具有干涉涂层和用于改善耐磨性的多层系统的光学镜片技术方案

本发明专利技术涉及一种光学镜片，所述光学镜片包括具有前主面和后主面的基材，所述基材的至少一个主面依次涂覆有：不包括任何Ta2O5层的第一高折射率片材；第二低折射率片材；第三高折射率片材；具有大于或等于100nm的厚度的单层子层；以及包括至少一个高折射率层和至少一个低折射率层的堆叠体的多层干涉涂层。所述后主面上的在280nm与380nm之间、由在ISO 13666:1998标准中定义的函数W(λ)加权的平均反射因数R

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有干涉涂层和用于改善耐磨性的多层系统的光学镜片
[0001]本专利技术涉及一种光学制品，该光学制品包括涂覆有多层透明干涉涂层(典型地减反射涂层)的基材，具有改进的耐磨性和良好的耐热性，特别是涉及一种眼科镜片以及一种制造这种光学制品的方法。
[0002]对光学基材的至少一个主表面涂覆若干涂层以便为成品制品赋予附加的或改进的光学特性或机械特性是本领域的惯常做法。这些涂层通常指定为功能涂层。
[0003]可以用于赋予多种机械特性和/或光学特性的各种涂层可以是耐冲击涂层、耐磨涂层和/或耐划伤涂层、减反射涂层和/或反射涂层、和/或防污层和/或防雾层。
[0004]在文献中可以找到改进对环境引起的划伤敏感的光学制品的耐磨性的不同方法。例如，比如在JP 2003
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195003和JP 2003
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294906中，已经提出了在减反射涂层的下方使用相对较厚的子层、或者增加减反射涂层的总厚度，其中描述了一种镜片，该镜片涂覆有底漆涂层、硬涂层以及7层减反射涂层，该减反射涂层包括交替的SiO2层和TiO2层，后者在离子辅助下沉积并且已知对于光降解作用是敏感的。在JP 2003
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294906中，建议控制减反射涂层的前三层的膜厚度(从基材侧算起)，并且使用针对前三层计算的较高的(SiO2层的物理厚度之和)/(TiO2层的物理厚度之和)之比。
[0005]US 8982466涉及一种光学镜片，该光学镜片具有硬涂层和多层减反射涂层，其中，由TiO2制成的高折射率层总共具有小于40nm的厚度。<br/>[0006]EP 2775341披露了一种眼镜镜片，该眼镜镜片具有硬涂层、360
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390nm厚的SiO2子层以及由SiO2、ZrO2和/或Ta2O5制成的4层干涉涂层，其中，这些层具有特定的纳米压痕硬度和压应力，并且通常通过离子辅助气相沉积来沉积。这种沉积技术增加了压应力，并且因此可能导致分层。
[0007]JP 2002
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122820描述了一种涂覆有SiO2子层的硬涂层基材，该子层的物理厚度为89
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178nm(光学厚度：在520nm处为0.25
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0.5λ)和4层减反射涂层(ZrO2/SiO2/ZrO2/SiO2)。根据本文件，通过能够使涂层厚度和各种材料层之间的应力平衡，可以达到高临界温度。然而，研究的唯一参数是子层的厚度。其厚度应使得比(SiO2层(包括子层)的物理厚度之和)/(ZrO2层的物理厚度之和)的范围是2到3。认为较高的比是不期望的，因为减反射涂层的耐久性会降低。
[0008]US 7692855披露了一种具有减反射特性和高耐热性的光学制品，该光学制品包括具有至少一个主面的基材，该至少一个主面涂覆有多层减反射涂层，其中，低折射率层的物理厚度/高折射率层的物理厚度之比一般大于2.1。
[0009]US 2008/206470涉及一种用于制造具有减反射特性或反射特性的光学制品的方法，该光学制品包括子层、子层和多层堆叠体。为了增加光学制品的耐磨性，必须在沉积步骤期间在真空室中在供应附加气体的情况下沉积子层，并且必须使子层的外露表面经受离子轰击处理，然后沉积多层堆叠体。
[0010]WO 2018/192998建议控制干涉涂层中的层的厚度，以便增加光学制品的耐磨性，即，使用大于或等于2的外部低折射率层/外部高折射率层的物理厚度之比。进一步，光学制品可以包括阻抗涂层以限制干涉条纹。典型地，在这种情况下，阻抗涂层包括按此顺序沉积
到可选地有涂层的基材上的4
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50nm厚的SiO2层、以及与子层相接触的4
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15nm厚的ZrO2或Ta2O5层。
[0011]本专利技术的目的是提供一种透明光学制品，所述透明光学制品包括带有干涉涂层的有机或无机玻璃基材、优选地是镜片、更优选地是用于眼镜的眼科镜片，具有改进的耐磨性、与基材的良好粘附性以及对热和温度变化的良好耐受性(即，临界温度高)，可替代已知的有反射或减反射涂层的光学制品。应该在不降低所述制品的比如减反射性能或反射性能等光学性能和其他机械性能的情况下获得这些特性。
[0012]本专利技术的另一个目的是提供一种制造以上限定的制品的工艺，所述工艺可以容易地集成到传统制造链中并且可以避免加热基材。
[0013]专利技术人已经发现，这些目的可以通过使用沉积在干涉涂层的厚子层下面的层的特定组合来实现。这特别允许在不降低干涉涂层的粘附特性的情况下提高光学制品的耐磨性。
[0014]与经典的干涉涂层相比，本专利技术的干涉涂层具有更高的耐磨性、更好的粘附性以及相似或改善的临界温度。
[0015]因此，本专利技术涉及一种光学镜片，所述光学镜片包括具有前主面和后主面的基材，该基材的至少一个主面依次涂覆有：
[0016]‑
(A)具有大于1.55的折射率的第一高折射率片材，所述第一高折射率片材不包括任何Ta2O5层，
[0017]‑
(B)具有1.55或更小的折射率的第二低折射率片材，所述第二低折射率片材与所述前面的片材直接接触，
[0018]‑
(C)具有大于1.55的折射率的第三高折射率片材，所述第三高折射率片材与所述前面的片材直接接触，
[0019]‑
具有大于或等于100nm的厚度的单层子层，所述单层子层与所述前面的片材(C)直接接触，
[0020]‑
多层干涉涂层，所述多层干涉涂层包括具有大于1.55的折射率的至少一个高折射率层和具有1.55或更小的折射率的至少一个低折射率层的堆叠体，以及
[0021]以及所述后主面上的在280nm与380nm之间、由在ISO 13666:1998标准中定义的函数W(λ)加权的平均反射因数R
UV
针对35
°
的入射角小于10％。
[0022]由片材(A)、(B)和(C)以及子层构成的系统在本文中被用作机械粘附系统，而干涉涂层被用作光学系统。
具体实施方式
[0023]术语“包括”(及其任何语法变化形式，例如“包括(comprises)”和“包括(comprising)”)、“具有”(及其任何语法变化形式，例如“具有(has)”和“具有(having)”)、“包含”(及其任何语法变化形式，例如“包含(contains)”和“包含(containing)”)、以及“包括”(及其任何语法变化形式，例如“包括(includes)”和“包括(including)”)都是开放式连系动词。它们用于指明其所述特征、整数、步骤或组分或群组的存在，但不排除其一种或多种其他特征、整数、步骤或组分或群组的存在或加入。因此，“包括(comprises)”、“具有(has)”、“包含(contains)”或“包括(includes)”一个或多个步骤或要素的方法或方法中的
步骤具备那一个或多个步骤或要素，但不限于仅那一个或多个步骤或要素。
[0024]除非另本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光学镜片，所述光学镜片包括具有前主面和后主面的基材，所述基材中的至少一个主面依次涂覆有：
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(A)具有大于1.55的折射率的第一高折射率片材，所述第一高折射率片材不包括任何Ta2O5层，
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(B)具有1.55或更小的折射率的第二低折射率片材，所述第二低折射率片材与所述前面的片材直接接触，
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(C)具有大于1.55的折射率的第三高折射率片材，所述第三高折射率片材与所述前面的片材直接接触，
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具有大于或等于100nm的厚度的单层子层，所述单层子层与所述前面的片材(C)直接接触，
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多层干涉涂层，所述多层干涉涂层包括具有大于1.55的折射率的至少一个高折射率层和具有1.55或更小的折射率的至少一个低折射率层的堆叠体，以及所述后主面上的在280nm与380nm之间、由在ISO 13666:1998标准中定义的函数W(λ)加权的平均反射因数R
UV
针对35
°
的入射角小于10％。2.根据权利要求1所述的光学镜片，其中，所述子层具有大于或等于120nm、优选地大于或等于130nm的厚度。3.根据权利要求1或2所述的光学镜片，其中，所述子层的沉积是在真空室中进行的，在所述沉积过程中不向所述真空室中供应补充气体。4.根据前述权利要求中任一项所述的光学镜片，其中，所述子层是SiO2基层。5.根据前述权利要求中任一项所述的光学镜片，其中，所述干涉涂层包括至少一个Ta2O5基层。6.根据前述权利要求中任一项所述的光学镜片，其中，所述干涉涂层包括至少一个导电层、优选地是SnO2基层。7.根据前述权利要求中任一项所述的光学镜片，其中，所述干涉涂层是减反射涂层。8.根据前述权利要求中任一项所述的光学镜片，其中，所述光学镜片是眼科镜片。9.根据前述权利要求中任一项所述的光学镜片，其中，具有大于1.55的折射率的所述第一高折射率片材(A)...

【专利技术属性】
技术研发人员：C，
申请(专利权)人：依视路国际公司，
类型：发明
国别省市：