【技术实现步骤摘要】
3Y-TZP陶瓷膏体制备方法及全口种植固定修复体的制备工艺
:本专利技术属于义齿制作
,具体涉及一种应用于立体光刻的3Y-TZP(氧化钇稳定氧化锆)陶瓷膏体的制备方法及种植修复体上部结构的制作工艺。
技术介绍
:氧化锆因具有良好的力学性能、化学性能、美学性能和生物相容性,被越来越多的应用于种植修复体上部结构的加工制作。目前氧化锆种植修复体上部结构的加工方式主要是CAD/CAM切削加工种植修复体上部结构支架,再通过表面长石质饰面瓷进行饰面的方式,形成具有仿真颜色、外形及功能的种植修复体上部结构。目前,该种技术存在较多问题:1、从预制的陶瓷块中切削获得需要的外形,这种技术本身的原材料利用率低、成本高;2、切削粉尘难以再利用,容易造成环境污染,严重影响加工人员身体健康;3、受车针影响,细节加工能力不足,表面精度差;4、车针损耗严重,变相增加成本;5、切削具有复杂外形的种植修复体上部结构支架时,可能因为车针角度限制导致无法得到预设的种植修复体上部结构支架,最终导致种植修复体上部结构成品的外形与设计外形有差;6、切削过程中,可能 ...
【技术保护点】
1.一种应用于立体光刻的3Y-TZP陶瓷膏体的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:/nS1:分别称取一定量的3Y-TZP陶瓷粉体、分散剂、消泡剂和流平剂,选取的所述3Y-TZP陶瓷粉体为粒径D50在400-600nm的类球形或者球形粉末;/nS2:将步骤S1中的所述3Y-TZP陶瓷粉体、所述分散剂、所述消泡剂和所述流平剂分别加入到光敏树脂预混液中,其中,先将分散剂加入到光敏树脂材料中,混合均匀,然后逐步加入3Y-TZP陶瓷粉体,具体的加入量为,第一次加入3Y-TZP陶瓷粉体总量的50%,混合均匀;第二次加入3Y-TZP陶瓷粉体总量的20%,混合均匀;第三次加入3Y-TZP陶 ...
【技术特征摘要】
1.一种应用于立体光刻的3Y-TZP陶瓷膏体的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1:分别称取一定量的3Y-TZP陶瓷粉体、分散剂、消泡剂和流平剂,选取的所述3Y-TZP陶瓷粉体为粒径D50在400-600nm的类球形或者球形粉末;
S2:将步骤S1中的所述3Y-TZP陶瓷粉体、所述分散剂、所述消泡剂和所述流平剂分别加入到光敏树脂预混液中,其中,先将分散剂加入到光敏树脂材料中,混合均匀,然后逐步加入3Y-TZP陶瓷粉体,具体的加入量为,第一次加入3Y-TZP陶瓷粉体总量的50%,混合均匀;第二次加入3Y-TZP陶瓷粉体总量的20%,混合均匀;第三次加入3Y-TZP陶瓷粉体总量的15%,混合均匀;混合均匀之后,分别加入消泡剂和流平剂,最后加入剩余的3Y-TZP陶瓷粉体,混合均匀,且每一次加完3Y-TZP陶瓷粉体之后,在1500转/min高速均质机中进行球磨100秒,获得3Y-TZP陶瓷浆料;
S3:向步骤S2中制备的3Y-TZP陶瓷浆料中加入光引发剂,并再次球磨;
S4:向步骤S3再次球磨后的3Y-TZP陶瓷浆料中加入流变助剂,混合均匀,制得3Y-TZP陶瓷膏体。
2.根据权利要求1所述的3Y-TZP陶瓷膏体的制备方法,其特征在于,所述3Y-TZP陶瓷粉体占所述光敏树脂预混液的体积百分比为48%-62%。
3.根据权利要求1所述的3Y-TZP陶瓷膏体的制备方法,其特征在于,制得的所述3Y-TZP陶瓷膏体中包括3Y-TZP陶瓷粉体83-90质量份,光敏树脂预混液10-17质量份;其中,消泡剂的质量为光敏树脂预混液质量的0.01%-0.2%,流平剂的质量为光敏树脂预混液质量的0.01%-10%,分散剂的质量是3Y-TZP陶瓷粉体质量的0.01%-10%;所述光引发剂的加入量为所述光敏树脂预混液质量的0.1%-5%;所述流变助剂的添加量为步骤S2中3Y-TZP陶瓷浆料质量的0.1%-10%。
4.根据权利要求1所述的3Y-TZP陶瓷膏体的制备方法,其特征在于,光敏树脂材料包括1,6-己二醇二丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、丙烯酰吗啉、芳香族聚氨酯丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、乙氧化季戊四醇四丙烯酸酯、环三羟甲基丙烷甲缩醛丙烯酸酯、丙氧化新戊二醇二丙烯酸酯、乙氧化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二甲基丙烯酰胺中的一种或多种。
5.一种利用立体光刻3D打印全口种植固定修复体的制作工艺,其特征在于,包括如下具体步骤:
Sa:获取患者...
【专利技术属性】
技术研发人员:不公告发明人,
申请(专利权)人:江苏京科智镕新材料科技有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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