【技术实现步骤摘要】
用于测量测试表面的高度图的方法
本专利技术涉及使用包括空间光调制器的多传感器设备来测量具有大的反射率变化的测试表面的高度图的方法。
技术介绍
EP2977720B1公开了用于测量测试表面的高准确度高度图的方法，其中，利用了包括预映射传感器和高分辨率传感器的多传感器光学轮廓仪。该方法包括使用预映射传感器来测量粗略高度图、将粗略高度图细分为适合于高分辨率传感器的视场的多个部分、以及通过经由高分辨率传感器的焦距范围扫描测试表面来利用高分辨率传感器测量高准确度高度图。在诸如共焦、白光干涉、焦点变化和结构照明显微术等的光学轮廓测量技术中，利用光源来对测试表面进行照明。通常，关于测量设备的信号强度来设置光源的照明强度，以实现测量设备的最佳性能。在实践中，测试表面可以在测量设备的一个视场内显示大的反射率差异。这些差异可以是测试表面包括在该视场中具有不同光学特性的不同材料、测试表面具有测试表面上的不同的角度和/或高角度和/或大角度变化、例如由诸如测试表面的台阶等的特征产生的测试表面上的阴影、以及来自测试表面上的尖锐边缘或缺陷...
【技术保护点】
1.一种用于测量测试表面的高度图的方法，所述方法使用包括预扫描传感器和高度测量传感器的多传感器设备来进行测量，所述测试表面具有变化的反射率，/n其中，所述多传感器设备还包括被配置为对所述测试表面进行照明的一个或多个光源以及空间光调制器，其中，所述空间光调制器被放置在所述一个或多个光源与所述多传感器设备的测量位置之间的光路中，以及其中，所述空间光调制器被配置为调制从所述光源中至少之一发出的光，/n其中，所述方法包括：/n-将所述测试表面放置在所述多传感器设备的所述测量位置中；/n-使用所述光源中的一个或多个来对所述测试表面进行照明；/n-使用所述预扫描传感器来测量在所述预扫描...
【技术特征摘要】
20191213 EP 19216041.41.一种用于测量测试表面的高度图的方法，所述方法使用包括预扫描传感器和高度测量传感器的多传感器设备来进行测量，所述测试表面具有变化的反射率，
其中，所述多传感器设备还包括被配置为对所述测试表面进行照明的一个或多个光源以及空间光调制器，其中，所述空间光调制器被放置在所述一个或多个光源与所述多传感器设备的测量位置之间的光路中，以及其中，所述空间光调制器被配置为调制从所述光源中至少之一发出的光，
其中，所述方法包括：
-将所述测试表面放置在所述多传感器设备的所述测量位置中；
-使用所述光源中的一个或多个来对所述测试表面进行照明；
-使用所述预扫描传感器来测量在所述预扫描传感器的视场中从所述测试表面反射的光量；
-基于所述预扫描传感器对所反射的光量的测量来确定所述预扫描传感器的视场中的所述测试表面的反射率；
-基于所述预扫描传感器的视场中的反射率的确定来确定照明强度图；
-使用所述光源中的一个或多个来对所述测试表面进行照明；
-基于所述照明强度图使用所述空间光调制器来调制所述光源中的一个或多个所发出的光以在所述测试表面上产生光的调制图案；以及
-通过所述高度测量传感器来测量所述测试表面的高度图。
2.根据权利要求1所述的用于测量高度图的方法，其中，所述预扫描传感器相比于所述高度测量传感器具有更大的视场，以及其中，所述方法还包括：
-将所述照明强度图细分为子场，所述子场各自与所述高度测量传感器的视场相对应；
-使用所述光源中的一个或多个来对所述测试表面的子场进行照明；
-基于所述照明强度图使用所述空间光调制器来调制所述光源中的一个或多个所发出的光以在所述测试表面的照明的子场上产生光的调制图案；
-通过所述高度测量传感器来测量所述照明的子场的高度图；
-针对所述测试表面的各子场重复以上三个步骤，因此获得所述测试表面的各子场的高度图；以及
-对所述子场的高度图进行拼接，以形成所述测试表面的高度图。
3.根据权利要求1或2所述的用于测量高度图的方法，其中，所述照明强度图还基于所述预扫描传感器关于接收光强度的性能数据，以及/或者其中，所述测试表面上的所述调制图案另外基于所述高度测量传感器关于接收光强度的性能数据。
4.根据权利要求1或2所述的用于测量高度图的方法，其中，所述测试表面上的所述调制图案的大小与所述高度测量传感器的测量分辨...
【专利技术属性】
技术研发人员：亨德瑞克·凯特拉尔斯，A·祖德伟格，L·雷德拉斯基，J·奎达克尔斯，
申请(专利权)人：株式会社三丰，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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