一种废气处理设备制造技术

本发明专利技术公开了一种废气处理设备，包括通过输气管依次连接的预处理反应器、主反应器及后处理反应器。本发明专利技术通过预处理反应器有效去除废气中所夹带的粉尘颗粒或水，大大降低了主反应器和后处理反应器的堵塞问题及紫外线灯管A被覆盖的概率，提高了设备的使用寿命，主反应器中的W形纳米光触媒多孔板既增加了紫外光照射催化剂的面积，提高了紫外光的利用率，又增加了进入主反应器内废气的扰动，延长了废气与催化剂产生的自由基等活化离子的接触和反应时间，延长了废气分子在催化反应床层上的停留时间，此外紫外线灯管A上设置有清洁环，方便对紫外线灯管A的外侧壁进行清理，进一步避免出现灰尘覆盖影响紫外线灯管A对废气进行光催化氧化的问题。氧化的问题。氧化的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种废气处理设备


[0001]本专利技术涉及废气处理装置
，具体涉及一种废气处理设备。

技术介绍

[0002]国内外大量研究表明，紫外光光催化法具有较强的氧化能力，其能有效地将烃类、卤代有机物、表面活性剂、染料、农药、酚类、芳烃类等有机污染物氧化降解，最终矿化为二氧化碳和水。另外，光催化氧化技术具有在常温常压下进行，彻底消除有机污染物，无二次污染等优点。紫外光催化氧化法作为一种安全、高效的环境友好型废气环境净化技术，对有机污染物及恶臭气体有着较好的处理效果，应用也越来越普遍。但现有技术中基于紫外光催化氧化法的废气处理设备主要存在以下缺陷：1、光照接触面积较小和气体分布不均匀等不足，导致化学反应慢，影响光催化反应的效率；2、现有技术中工业废气中大都含有粉尘颗粒物，但现有技术中基于光催化氧化技术的废气处理设备无法对粉尘颗粒物进行去除，长时间运行后粉尘会对处理设备造成堵塞、覆盖等影响，影响设备使用寿命；3、现有技术中基于紫外光催化氧化法的废气处理设备中的紫外线光源通常需要与废气进行直接接触，而废气中的粉尘以及颗粒物往往还会附着在紫外线光源上对紫外线进行遮挡，从而降低了紫外线的照射强度，影响废气的处理效果。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的是克服上述不足，提供了一种废气处理设备,通过预处理反应器有效去除废气中所夹带的粉尘颗粒或水，大大降低了主反应器和后处理反应器的堵塞问题及紫外线灯管A被覆盖的概率，提高了设备的使用寿命，主反应器中的W形纳米光触媒多孔板既增加了紫外光照射催化剂的面积，提高了紫外光的利用率，又增加了进入主反应器内废气的扰动，形成了强烈的废气湍流，延长了废气与催化剂产生的自由基等活化离子的接触和反应时间，延长了废气分子在催化反应床层上的停留时间，进而提高了紫外光和催化剂的反应效率，此外紫外线灯管A上设置有清洁环，方便对紫外线灯管A的外侧壁进行清理，避免出现灰尘覆盖影响紫外线灯管A对废气进行光催化氧化的问题。
[0004]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案，一种废气处理设备，包括通过输气管依次连接的预处理反应器、主反应器及后处理反应器，所述预处理反应器用于对废气进行预处理，所述主反应器用于对所述预处理反应器预处理后的废气进行光催化处理，所述后处理反应器用于对所述主反应器处理后的废气进行低温等离子体处理和吸附处理后排出；
[0005]所述主反应器包括壳体A以及分别设置在所述壳体A两端的进气口A和出气口A，所述进气口A和所述出气口A之间沿气体流动方向设置有W形纳米光触媒多孔板，所述W形纳米光触媒多孔板的封闭端与所述壳体A内侧壁接触，所述壳体A内侧壁上安装有与所述W形纳米光触媒多孔板的开口端位置相对应的紫外光源组件，所述壳体A内侧壁涂敷有反光层；
[0006]所述紫外光源组件包括紫外线灯管A、清洁环、紫外线强度传感器及微处理器，所述紫外线灯管A两端分别通过固定杆与所述壳体A内侧壁固定连接，所述紫外线强度传感器
和所述微处理器均固定于所述固定杆上，所述壳体A内侧壁上设置有与所述紫外线灯管A位置相对应的滑槽，所述紫外线灯管A的长度方向与所述滑槽长度方向及气流方向一致，所述滑槽内滑动设有滑块，所述清洁环的内侧设置有刷毛，所述清洁环滑动套设于所述紫外线灯管A外，所述滑块与所述清洁环通过连接杆固定连接；所述紫外光源组件还包括驱动所述滑块在所述滑槽内滑动的驱动机构，所述微处理器分别与所述驱动机构、所述紫外线强度传感器控制连接。
[0007]通过预处理反应器去除废气中的粉尘颗粒杂质和水，有效减少粉尘等固体颗粒杂质和水对主反应器的影响，保证了后续光催化、低温等离子及吸附处理的效果能够达到最佳，且大大降低了主反应器和后处理反应器的堵塞问题及紫外线灯管A被覆盖的概率，提高了设备的使用寿命。
[0008]主反应器通过纳米催化剂技术与紫外光技术的结合，产生羟基自由基、臭氧及光致空穴，进而迅速有效杀灭废气中的细菌、病毒和霉菌，有效地将废气中的烃类、卤代有机物、表面活性剂、染料、农药、酚类、芳烃类等有机污染物氧化降解，最终矿化为二氧化碳和水，彻底消除有机污染物，无二次污染。
[0009]W形纳米光触媒多孔板既增加了紫外光照射催化剂的面积，提高了紫外光的利用率，又增加了进入主反应器内废气的扰动，形成了强烈的废气湍流，延长了废气与催化剂产生的自由基等活化离子的接触和反应时间，延长了废气分子在催化反应床层上的停留时间，进而提高了紫外光和催化剂的反应效率。
[0010]紫外线灯管A上设置有清洁环，通过驱动机构带动滑块在滑槽内运动的同时滑动驱动清洁环在紫外线灯管A上进行运动，从而方便对紫外线灯管A的外侧壁进行清理，避免出现灰尘覆盖影响紫外线灯管A对废气进行光催化氧化的问题；微处理器通过紫外线强度传感器发送的紫外线强度数据判断是否需要对紫外线灯管A外侧壁进行清洁，微处理器内预设紫外线强度值为X，当紫外线强度传感器检测的紫外线强度数据值小于X时，则微处理器控制驱动机构运动，使清洁环在紫外线灯管A上进行运动对紫外线灯管A的外侧壁进行清理。
[0011]通过在壳体A内侧壁设置反光层可以更好地反射紫外线灯管A产生的紫外光，提高了在同一紫外光照度条件下光照密度的利用率，从而提高了主反应器的工作效率，从而达到高效的光催化效果。
[0012]经过主反应器处理后的废气进入后处理反应器中进一步进行低温等离子和吸附处理后得到达标的清洁空气可直接排入大气；低温等离子高压产生高能电子破坏分子结构，如聚合状态，并且空气中的氧气、水分子等经过高能区域，被激发成为强氧化基团臭氧离子、羟基等参与深度氧化反应，UV紫外线双谱灯管对废气分子键进行照射，破解分子键中苯环内的大π键等；通过吸附处理确保了臭味的去除。
[0013]上述的一种废气处理设备，其中，所述预处理反应器包括壳体B以及设置于所述壳体B侧壁下端的进气口B、设置于所述壳体B顶部的出气口B，所述壳体顶部为锥形、底部为倒锥形，所述进气口B处设置有用于将待处理废气引入至所述壳体B内的引风机，所述出气口B通过输气管与所述进气口A连通；所述壳体B内底部设置有循环水池，所述壳体B内从下至上依次设置有挡板组件、滤网、汽水分离器，所述喷水管上均匀设置有若干个喷水头，所述壳体B外侧壁设置有循环泵和过滤器，所述过滤器的进液端通过输液管与所述循环水池连通，
所述过滤器的出液端通过输液管依次与所述循环泵、所述喷水管连接。
[0014]含有粉尘颗粒物的气体通过进气口B进入壳体B内后，通过喷水头向进入壳体B内的废气喷洒水，在离心的作用上将气流夹带的粉尘颗粒物的液滴抛向挡板壁面，壁效应使液滴附着在挡板壁面上，含粉尘颗粒的液滴聚集后在重力作用下沿着挡板壁面流下，分离了液体、粉尘颗粒后的气体再依次通过滤网、汽水分离器进一步去除其所夹带的水和粉尘颗粒，最后再通过出气口B进入主反应器中进行进一步净化处理，防止废气中所夹带的粉尘颗粒物和水对主反应器和后处理反应器造成影响，提高设备使用寿命。
[0015]上述的一种废气处理设备，其中，所述挡板组件为多层同心圆挡板，所述多本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种废气处理设备，其特征在于，包括通过输气管依次连接的预处理反应器、主反应器及后处理反应器，所述预处理反应器用于对废气进行预处理，所述主反应器用于对所述预处理反应器预处理后的废气进行光催化处理，所述后处理反应器用于对所述主反应器处理后的废气进行低温等离子体处理和吸附处理后排出；所述主反应器包括壳体A以及分别设置在所述壳体A两端的进气口A和出气口A，所述进气口A和所述出气口A之间沿气体流动方向设置有W形纳米光触媒多孔板，所述W形纳米光触媒多孔板的封闭端与所述壳体A内侧壁接触，所述壳体A内侧壁上安装有与所述W形纳米光触媒多孔板的开口端位置相对应的紫外光源组件，所述壳体A内侧壁涂敷有反光层；所述紫外光源组件包括紫外线灯管A、清洁环、紫外线强度传感器及微处理器，所述紫外线灯管A两端分别通过固定杆与所述壳体A内侧壁固定连接，所述紫外线强度传感器和所述微处理器均固定于所述固定杆上，所述壳体A内侧壁上设置有与所述紫外线灯管A位置相对应的滑槽，所述紫外线灯管A的长度方向与所述滑槽长度方向及气流方向一致，所述滑槽内滑动设有滑块，所述清洁环的内侧设置有刷毛，所述清洁环滑动套设于所述紫外线灯管A外，所述滑块与所述清洁环通过连接杆固定连接；所述紫外光源组件还包括驱动所述滑块在所述滑槽内滑动的驱动机构，所述微处理器分别与所述驱动机构、所述紫外线强度传感器控制连接。2.如权利要求1所述的一种废气处理设备，其特征在于，所述预处理反应器包括壳体B以及...

【专利技术属性】
技术研发人员：洪俊，
申请(专利权)人：苏州晟煊环境工程有限公司，
类型：发明
国别省市：