一种提高晶圆匀胶显影均匀性的吸附装置制造方法及图纸

技术编号:29179138 阅读:10 留言:0更新日期:2021-07-06 23:46
本实用新型专利技术公开了一种提高晶圆匀胶显影均匀性的吸附装置,包括安装壳,所述安装壳的内底部开设有电机槽,所述电机槽内固定安装有电机,所述电机的转动端固定连接有安装块,所述安装块内固定安装有微型真空泵,所述安装块的顶部固定安装有吸附板,所述安装块与吸附板通过真空连接管连通,所述吸附板的顶部套接有盖板,所述安装壳一侧的顶部固定安装有转轴座,所述转轴座的外侧转动连接有密封板,所述密封板的底部固定安装有密封环。本实用新型专利技术涉及吸附装置技术领域,解决了现有吸附装置在对晶片进行吸附时,大多是在真空室将晶片与吸附板吸附,再对晶片进行匀胶,会使匀胶效率变慢的问题,从而提高在对晶圆进行吸附时的效率。从而提高在对晶圆进行吸附时的效率。从而提高在对晶圆进行吸附时的效率。

【技术实现步骤摘要】
一种提高晶圆匀胶显影均匀性的吸附装置


[0001]本技术涉及吸附装置
,尤其涉及一种提高晶圆匀胶显影均匀性的吸附装置。

技术介绍

[0002]匀胶,光刻工艺的基本步骤之一,也被称为旋转涂胶或甩胶,成底膜处理后,晶圆要立即采用旋转涂胶的方法涂上液相光刻胶材;
[0003]但是现有吸附装置在对晶片进行吸附时,大多是在真空室将晶片与吸附板吸附,再对晶片进行匀胶,使匀胶效率缓慢。
[0004]为此,我们提出一种提高晶圆匀胶显影均匀性的吸附装置解决上述问题。

技术实现思路

[0005]本技术的目的是为了解决现有技术中存在的问题,而提出的一种提高晶圆匀胶显影均匀性的吸附装置。
[0006]为了实现上述目的,本技术采用了如下技术方案:
[0007]一种提高晶圆匀胶显影均匀性的吸附装置,包括安装壳,所述安装壳的内底部开设有电机槽,所述电机槽内固定安装有电机,所述电机的转动端固定连接有安装块,所述安装块内固定安装有微型真空泵,所述安装块的顶部固定安装有吸附板,所述安装块与吸附板通过真空连接管连通,所述吸附板的顶部套接有盖板,所述安装壳一侧的顶部固定安装有转轴座,所述转轴座的外侧转动连接有密封板,所述密封板的底部固定安装有密封环,所述密封环的外侧与安装壳的内侧壁相抵。
[0008]优选地,所述微型真空泵的顶部固定连接有出风口,且所述出风口的一端固定安装有防堵弯管。
[0009]优选地,所述安装壳的内底部固定安装有滴胶圆台,所述滴胶圆台的中部开设有通孔,且所述通孔的内侧壁与电机的外侧相抵。
[0010]优选地,所述安装壳的内底部等距固定安装有多个滴胶收集管。
[0011]优选地,多个所述滴胶收集管的另一端通过五通连接管连接,所述五通连接管的底部固定安装有滴胶回收管。
[0012]优选地,所述密封板底部的中间位置开设有观察口,所述观察口顶部固定安装有透明玻璃。
[0013]与现有技术相比,本技术的有益效果是:
[0014]1、本使用新型中,由于吸附板底部安装有小型真空泵,使其可以在空腔内实现对晶圆板的吸附和拆装,使其效率大幅增加,并且由于吸附板的顶部设置有吸附压块,也可使内置通孔的晶圆进行匀胶,并且由于匀胶装置的底部安装有滴胶圆台,使得晶片在转动时被惯性甩出的滴胶可通过地胶圆台进入滴胶回收管内,使其可以回收再利用。
[0015]2、本技术中,由于吸附板的顶部设置有盖板,使其可以适用于大小不同型号
不同的晶圆,使吸附装置的适用性更广,并且由于安装壳顶部旋转有密封板,且密封板的底部安装有密封环,使吸附装置在不使用时内部处于密封状态,使其内部细菌不易存活。
附图说明
[0016]图1为本技术提出的一种提高晶圆匀胶显影均匀性的吸附装置的结构示意图;
[0017]图2为本技术提出的一种提高晶圆匀胶显影均匀性的吸附装置的剖面结构示意图;
[0018]图3为本技术提出的一种提高晶圆匀胶显影均匀性的吸附装置中的部分结构示意图;
[0019]图4为图2中A处的放大图。
[0020]图中:1、安装壳;2、电机槽;3、电机;4、安装块;5、微型真空泵;6、吸附板;7、真空连接管;8、盖板;9、转轴座;10、密封板;11、密封环;12、滴胶圆台;13、滴胶收集管;14、五通连接管;15、滴胶回收管;16、防堵弯管;17、透明玻璃。
具体实施方式
[0021]下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。
[0022]在本技术的描述中,需要理解的是,术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本技术的限制。
[0023]参照图1

4,包括安装壳1,安装壳1的内底部开设有电机槽2,电机槽2内固定安装有电机3,电机3的型号为80KTYZ,电机3的转动端固定连接有安装块4,安装块4内固定安装有微型真空泵5,安装块4的顶部固定安装有吸附板6,安装块4与吸附板6通过真空连接管7连通,吸附板6的顶部套接有盖板8,安装壳1一侧的顶部固定安装有转轴座9,转轴座9的外侧转动连接有密封板10,密封板10的底部固定安装有密封环11,密封环11的外侧与安装壳1的内侧壁相抵,在需要对晶圆匀胶时,先通过操作人员将密封板10选装打开,再将盖板8从吸附板6的顶部取出,操作人员即可根据晶圆大小以及型号的不同放置晶圆,较大的晶圆可直接放置在吸附板6的顶部,并使微型真空泵5通电,使微型真空泵5通过真空连接管7将吸附板6和晶圆接触部位的空气吸出,使内部呈负压状态即可将晶圆吸附,较大的中间位置有通孔的晶圆可通过盖板8,插入晶圆的通孔,再启动微型真空泵5,使微型真空泵5通过真空连接管7将吸附板6与晶圆接触部位,以及吸附板6与盖板8之间的空气吸出,造成负压状态,使晶圆与吸附板6吸附固定,此时,工作人员可将滴胶滴在晶圆表面,再启动电机3使电机3带动安装块4和吸附板6旋转,从而使吸附在吸附板6顶部的晶圆旋转,由于型号为80KTYZ的电机3自带减速器,使电机3的转速不会过高而造成滴胶向四周飞溅,由于惯性的影响,晶圆表面的滴胶会缓慢向晶圆四周移动,并包覆晶圆表面。
[0024]其中,微型真空泵5的顶部固定连接有出风口,且出风口的一端固定安装有防堵弯
管16,在晶圆表面滴胶将晶圆顶面包覆后多余的滴胶会由惯性影响滴落,由于防堵弯管16的出口向下,可保证滴落下来的滴胶不会包覆防堵弯管16的出口。
[0025]其中,安装壳1的内底部固定安装有滴胶圆台12,滴胶圆台12的中部开设有通孔,且通孔的内侧壁与电机3的外侧相抵,由于滴胶圆台12的安装,可使滴落的滴胶通过滴胶圆台12滑落至安装壳1的底部,并且由于滴胶圆台12与电机3相抵,保证了滴胶不会滴落至电机3上,使电机3发生损坏。
[0026]其中,安装壳1的内底部等距固定安装有多个滴胶收集管13,通过滴胶收集管13可将从滴胶圆台12上滑落至安装壳1底部的滴胶进行收集,并输送至滴胶收集管13的底部。
[0027]其中,多个滴胶收集管13的另一端通过五通连接管14连接,五通连接管14的底部固定安装有滴胶回收管15,通过五通连接管14与多根滴胶收集管13连接,可使多根滴胶收集管13内收集的滴胶通过五通连接管14汇集,并且可通过滴胶回收管15将收集的滴胶输送至其他位置。
[0028]其中,密封板10底部的中间位置开设有观察口,观察口顶部固定安装有透明玻璃17,在电机3带动安装块4和吸附板6转动时,可能会出现滴胶飞溅的情况,通过透明玻璃17可防止观察口有滴胶飞溅,并且可对内部的匀胶情本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种提高晶圆匀胶显影均匀性的吸附装置,包括安装壳(1),其特征在于,所述安装壳(1)的内底部开设有电机槽(2),所述电机槽(2)内固定安装有电机(3),所述电机(3)的转动端固定连接有安装块(4),所述安装块(4)内固定安装有微型真空泵(5),所述安装块(4)的顶部固定安装有吸附板(6),所述安装块(4)与吸附板(6)通过真空连接管(7)连通,所述吸附板(6)的顶部套接有盖板(8),所述安装壳(1)一侧的顶部固定安装有转轴座(9),所述转轴座(9)的外侧转动连接有密封板(10),所述密封板(10)的底部固定安装有密封环(11),所述密封环(11)的外侧与安装壳(1)的内侧壁相抵。2.根据权利要求1所述的一种提高晶圆匀胶显影均匀性的吸附装置,其特征在于,所述微型真空泵(5)的顶部固定连接有出风口,且所述出风口的一端固定安...

【专利技术属性】
技术研发人员:全金花全金星张军区
申请(专利权)人:无锡亚迈微电子有限公司
类型:新型
国别省市:

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