一种二氧化硅抛光液废液处理剂、其制备方法及应用技术

本发明专利技术公开了一种二氧化硅抛光液废液处理剂、其制备方法及应用，包括如下重量百分含量的组分：无机盐1

【技术实现步骤摘要】
一种二氧化硅抛光液废液处理剂、其制备方法及应用


[0001]本专利技术涉及废液处理
，特别是涉及一种二氧化硅抛光液废液处理剂、其制备方法及应用。

技术介绍

[0002]硅溶胶属于胶体溶液，具有许多优良的性质和特点，如无臭、无毒、耐腐蚀、耐高温和化学性能稳定等，一直被人们开发和应用，现已被广泛应用于精密铸造、涂料、纺织、催化剂和化学机械抛光(CMP)等行业中，而且每年的需求量都呈上升趋势，尤其是在化学机械抛光行业中，因为半导体得到国家的大力支持和帮助，使其得到快速发展，硅溶胶又有着不可替代的地位，所以硅溶胶的使用量也在快速增长。二氧化硅抛光液的特点是使用一段时间之后，其抛光速度就会变慢，抛光效果变差，如果继续使用，还会带来严重的负面影响，所以我们只能更换新的二氧化硅抛光液，这时候，不能继续使用的二氧化硅抛光液就变成了工业废液。
[0003]由于二氧化硅抛光液废液中的纳米胶体颗粒依然具有很好的悬浮特性，如果当成废水直接排走的话，会造成污水悬浮物指标严重超标，而且二氧化硅抛光液在特定情况下可能发生聚集沉淀，造成管道堵塞等不良后果。因此，二氧化硅抛光液废液排放前应经过特殊处理使废水中悬浮物指标达到国家排放标准。通常，工业废水的处理方法包括物理法、化学法和生物法，处理过程一般采用絮凝、沉降、分离等手段，但由于二氧化硅抛光液废液具有良好的化学稳定性，常规絮凝剂及絮凝方法难以使其有效沉降，因此，如何快速、高效地处理二氧化硅抛光液废液显得十分重要。

技术实现思路

[0004]本专利技术针对目前二氧化硅抛光液废液对环境污染严重、难处理等问题，提供了一种二氧化硅抛光液废液处理剂，使其可以将二氧化硅抛光液废液进行处理后，废水中悬浮物指标达到国家排放标准，从而解决二氧化硅抛光液废液污染环境的问题。
[0005]为解决上述技术问题，本专利技术采用如下技术方案：
[0006]一种二氧化硅抛光液废液处理剂，包括如下重量百分含量的组分：
[0007][0008]作为本专利技术进一步改进，包括如下重量百分含量的组分：
[0009][0010]进一步地，包括如下重量百分含量的组分：
[0011][0012][0013]进一步地，所述无机盐采用碳酸钾、碳酸钠、硫酸钠、硝酸钠、硝酸钙、氯化钙和氯化镁中的一种或多种，大量的无机盐会破坏硅溶胶的胶体稳定性。
[0014]进一步地，所述表面活性剂采用脂肪醇聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚、十六烷基三甲基溴化铵、聚丙烯酸钠中的一种或多种，表面活性剂加强了无机盐对胶体的破坏，有利于二氧化硅抛光液废液发生聚沉反应。
[0015]进一步地，所述絮凝剂采用硫酸铝钾、聚合氯化铝、聚合氯化铁和聚丙烯酰胺中的一种或多种，絮凝剂能吸附沉淀物，使颗粒聚集成团，加速沉淀，帮助过滤。
[0016]进一步地，所述络合剂采用乙二胺四乙酸二钠、氨基三乙酸、四甲基氯化铵和聚甲基丙烯酸中的一种或多种，络合剂是为了去除二氧化硅抛光液废液中的金属等杂质。
[0017]进一步地，所述消泡剂采用聚醚消泡剂、有机硅消泡剂中的一种或多种，消泡剂是为了消除泡沫。
[0018]上述二氧化硅抛光液废液处理剂的制备方法为：
[0019]将各组分按比例与水混合，先加水并持续搅拌，依次加入表面活性剂、络合剂、无机盐盐和消泡剂，直到完全溶解，即配制好二氧化硅抛光液废液处理剂。
[0020]进一步地，在具体应用时，把二氧化硅抛光液废液处理剂加入二氧化硅抛光液废液中，按重量比添加，二氧化硅抛光液废液处理剂：抛光用硅溶胶废液＝1:5
‑
24，搅拌均匀后静置10分钟以上，发现二氧化硅抛光液废液完全沉淀分层，待沉淀物完全沉淀，再通过过滤的方式把沉淀物去除(过滤的方式有小于200目的滤袋、板框过滤机和离心机等)，得到的
废水悬浮物指标符合国家排放标准。
[0021]本专利技术通过对二氧化硅抛光液废液进行研究发现，该废液中主要成分为硅溶胶，硅溶胶属于纳米级的二氧化硅颗粒在水中或溶剂中的分散液，它能稳定悬浮在水中或者溶剂中，是因为它具有胶体特性并属于带负电的颗粒。本专利技术利用了这一特点，通过破坏其胶体特性和带负电的状态，使得硅溶胶颗粒失去悬浮性，产生凝胶或者沉淀，再通过过滤等方式去除沉淀物，得到的废水悬浮物指标符合国家排污标准。沉淀物中主要成分为二氧化硅，可当一般固废处理，解决了二氧化硅抛光液废液污染环境严重，难处理等问题。
具体实施方式
[0022]配方：无机盐1
‑
30％、表面活性剂0.001
‑
0.2％、絮凝剂0.001
‑
0.5％、络合剂0.01
‑
0.15％、消泡剂0.01
‑
0.1％、余量为水。
[0023]按照如下操作进行：
[0024]1、在1L烧杯中加入部分水(300g水)，在磁力搅拌器上进行搅拌，转速为20
‑
50rpm；
[0025]2、在搅拌条件下，依次加入1
‑
30％无机盐、0.001
‑
0.2％表面活性剂、0.001
‑
0.5％絮凝剂、0.01
‑
0.15％络合剂和0.01
‑
0.1％消泡剂，补充水至500g，继续搅拌10分钟以上，直到试剂完全溶解，即二氧化硅抛光液废液处理剂；
[0026]3、按照处理剂：二氧化硅抛光液废液为1:5
‑
24的比例添加，搅拌5
‑
20分钟，转速为30
‑
100rpm，然后停止搅拌，静置10分钟以上；
[0027]4、再用200目的滤网进行过滤，得到沉淀物和废水。
[0028]实施例1
‑
7的操作方法相同，同上述方法,对比例1
‑
3的操作方法也类似上述方法，仅是在省略了某个组分，其配方中使用的具体物质和含量分别如表1所示。
[0029]表1
[0030][0031][0032][0033]从表1中实施例1
‑
7所述可以看出，本专利技术的二氧化硅抛光液废液处理剂能够有效去除二氧化硅抛光液废液中的悬浮物，废水中悬浮物指标符合国家排放标准，排放标准详
见GB 8978
‑
2002。通过对比例1
‑
3可以看出，本专利技术中的配方使用效果较好，废水悬浮物指标达到国家排放标准。
[0034]以上所述，仅是本专利技术的较佳实施例而已，并非对本专利技术作任何形式上的限制，本领域技术人员利用上述揭示的
技术实现思路
做出些许简单修改、等同变化或修饰，均落在本专利技术的保护范围内。
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种二氧化硅抛光液废液处理剂，其特征在于，包括如下重量百分含量的组分：2.根据权利要求1所述的二氧化硅抛光液废液处理剂，其特征在于，包括如下重量百分含量的组分：3.根据权利要求1所述的二氧化硅抛光液废液处理剂，其特征在于，包括如下重量百分含量的组分：4.根据权利要求1
‑
3任一项所述的二氧化硅抛光液废液处理剂，其特征在于，所述无机盐采用碳酸钾、碳酸钠、硫酸钠、硝酸钠、硝酸钙、氯化钙和氯化镁中的一种或多种。5.根据权利要求1
‑
3任一项所述的二氧化硅抛光液废液处理剂，其特征在于，所述表面活性剂采用脂肪醇聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚、十六烷基三甲基溴化铵、聚丙烯酸钠中的一种或多种。6.根据权利要求1
‑
3任一项所述的二氧化硅抛光液废液处理剂，其特征在于，所述絮凝剂采用硫酸铝钾、聚合氯化铝、聚合氯化铁和聚丙烯酰胺中的一种或多种。
7.根据权利要求1
‑
3任一项所述的二氧化硅抛...

【专利技术属性】
技术研发人员：裴亚利，陈海海，李宝德，刘阳，
申请(专利权)人：北京航天赛德科技发展有限公司，
类型：发明
国别省市：