光源装置制造方法及图纸

本公开的光源装置包括：第一激光二极管；第二激光二极管；反射器(40)，其具有使来自第一激光二极管的激光的一部分反射并使该激光的一部分透过的第一反射面(45r)、使来自第二激光二极管的激光的一部分反射并使该激光的一部分透过的第二反射面(46r)、使透过了第一反射面的光出射的第一出射面(45s)、使透过了第二反射面的光出射的第二出射面(46s)；光检测器，其具有接收从第一出射面出射的第一光的第一受光元件、接收从第二出射面出射的第二光的第二受光元件。反射器具有对透过了第一反射面的光从第二出射面的出射进行抑制且对透过了第二反射面的光从第一出射面的出射进行抑制的遮光构造。由此，可高精度地监视激光的输出。

【技术实现步骤摘要】
光源装置
本公开涉及光源装置。
技术介绍
在各种用途中开发出了具备多个激光二极管的光源装置。专利文献1公开了一种光源装置，该光源装置具备激光阵列以及将从激光阵列出射的多个激光束向上方反射的立起镜(立ち上げミラー)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2011-049338号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的技术问题本公开的目的在于：提供一种能够高精度地监视激光的输出的光源装置。用于解决技术问题的手段本公开的光源装置在非限制性的、示例性的实施方式中具备：第一激光二极管；第二激光二极管；反射器，其具有反射从所述第一激光二极管出射的激光的一部分且使该激光的一部分透过的第一反射面、反射从所述第二激光二极管出射的激光的一部分且使该激光的一部分透过的第二反射面、使透过了所述第一反射面的光出射的第一出射面以及使透过了所述第二反射面的光出射的第二出射面；光检测器，其具有接收从所述第一出射面出射的第一光的第一受光元件以及接收从所述第二出射面出射的第二光的第二受光元件；基体，其直接或间接地本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光源装置，其特征在于，具备：/n第一激光二极管；/n第二激光二极管；/n反射器，其具有反射从所述第一激光二极管出射的激光的一部分且使该激光的一部分透过的第一反射面、反射从所述第二激光二极管出射的激光的一部分且使该激光的一部分透过的第二反射面、使透过了所述第一反射面的光出射的第一出射面以及使透过了所述第二反射面的光出射的第二出射面；/n光检测器，其具有接收从所述第一出射面出射的第一光的第一受光元件以及接收从所述第二出射面出射的第二光的第二受光元件；/n基体，其直接或间接地支承所述第一激光二极管、所述第二激光二极管、所述反射器及所述光检测器；/n所述反射器具有对透过了所述第一反射面的光从所...

【技术特征摘要】
20191202 JP 2019-217957;20200707 JP 2020-1169581.一种光源装置，其特征在于，具备：
第一激光二极管；
第二激光二极管；
反射器，其具有反射从所述第一激光二极管出射的激光的一部分且使该激光的一部分透过的第一反射面、反射从所述第二激光二极管出射的激光的一部分且使该激光的一部分透过的第二反射面、使透过了所述第一反射面的光出射的第一出射面以及使透过了所述第二反射面的光出射的第二出射面；
光检测器，其具有接收从所述第一出射面出射的第一光的第一受光元件以及接收从所述第二出射面出射的第二光的第二受光元件；
基体，其直接或间接地支承所述第一激光二极管、所述第二激光二极管、所述反射器及所述光检测器；
所述反射器具有对透过了所述第一反射面的光从所述第二出射面的出射进行抑制、并且对透过了所述第二反射面的光从所述第一出射面的出射进行抑制的遮光构造。


2.如权利要求1所述的光源装置，其特征在于，
所述反射器具有设置在由所述第一反射面及所述第一出射面规定的第一部分与由所述第二反射面及所述第二出射面规定的第二部分之间的遮光部。


3.如权利要求2所述的光源装置，其特征在于，
所述遮光部在所述第一部分与所述第二部分之间形成为狭缝状。


4.如权利要求2所述的光源装置，其特征在于，
所述遮光部是形成于所述反射器的上表面、所述反射器的下表面、所述第一反射面、所述第二反射面、所述第一出射面及所述第二出射面中的至少一个面的凹部。


5.如权利要求3或4所述的光源装置，其特征在于，
在所述遮光部的表面形成有遮光膜。


6.如权利要求3或4所述的光源装置，其特征在于，
所述遮光部由遮光材料填充。


7.如权利要求1至6中任一项所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：木村圭宏，宫田忠明，
申请(专利权)人：日亚化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP