【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】四氢硼酸盐的制造装置以及四氢硼酸盐的制造方法
本公开涉及四氢硼酸盐的制造装置以及四氢硼酸盐的制造方法。
技术介绍
作为通过将硼酸盐氢化而制造四氢硼酸盐的方法，公知有在约550℃、2.3MPa的氢气氛下，使偏硼酸钠粉末与镁粉末反应2个小时左右的方法(例如，参照专利文献1)。另外，作为其他方法，公知有在约300℃、1MPa的氢气氛下，一边将粒状铝辊轧粉碎，一边使偏硼酸钠粉末与粒状铝反应1个小时左右的方法(例如，参照专利文献2)。专利文献1：日本特开2004-224684号公报专利文献2：国际公开第2015/190403号在这些专利文献所记载的技术中，需要将大容积反应容器内的气氛在高温高压下保持1个小时以上，需要从外部持续投入大量的能量。另外，在该技术中，作为消耗材料而消耗作为还原金属的镁、铝，因此在工业应用的情况下包含成本非常高的工艺。另外，由于1个批次的处理时间需要1个小时以上，因此存在生产率无法提高，不适于工业应用的问题点。这样，在四氢硼酸盐的制造领域中，从工业应用的观点考虑，现状是尚未确立令人满意的...
【技术保护点】
1.一种四氢硼酸盐的制造装置，其特征在于，具备：/n反应容器，所述反应容器在内部产生氢等离子体；/n试样台，所述试样台设置于所述反应容器内，供硼酸盐载置；以及/n氢离子遮挡部件，所述氢离子遮挡部件设置为覆盖被载置的所述硼酸盐的至少一部分。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20190319 JP 2019-0509551.一种四氢硼酸盐的制造装置，其特征在于，具备：
反应容器，所述反应容器在内部产生氢等离子体；
试样台，所述试样台设置于所述反应容器内，供硼酸盐载置；以及
氢离子遮挡部件，所述氢离子遮挡部件设置为覆盖被载置的所述硼酸盐的至少一部分。
2.根据权利要求1所述的四氢硼酸盐的制造装置，其特征在于，
所述氢离子遮挡部件为网状。
3.根据权利要求1或2所述的四氢硼酸盐的制造装置，其特征在于，
所述氢离子遮挡部件由金属形成。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的四氢硼酸盐的制造装置，其特征在于，
使用含有氢气及烃气中的至少一种的原料气体而生成所述氢等离子体。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的四氢硼酸盐的制造装置，其特征在于，
所述氢等离子体为微波等离子体或RF等离子体。
6.一种四氢硼酸盐的制造方法，其特征在于，
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