【技术实现步骤摘要】
碳化硅反射镜改性加工与检测控制系统及方法
[0001]本专利技术涉及碳化硅反射镜改性加工与检测
，具体的来讲是一种碳化硅反射镜改性加工与检测控制系统及方法。
技术介绍
[0002]碳化硅材料刚度大、密度适中，同样质量的碳化硅镜面不易变形；且碳化硅材料的热膨胀系数低、热导率高，具有优异的机械性能和热物理性能，且比刚度比玻璃材料好而热变形系数最小，具有非常好的抗辐照性和抗热振性，因此国内外研究机构均将碳化硅作为空间相机反射镜镜体的首选材料。
[0003]但是碳化硅属于陶瓷材料，表面致密程度远不如玻璃材料，并且加工性能差。因此，要获得高质量光学表面的碳化硅反射镜，就必须对碳化硅表面进行改性。为了保证碳化硅反射镜改性后的精度，需要在碳化硅反射镜加工的每一个步骤使用不同精度不同方法的精度检测，整个加工程序复杂，加工周期长。
[0004]本专利技术针对碳化硅改性的加工与检测问题，提出了一种碳化硅反射镜改性加工与检测控制系统及方法，最大程度地使加工检测碳化硅的步骤程序化，非专家化，缩短了加工周期，且保证了加工后的碳化...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.碳化硅反射镜改性加工与检测控制系统，包括中央处理器，其特征在于，还包括有：加工单元：包括数控模块，所述数控模块通过控制时间控制器、压力传感器、直流伺服电机和位置反馈模块以控制真空自励磨头对碳化硅反射镜打磨的时间、深度和位置，所述数控模块还控制检测传感器，通过所述检测传感器反馈的信息计算磨损情况；精度检测单元：所述精度检测模块分为面型检测模块和零位补偿干涉检测模块，所述面型检测模块检测的对象是处于研磨阶段的碳化硅反射镜，采用边缘定位的方法，通过调用轮廓仪扫描出碳化硅反射镜的绝对轮廓和面型信息并计算误差；所述零位补偿干涉检测模块检测的对象是改性后的碳化硅反射镜，通过补偿器的光线反射检测表面偏离信息；所述精度检测单元将检测信息反馈给中央处理器，当精度不满足阈值时，重复所述加工单元的加工作业，当精度满足阈值后进入下一阶段；抛光单元：所述抛光单元包括抛光模、抛光头和抛光液喷嘴，所述中央处理器启动所述抛光单元，使碳化硅反射镜在所述抛光模上大范围抛光，所述抛光头高速旋转对细小的部位进行局部抛光，所述抛光液喷嘴喷射抛光液至碳化硅反射镜上，所述抛光单位包括对碳化硅反射镜的基底的粗抛光，采用的是半号沥青抛光模和抛光头以及金刚石微粉配置的抛光液，还包括对改性后的碳化硅反射镜表面的精抛光，采用的是半柔性抛光革材料的抛光模、抛光头、微米级的CeO2抛光液和纳米级的SiO2抛光液；面型改进单元：包括驱动装置，所述驱动装置驱动气体控制模块的放气阀和通气阀的开闭以控制放置碳化硅反射镜的腔室内的气压状态，所述面型改进单元还包括磁控管、扫描模块和温度传感器，所述磁控管与所述扫描模块相连，所述扫描模块对碳化硅反射镜进行扫描后启动所述磁控管，所述磁控管可以发出长条形磁控溅射源和圆形磁控溅射源，分别磁控溅射碳化硅反射镜，给碳化硅反射镜的表面镀上一层精细的Si改性层，所述温度传感器反馈温度数值，当温度数值下降到预定值之后可以打开炉门，取出改性的碳化硅反射镜；改性的碳化硅反射镜还需经所述精度检测单元的所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：陶春，
申请(专利权)人：南京施密特光学仪器有限公司，
类型：发明
国别省市：
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