【技术实现步骤摘要】
一种狭缝挤出涂布头的清洁装置及清洁方法
本专利技术属于涂布机的
,具体而言,涉及一种狭缝挤出涂布头的清洁装置及清洁方法。
技术介绍
通常在半导体行装置及平板显示器(FPD:flatpaneldisplay)的制造工艺中,为了使被处理基板(玻璃基本)上的执行特定功能的薄膜,例如氧化薄膜、金属薄膜、半导体薄膜等以所需的形状形成的图案(patterning)而执行在所述薄膜上涂布与光源产生反应的感光液(sensitivematerial)的工序.。狭缝式涂布是一种在一定压力下,将涂液沿着模具缝隙压出并转移到移动基材上的一种涂布技术,它以其涂布速度快、涂膜均匀性好、涂布窗口宽等特点,代表了湿法涂布未来发展方向。狭缝挤出式涂布机就是使用在面板的涂布工艺中,将涂布液均匀地涂布在玻璃面板上,涂布头作为此设备的重要部分,决定着涂布良率。但是涂布液具有高粘度,腐蚀性等特点,在每次涂布后涂布液会残留在涂布头或滴落在机台上,造成涂布头堵塞,进而影响涂布的精度并造成机台污染。因此,目前采用的方式人工清洁涂布头与自动刮刀 ...
【技术保护点】
1.一种狭缝挤出涂布头的清洁装置,其特征在于,其包括:/n设于涂布头的下方且与涂布头相适配的涂布喷嘴清洁机构,所述涂布喷嘴清洁机构配设有驱动其沿涂布头长度方向作往复运动的驱动机构;/n其中,所述涂布喷嘴清洁机构包括清洁刮刀组件和清洁喷头组件,所述清洁刮刀组件与涂布头的涂布喷嘴相适配,且通过清洁刮刀组件与清洁喷头组件的共同配合以对涂布头的涂布喷嘴进行清洁。/n
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
1.一种狭缝挤出涂布头的清洁装置,其特征在于,其包括:
设于涂布头的下方且与涂布头相适配的涂布喷嘴清洁机构,所述涂布喷嘴清洁机构配设有驱动其沿涂布头长度方向作往复运动的驱动机构;
其中,所述涂布喷嘴清洁机构包括清洁刮刀组件和清洁喷头组件,所述清洁刮刀组件与涂布头的涂布喷嘴相适配,且通过清洁刮刀组件与清洁喷头组件的共同配合以对涂布头的涂布喷嘴进行清洁。
2.根据权利要求1所述的狭缝挤出涂布头的清洁装置,其特征在于,还包括设于涂布喷嘴清洁机构下方的废液收集机构,该废液收集机构包括:位于涂布喷嘴清洁机构下方的废液收集盒,所述废液收集盒连接有至少两个驱动其运动的伸缩气缸;
所述废液收集盒的两侧设有导向轴,导向轴上套有直线轴承,直线轴承装配于涂布喷嘴清洁机构上。
3.根据权利要求2所述的狭缝挤出涂布头的清洁装置,其特征在于,所述废液收集盒的下方设有接头,接头连接有废液排放管,废液排放管的另一端连接有废液桶。
4.根据权利要求2所述的狭缝挤出涂布头的清洁装置,其特征在于,还包括:
设于涂布头下方的涂布头浸泡机构,所述涂布头浸泡机构与涂布头的涂布喷嘴相适配,且通过涂布头浸泡机构对闲置状态下涂布头的涂布喷嘴进行浸泡。
5.根据权利要求4所述的狭缝挤出涂布头的清洁装置,其特征在于,所述涂布头浸泡机构包括:
装于涂布头上的安装底板;
设于安装底板上的驱动气缸,所述驱动气缸的活塞端连接有浸泡盒,浸泡盒上设有至少两个导向轴,各导向轴通过直线轴承装于安装底板上;
其中,所述浸泡盒连接有浸泡液供液管,且浸泡液供液管上设有液控阀。
6.根据权利要求1所述的狭缝挤出涂布头的清洁装置,其特征在于,所述涂布喷嘴清洁机构还包括:
安装横梁,所述安装横梁固定连接于涂布头上;
设于安装横梁上的伺服模组,所述伺服模组上安装有安装座,安装座上设有支撑座,支撑座上连接有电缆保护链,电缆保护链的另一端固定于安装横梁;
其中,所述安装座上装有所述清洁刮刀组件和清洁喷头组件。
7.根据权利要求6所述的狭缝挤出涂布头的清洁装置,其特征在于,所述清洁刮刀组件包括:
外壳,所述外壳通过限位安装块装于安装座上;
设于外壳内的刮刀安装座,所述刮刀安装座的一端装有清洁刮刀,另一端通过滚珠轴承安装有浮动底板,浮动底板的端部连接有导向轴;
技术研发人员:全炯俊,黄宇,阙磊,李江山,张开东,
申请(专利权)人:成都拓米电子装备制造有限公司,
类型:发明
国别省市:四川;51
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