差压计制造技术

技术编号:29130185 阅读:27 留言:0更新日期:2021-07-02 22:25
本发明专利技术抑制差压计的S/N比的降低。本发明专利技术的差压计具备基台(101)、配置在基台(101)的上表面的第一部件(102)、配置在第一部件(102)上的第二部件(103)、以及配置在第一部件(101)与第二部件(103)之间的膜片层(104)。在形成于第二部件(103)的第二压力室(106)中,在受压部(107)侧的第一区域(121)与第一贯通孔(109)侧的第二区域(122)之间,与第二压力室(106)的内壁之间具备间隙地设置有壁(108)。

【技术实现步骤摘要】
差压计
本专利技术涉及差压计。
技术介绍
差压计在形成有压电电阻元件的膜片(membrane)的一个面和另一个面上分别设置第一小室和第二小室,测定从第一小室和第二小室这两个方向受到的压力差(参照专利文献1)。第一小室、第二小室和与这些小室中的每一个连接的导管中填充有油等压力传递物质,压力经由压力传递物质作用在膜片上。[现有技术文献][专利文献]专利文献1:日本专利第6130405号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题但是,在上述以往的差压计中,由于没有考虑静压的不良影响,因此存在S/N比降低的问题。在以往的差压计中,与膜片的面平行的方向上的第一小室的面积与第二小室的面积不同。在这种情况下,由于导入到第一小室的压力的作用面积与导入到第二小室的压力的作用面积的差大,所以在静压大的情况下,膜片会变形。这样,即使在不应该有差压的状态下,膜片也会变形,这会成为噪声,S/N比降低。本专利技术是为了解决上述问题而完成的,其目的在于抑制差压计的S/N比的降低。用于解决问题的技术手段本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种差压计,其特征在于,具备:/n基台;/n第一部件,其配置在所述基台的上表面,形成第一压力室;/n第二部件,其配置在所述第一部件上,形成俯视下包含形成有所述第一压力室的区域且比所述第一压力室大的第二压力室;/n膜片层,其配置在所述第一部件与所述第二部件之间,在俯视下在所述第一压力室的区域具有受压部,并形成第一贯通孔,所述第一贯通孔在所述第二压力室的所述受压部以外的区域配置一端侧的开口;以及/n壁,其在所述第二压力室的、所述受压部侧的第一区域与所述第一贯通孔侧的第二区域之间,与所述第二压力室的内壁之间具备间隙地配置,/n所述第一压力室贯通所述第一部件而形成,/n所述第二压力室在所述膜片层侧...

【技术特征摘要】
20191212 JP 2019-2242631.一种差压计,其特征在于,具备:
基台;
第一部件,其配置在所述基台的上表面,形成第一压力室;
第二部件,其配置在所述第一部件上,形成俯视下包含形成有所述第一压力室的区域且比所述第一压力室大的第二压力室;
膜片层,其配置在所述第一部件与所述第二部件之间,在俯视下在所述第一压力室的区域具有受压部,并形成第一贯通孔,所述第一贯通孔在所述第二压力室的所述受压部以外的区域配置一端侧的开口;以及
壁,其在所述第二压力室的、所述受压部侧的第一区域与所述第一贯通孔侧的第二区域之间,与所述第二压力室的内壁之间具备间隙地配置,
所述第一压力室贯通所述第一部件而形成,
所述第二压力室在所述膜片层侧具有开口...

【专利技术属性】
技术研发人员:东条博史德田智久木田希
申请(专利权)人:阿自倍尔株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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