【技术实现步骤摘要】
一种大梯度相位型强光元件的可变补偿干涉检测系统与方法
本专利技术涉及自适应光学领域和光学精密测量领域,具体涉及一种大梯度相位型强光元件的可变补偿干涉检测系统与方法。
技术介绍
惯性约束聚变(InertialConfinementFusion,ICF),利用强激光直接照射在氢原子上,使之发生聚变,产生巨大的能量。在ICF“点火”过程中,激光束通过腔型靶两边的小孔时,焦斑旁瓣与靶孔边缘相互作用产生的等离子体会高速向靶孔中心膨胀,阻碍后续激光进入靶腔,造成等离子体堵口,从而导致物理实验失败。此外,为实现空间4π立体角内的均匀内爆,获得高倍的靶丸压缩比而达到聚变所需的物理条件,需要使每一路入射激光满足其远场焦斑轮廓与靶丸特定区域吻合且光强均匀两个条件。因此,为实现激光与靶物质的高效耦合,必须对激光束进行整形和匀滑,并抑制其焦斑旁瓣。相位型强光元件是ICF系统中实现光束整形与控制的关键核心元件。相位型强光元件通常根据设定的焦斑形状并结合初始波前误差采用波前相位重构来进行设计,其表面连续变化起伏的三维微结构可以对入射波前起到调制作用,引 ...
【技术保护点】
1.一种大梯度相位型强光元件的可变补偿干涉检测系统,其特征在于,包括波面干涉仪(1)、标准镜头(2)、待测大梯度相位型强光元件(3)、扩束系统(4)、SLM(5)、SLM相位控制系统(6)和平移台(7),所述波面干涉仪(1)的标准镜头(2)的光路依次经过待测大梯度相位型强光元件(3)、扩束系统(4)以及SLM(5),所述待测大梯度相位型强光元件(3)安装在平移台(7)上,所述扩束系统(4)用于实现SLM(5)口径与波面干涉仪(1)口径的匹配,所述SLM(5)的控制端与SLM相位控制系统(6)相连,所述SLM相位控制系统(6)用于控制SLM(5)产生可变的像差补偿,补偿待测大 ...
【技术特征摘要】
1.一种大梯度相位型强光元件的可变补偿干涉检测系统,其特征在于,包括波面干涉仪(1)、标准镜头(2)、待测大梯度相位型强光元件(3)、扩束系统(4)、SLM(5)、SLM相位控制系统(6)和平移台(7),所述波面干涉仪(1)的标准镜头(2)的光路依次经过待测大梯度相位型强光元件(3)、扩束系统(4)以及SLM(5),所述待测大梯度相位型强光元件(3)安装在平移台(7)上,所述扩束系统(4)用于实现SLM(5)口径与波面干涉仪(1)口径的匹配,所述SLM(5)的控制端与SLM相位控制系统(6)相连,所述SLM相位控制系统(6)用于控制SLM(5)产生可变的像差补偿,补偿待测大梯度相位型强光元件(3)的超波面干涉仪(1)量程的大梯度波前像差,所述平移台(7)用于控制补偿待测大梯度相位型强光元件(3)的横向平移,使波面干涉仪(1)逐一测量相位元件的各个子孔径。
2.根据权利要求1所述的大梯度相位型强光元件的可变补偿干涉检测系统,其特征在于,所述待测大梯度相位型强光元件(3)产生的波前梯度过大,使得对应的干涉条纹过于密集、且超出波面干涉仪(1)的动态范围。
3.根据权利要求1所述的大梯度相位型强光元件的可变补偿干涉检测系统,其特征在于:所述波面干涉仪(1)为菲索型干涉仪或泰曼-格林型干涉仪。
4.根据权利要求1所述的大梯度相位型强光元件的可变补偿干涉检测系统,其特征在于:所述SLM(5)为高分辨率反射式SLM。
5.根据权利要求4所述的大梯度相位型强光元件的可变补偿干涉检测系统,其特征在于:所述SLM(5)为振幅型、相位型或振幅相位型SLM。
6.根据权利要求1所述的大梯度相位型强光元件的可变补偿干涉检测系统,其特征在于:所述平移台(7)为二维横向平移台。
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【专利技术属性】
技术研发人员:薛帅,石峰,宋辞,铁贵鹏,田野,邓明杰,
申请(专利权)人:中国人民解放军国防科技大学,
类型:发明
国别省市:湖南;43
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