦式原子力显微镜


[0001]本专利技术涉及一种原子力显微镜,尤其涉及一种聚焦式原子力显微镜。

技术介绍

[0002]随着产业的蓬勃发展,所有制程技术皆必须得以提升,因此,对于制成前端或产线后端的检测变得格外重要。基于上述,综多复合型或轻量型的高阶量测仪器便依序诞生,原子力显微镜便是其一。原子力显微镜能检测待测物的表面,以使相关人员能清楚地了解待测物的表面轮廓。
[0003]一般而言,现有的原子力显微镜通常包含有一光发射器、一探针、及两象限以上的一光检测器。光发射器发射光线至进行分析中的探针,探针反射上述光线至两象限以上的光检测器,并且通过分析上述光线照射于两象限以上的光检测器的位置以得到探针的检测结果。
[0004]然而,为能清楚地得到探针的检测结果,探针与光传感器必须间隔有一定的距离,进而使现有的原子力显微镜(尤其是光杠杆式电子显微镜)的体积无法被缩小。并且,由于现有的原子力显微镜的体积较大,光线的光路所涵盖的空间较大而使光路容易受环境影响。更进一步地,上述两象限的光传感器通过计算上述光线的位移量以得到探针的检测结果,由于本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种聚焦式原子力显微镜,其特征在于,所述聚焦式原子力显微镜包括:一光发射器与一聚光透镜,所述光发射器能朝向所述聚光透镜发出一光线,以使所述光线穿过所述聚光透镜后聚焦于一聚焦位置;一检测件,包括:一悬臂梁,具有一自由端部;其中,所述自由端部包含有位于相反侧的一顶面与一底面;及一探针,形成于所述自由端部的所述底面;其中,所述探针能以所述悬臂梁为支臂,而自一初始位置以一预设摆动幅度进行往复地摆动;其中,当所述探针位于所述初始位置时,所述自由端部的所述顶面位于所述聚焦位置,以使自所述光发射器发出且穿过所述聚光透镜的所述光线能于所述顶面反射、并定义有一反射路径;以及一光检测装置,设置于所述反射路径上并能接收自所述顶面反射的至少部分所述光线;其中,当所述探针位于所述初始位置时,所述光检测装置能产生一最大电流值并定义为一基准电流值;当所述探针以所述预设摆动幅度往复地摆动时,所述光检测装置能产生的电流值是在所述基准电流值与一预设电流值之间往复地变化,并且所述预设电流值小于所述基准电流值。2.依据权利要求1所述的聚焦式原子力显微镜,其特征在于,所述光发射器进一步限定为一镭射二极管,并且所述聚光透镜限定为一凸透镜。3.依据权利要求2所述的聚焦式原子力显微镜,其特征在于,所述聚焦式原子力显微镜进一步包括有位于所述光发射器与所述聚光透镜之间的一分光镜,并且自所述光发射器发出的所述光线能依序穿过所述分光镜与所述聚光透镜而于所述顶面反射,以使上述被所述顶面反射的所述光线穿过所述聚光透镜而被所述分光镜反射至所述光检测装置。4.依据权利要求1所述的聚焦式原子力显微...

【专利技术属性】
技术研发人员:郑仲翔王伟珉廖国富
申请(专利权)人:精浚科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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