光刻用稀释剂废液的纯化再生方法技术

本发明专利技术公开了光刻用稀释剂废液的纯化再生方法，属于液晶显示器薄膜晶体管和触摸屏行业废液回收利用技术领域。本发明专利技术解决的技术问题是现有光刻用稀释剂的回收利用成本高、环境污染大。本发明专利技术光刻用稀释剂废液的纯化再生方法，将稀释剂废液通过0.1um～10um膜初步过滤掉大颗粒杂质，然后依次通过孔径1

【技术实现步骤摘要】
光刻用稀释剂废液的纯化再生方法


[0001]本专利技术属于液晶显示器薄膜晶体管和触摸屏行业废液回收利用
，具体涉及光刻用稀释剂废液的纯化再生方法。

技术介绍

[0002]目前，丙二醇甲醚(PGME)、丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)等广泛应用于液晶显示器薄膜晶体管和触摸屏行业生产工艺中光刻工序的稀释剂，使用后的废稀释剂则采用蒸馏、精馏法回收、提纯，或将该废液用于直接焚烧处置，但其存在如下三个方面的问题。第一，无论投资精馏设备，还是焚烧设备，其投资大、附属设备复杂、难长期无障运行。设备包括设备主机、供料系统、除渣系统、冷凝系统、废气处置系统、废液处置系统等，常规处置方式初期投资大，且对使用过程维护要求较高，无障运行时间也比较短。第二，运行成本高、废气量大。蒸馏、精馏法由于采用物质沸点实施组分的分离、提纯，因此，其运行过程中的热消耗较高，而当废液沸点更高时，其所消耗的能量也将更大；而焚烧的尾气处理则更为明显，对环境、能源隐患较大。第三，长距离、大量运输存在安全、环保隐患。由于蒸馏、精馏设施或焚烧工厂投资较大，因此很难多点建设，不可避免的产生危废本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.光刻用稀释剂废液的纯化再生方法，其特征在于包括如下步骤：将稀释剂废液通过孔径0.1um～10um的膜初步过滤掉大颗粒杂质，然后依次通过孔径1
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10nm的膜实施一级精滤，通过孔径<5nm的膜实施二级精滤，通过孔径<0.1nm的膜实施三级精滤。2.根据权利要求1所述的光刻用稀释剂废液的纯化再生技术，其特征在于所述精虑过程的膜采用无机膜和/或有机膜。3.根据权利要求1或2所述的光刻用稀释剂废...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯卫文，宋斌，王芳，徐乐，
申请(专利权)人：绵阳艾萨斯电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：