防伪结构及防伪方法技术

一种防伪结构，包括基底、光栅层和保护层，光栅层设置在基底上，保护层设置在光栅层上，光栅层上设有用于产生非对称性衍射的光栅结构。本发明专利技术的防伪结构能实现在对称入射角度的情况下，衍射光的出射位置相同、亮度不同，具备明暗差别对比效果，起到防伪功效，并且结构简单、易于批量制造，成本较低。本发明专利技术还涉及一种防伪方法。

【技术实现步骤摘要】
防伪结构及防伪方法
本专利技术涉及防伪
，特别是涉及一种防伪结构及防伪方法。
技术介绍
光与物体表面周期性纳米结构相互作用，产生的色彩被称之为结构色，构成结构色的微纳米结构通过结构设计、优化，导致可见光范围部分波段吸收、反射或透射等光学现象，从而形成五彩斑斓的颜色特性。由于构成结构色的微纳米结构具有显示度好、色彩鲜明、易于观察、不易仿制等优势，在显示、成像和防伪技术中具有重要的应用价值。目前的结构色防伪技术主要通过研究微纳米结构的角度特性和光谱特性来进行识别，例如不同观看角度观看不同颜色或者不同观看角度观看到同一颜色，即角度敏感性和角度非敏感性。但这些结构往往通过常规的矩形光栅覆盖多层膜系结构等手段，利用光学共振原理，实现能量局域。而随着科学技术发展，这些防伪技术逐渐存在不安全特性，易于被仿制。防伪技术，需要难以复制和仿制、成本合理、易于检验、安全等级高等要求。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种防伪结构及防伪方法，能实现在对称入射角度的情况下，衍射光的出射位置相同、亮度不同，具备明暗差别对比效果，起到本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防伪结构，其特征在于，包括基底、光栅层和保护层，所述光栅层设置在所述基底上，所述保护层设置在所述光栅层上，所述光栅层上设有用于产生非对称性衍射的光栅结构。/n

【技术特征摘要】
1.一种防伪结构，其特征在于，包括基底、光栅层和保护层，所述光栅层设置在所述基底上，所述保护层设置在所述光栅层上，所述光栅层上设有用于产生非对称性衍射的光栅结构。


2.如权利要求1所述的防伪结构，其特征在于，所述光栅层折射率为1.3-1.8，所述光栅结构的周期为350nm-1000nm，深度为100nm-800nm，占空比为0.2-0.8。


3.如权利要求1所述的防伪结构，其特征在于，所述光栅结构包括倾斜光栅、闪耀光栅、体光栅和正弦光栅。


4.如权利要求3所述的防伪结构，其特征在于，所述倾斜光栅的倾斜角度为10°～40°。


5.如权利要求3所述的防伪结构，其特征在于，所述闪耀光栅的闪耀角为5°～15°。


6.如权利要求1所述的防伪结构，其特征在于，所述保护层与所述光栅结构相邻的一侧包括填充凸起，所述填充凸起位于相邻所述光栅结构之间，所述填充凸起的高度大于所述光栅结构的深度。


7.如权利要求1所述的防伪结构，其特征在于，所述保护层的折射率为1.3-1.7，所述保护层的可见光波段透过率大于80％。


8.如权利要求1所述的防伪结构，其特征在于，所述保护层的材料包括二氧化钛、二氧化硅或氮化硅中的一种或几种。

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【专利技术属性】
技术研发人员：罗明辉，乔文，浦东林，李瑞彬，陈林森，
申请(专利权)人：苏州苏大维格科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32