【技术实现步骤摘要】
一种过孔内壁金属层局部镀设方法
[0001]本专利技术涉及半导体制造
,更进一步涉及一种过孔内壁金属层局部镀设方法。
技术介绍
[0002]伴随电子线路设计的发展,板卡层数以多层板为主,高速走线需要走不同的层面来完成连接,通常的做法是在多层板上贯通钻设过孔,在过孔内设置金属镀层,通过此金属镀层实现不同层之间的连接。
[0003]加工时需要在过孔内整体设置镀层,通常情况下仅需要利用整个镀层的其中一段,过孔中多余的金属镀层就会形成残端(stub),stub会破坏高速线的阻抗连续性,影响信号传输质量,信号速率越高影响越严重。
[0004]为了避免stub的影响,在现有技术中通常采用背钻的技术将stub钻掉,也即先在过孔的内壁上整体镀设金属层,再将不需要镀层的一端采用直径略大的钻头去除,此工艺需要保证钻头和通孔精准对心,否则难以将镀层完全去除;此工艺需要对原有过孔进行破坏性清除,去除镀层后的孔径比去除之前过孔的孔径要大,一般直径加8mil,所以过孔到周边线要留有足够的距离,设计时就要将过孔周边的空间尺寸同时考虑 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种过孔内壁金属层局部镀设方法,其特征在于,包括:在多层PCB板上过孔内的局部位置覆盖设置防护胶;在过孔内镀设金属镀层,使未覆盖防护胶的位置形成局部镀层,覆盖防护胶的位置无镀层。2.根据权利要求1所述的过孔内壁金属层局部镀设方法,其特征在于,所述防护胶为液态感光胶,涂装感光胶后,通过紫外线照射的方式加速固化。3.根据权利要求2所述的过孔内壁金属层局部镀设方法,其特征在于,在过孔内镀设金属镀层之后,还包括:通过化学处理方式...
【专利技术属性】
技术研发人员:闫勇,
申请(专利权)人:苏州浪潮智能科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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