用于调整遮罩的布局图案的方法技术

一种用于调整遮罩的布局图案的方法，包括基于遮罩空白板的多个缺陷的讯息来位移或旋转整个布局图案，以避免当在遮罩空白板上产生作为遮罩的布局图案时，多个缺陷中的第一缺陷的影响。此方法包括基于多个缺陷中的其余的第二缺陷的讯息，在第一位置处调整遮罩的布局图案，以在将布局图案投影到晶片上时减小第二缺陷的影响。此方法还包括基于与第二缺陷不同的多个缺陷中的其余的第三缺陷的讯息，在第二位置处调整遮罩的布局图案，以在将布局图案投影到晶片上时移动第三缺陷的影响位置。到晶片上时移动第三缺陷的影响位置。到晶片上时移动第三缺陷的影响位置。

【技术实现步骤摘要】
用于调整遮罩的布局图案的方法


[0001]本揭露涉及用于调整遮罩的布局图案的方法和控制系统。

技术介绍

[0002]在集成电路(integrated circuit,IC)设计期间，针对集成电路制程的不同步骤，会产生多个集成电路的布局图案。布局图案包括与要在晶片上制造的结构相对应的几何形状。可以透过将遮罩投影(例如，成像)在晶片上来产生布局图案。此遮罩还包括在干净的(无图案)半导体基板或遮罩空白板(mask
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blank)上产生的布局图案。因此，遮罩包括集成电路的布局图案或在遮罩空白板上创建的集成电路的一部分的布局图案。微影制程将遮罩的布局图案转移到晶片，使得蚀刻、布植或其他步骤仅应用于晶片的预定区域。
[0003]在极紫外(extreme ultraviolet,EUV)微影制程期间使用反射式遮罩(reflective mask)以形成具有较小特征尺寸的集成电路。反射式遮罩易受制造/生产缺陷(例如，氧化)的影响，并且容易损坏。因此，在遮罩空白板上可能会存在许多缺陷，这些缺陷会影响(例如，损坏)在遮罩空白板上产生作为图本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于调整遮罩的布局图案的方法，其特征在于，包含：基于一遮罩空白板的多个缺陷的讯息来移动或旋转一整个布局图案，以避免当在该遮罩空白板上产生作为一遮罩的一布局图案时，所述多个缺陷的一个或多个第一缺陷中的一个的影响，其中将该遮罩投影在一晶片上以在该晶片上产生该布局图案；基于所述多个缺陷的其余缺陷的一第二...

【专利技术属性】
技术研发人员：张世明，梁伟轩，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：