一种频率综合器腔体结构制造技术

技术编号:29005551 阅读:28 留言:0更新日期:2021-06-23 10:26
本实用新型专利技术公开了一种频率综合器腔体结构,属于频率综合器技术领域,包括壳体,所述壳体内设置有隔板,所述隔板的上表面设置有第一通道腔、晶振腔、第一本振腔和第二本振腔,所述隔板的下表面设置有控制腔、第二通道腔和第三本振腔,所述第一通道腔和第二通道腔内均设置有多个通道;通过隔板和壳体配合实现设置在隔板上表面和下表面的部件的隔离,对于位于同一侧的部件,通过设置的各个腔体实现部件的隔离,避免部件之间由于工作频段、输出功率等指标的差别导致的干扰,保证频率综合器功能的稳定性。

【技术实现步骤摘要】
一种频率综合器腔体结构
本技术属于频率综合器
,涉及一种频率综合器腔体结构。
技术介绍
频率综合器是决定电子系统性能的关键设备,随着通信、数字电视、卫星定位、航空航天、雷达和电子对抗等技术的发展,对频率合成器提出了越来越高的要求。现有的频率综合器通常只设置有一路处理链路,并将处理链路的部件统一设置到一个腔体内,但是由于工作频段、输出功率等指标的差别使得部件与部件之间存在干扰,影响频率综合器的功能。
技术实现思路
本技术的目的在于:提供了一种频率综合器腔体结构,解决了现有的频率综合器通常只设置有一路处理链路,并将处理链路的部件统一设置到一个腔体内,但是由于工作频段、输出功率等指标的差别使得部件与部件之间存在干扰,影响频率综合器的功能的问题。本技术采用的技术方案如下:一种频率综合器腔体结构,包括壳体,所述壳体内设置有隔板,所述隔板的上表面设置有第一通道腔、晶振腔、第一本振腔和第二本振腔,所述隔板的下表面设置有控制腔、第二通道腔和第三本振腔,所述第一通道腔和第二通道腔内均设置有多个通道。进一步本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种频率综合器腔体结构,其特征在于:包括壳体,所述壳体内设置有隔板,所述隔板的上表面设置有第一通道腔、晶振腔、第一本振腔和第二本振腔,所述隔板的下表面设置有控制腔、第二通道腔和第三本振腔,所述第一通道腔和第二通道腔内均设置有多个通道。/n

【技术特征摘要】
1.一种频率综合器腔体结构,其特征在于:包括壳体,所述壳体内设置有隔板,所述隔板的上表面设置有第一通道腔、晶振腔、第一本振腔和第二本振腔,所述隔板的下表面设置有控制腔、第二通道腔和第三本振腔,所述第一通道腔和第二通道腔内均设置有多个通道。


2.根据权利要求1所述的一种频率综合器腔体结构,其特征在于:所述壳体的侧面设置有通信端口、电源端口和多个输出端口,所述每个输出端口对应一个通道。


3.根据权利要求1所述的一种频率综合器腔体结构,其特征在于:所述第一通道腔的通道内设置有对应的第一印制板,所述第二通道腔的通道内设置有对应的第二印制板。


4.根据权利要求3所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员:唐朝辉寇月海郑敏
申请(专利权)人:成都中科亿信科技有限公司
类型:新型
国别省市:四川;51

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