一种射线屏蔽结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种射线屏蔽结构，屏蔽室分为所述上屏蔽室、所述束下下屏蔽室和所述束下上屏蔽室，利用所述支撑装置便于穿料；所述束下上屏蔽室同所述束下下屏蔽室一同降下时方便电子束引出窗零部件，所述离子泵和所述分子泵产生射线，并通过所述电子枪加速管投射到被辐照材料上，采用这样的屏蔽结构，使得被辐射材料上表面无需设置导向辊，被辐射材料表面有涂布或印刷在未通过电子束时固化，避免了导向辊对被辐射材料上表面的涂布或印刷接触，从而影响被辐射材料表面的印刷或涂布的效果。从而影响被辐射材料表面的印刷或涂布的效果。从而影响被辐射材料表面的印刷或涂布的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种射线屏蔽结构


[0001]本技术涉及电子辐照加速器领域，尤其涉及一种射线屏蔽结构。

技术介绍

[0002]目前辐照电子加速器在对材料进行电离辐射改性时，会产生大量的高能射线，若无防护措施，会对现场工作人员及周围其他生命体和不耐辐射物品设备造成严重伤害。为此公开了一种升降式在线射线屏蔽结构，该结构包括一中空容腔，所述中空容腔包括分体设计且从上至下排列的上屏蔽室、束下上屏蔽室和束下下屏蔽室，所述束下下屏蔽室包括进料口和出料口；还包括一外支撑体，位于所述外支撑体上安装有垂直滑轨，所述中空容腔的上屏蔽室、束下上屏蔽室和束下下屏蔽室均设置在所述垂直滑轨上。
[0003]基于现有设备中射线屏蔽结构的整体设计，需要在束下上屏蔽室和束下下屏蔽室之间上下分别安装导向辊(传输滚筒)，其目的是为了让被辐射材料能够更好的穿过束下上屏蔽室和束下下屏蔽室之间的通道，但被辐射材料上方设置导向辊与被辐射材料表面的涂布或印刷接触，会影响被辐射材料表面的涂布或印刷的效果。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种射线屏蔽结构，旨在解决现有技术中的被辐射材料上方设置导向辊与被辐射材料表面的涂布或印刷接触，会影响被辐射材料表面的涂布或印刷的效果的技术问题。
[0005]为实现上述目的，本技术采用的一种射线屏蔽结构，包括支撑架、射线传输系统和射线屏蔽系统；所述射线传输系统与所述射线屏蔽系统连接；所述射线屏蔽系统包括上屏蔽室、束下下屏蔽室、束下上屏蔽室、滑轮和支撑装置，所述上屏蔽室与所述支撑架固定连接，并位于所述支撑架的内部，所述束下下屏蔽室与所述支撑架滑动连接，并位于所述支撑架远离所述上屏蔽室的一侧，所述束下上屏蔽室与所述上屏蔽室可拆卸连接，并与所述支撑架滑动连接，且位于所述上屏蔽室靠近所述束下下屏蔽室的一侧，所述滑轮与所述束下下屏蔽室转动连接，并位于所述束下下屏蔽室靠近所述束下上屏蔽室的一侧，所述支撑装置与所述支撑架固定连接，并输出轴与所述束下下屏蔽室固定连接，且位于所述支撑架靠近所述束下下屏蔽室的一侧；所述射线传输系统包括电子枪加速管、离子泵和分子泵，所述电子枪加速管与所述上屏蔽室固定连接，并贯穿所述上屏蔽室，且朝向所述束下上屏蔽室的方向；所述离子泵与所述上屏蔽室固定连接，并与所述电子枪加速管连通，且位于所述上屏蔽室的外侧；所述分子泵与所述上屏蔽室固定连接，并与所述电子枪加速管连通，且位于所述上屏蔽室靠近所述离子泵的一侧。
[0006]其中，所述射线屏蔽系统还包括底盖，所述底盖与所述支撑装置固定连接，并位于所述束下下屏蔽室固定连接，且位于所述束下下屏蔽室和所述支撑装置之间。
[0007]其中，所述支撑装置包括支撑底座和液压升降平台，所述支撑底座与所述支撑架固定连接，并位于所述支撑架靠近所述束下下屏蔽室的一侧；所述液压升降平台与所述支
撑底座固定连接，并输出端与所述底盖固定连接，且位于所述支撑底座靠近所述底盖的一侧。
[0008]其中，所述射线传输系统还包括扫描盒，所述扫描盒与所述上屏蔽室固定连接，并与所述电子枪加速管贯通，且位于所述上屏蔽室靠近所述电子枪加速管的一侧。
[0009]其中，所述射线传输系统还包括电子束引出窗，所述电子束引出窗与所述扫描盒固定连接，并位于所述扫描盒远离所述电子枪加速管的一侧。
[0010]其中，所述射线传输系统还包括引出窗冷风路，所述引出窗冷风路与所述扫描盒固定连接，并与所述电子束引出窗固定连接，且位于所述扫描盒靠近所述电子束引出窗的一侧。
[0011]本技术的一种射线屏蔽结构，屏蔽室分为所述上屏蔽室、所述束下下屏蔽室和所述束下上屏蔽室，利用所述支撑装置便于穿料；所述束下上屏蔽室同所述束下下屏蔽室一同降下时方便电子束引出窗零部件，所述离子泵和所述分子泵产生射线，并通过所述电子枪加速管投射到被辐照材料上，采用这样的屏蔽结构，使得被辐射材料上表面无需设置导向辊，被辐射材料表面有涂布或印刷在未通过电子束时固化，避免了导向辊对被辐射材料上表面的涂布或印刷接触，从而影响被辐射材料表面的印刷或涂布的效果。
附图说明
[0012]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0013]图1是本技术的射线屏蔽结构的主视图。
[0014]图2是本技术的射线屏蔽结构的拆分图。
[0015]图3是本技术的支撑装置的结构示意图。
[0016]图中：1
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支撑架、2
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射线屏蔽系统、3
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射线传输系统、4
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被辐照材料、21
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上屏蔽室、22
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束下下屏蔽室、23
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束下上屏蔽室、24
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滑轮、25
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支撑装置、26
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底盖、31
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电子枪加速管、32
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离子泵、33
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分子泵、34
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扫描盒、35
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电子束引出窗、36
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引出窗冷风路、100
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射线屏蔽结构、251
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支撑底座、252
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液压升降平台。
具体实施方式
[0017]下面详细描述本技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。
[0018]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，在本技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另
有明确具体的限定。
[0019]请参阅图1至图3，本技术提供了一种射线屏蔽结构100，包括支撑架1、射线传输系统3和射线屏蔽系统2；所述射线传输系统3与所述射线屏蔽系统2连接；所述射线屏蔽系统2包括上屏蔽室21、束下下屏蔽室22、束下上屏蔽室23、滑轮24和支撑装置25，所述上屏蔽室21与所述支撑架1固定连接，并位于所述支撑架1的内部，所述束下下屏蔽室22与所述支撑架1滑动连接，并位于所述支撑架1远离所述上屏蔽室21的一侧，所述束下上屏蔽室23与所述上屏蔽室21可拆卸连接，并与所述支撑架1滑动连接，且位于所述上屏蔽室21本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种射线屏蔽结构，其特征在于，包括支撑架、射线传输系统和射线屏蔽系统；所述射线传输系统与所述射线屏蔽系统连接；所述射线屏蔽系统包括上屏蔽室、束下下屏蔽室、束下上屏蔽室、滑轮和支撑装置，所述上屏蔽室与所述支撑架固定连接，并位于所述支撑架的内部，所述束下下屏蔽室与所述支撑架滑动连接，并位于所述支撑架远离所述上屏蔽室的一侧，所述束下上屏蔽室与所述上屏蔽室可拆卸连接，并与所述支撑架滑动连接，且位于所述上屏蔽室靠近所述束下下屏蔽室的一侧，所述滑轮与所述束下下屏蔽室转动连接，并位于所述束下下屏蔽室靠近所述束下上屏蔽室的一侧，所述支撑装置与所述支撑架固定连接，并输出轴与所述束下下屏蔽室固定连接，且位于所述支撑架靠近所述束下下屏蔽室的一侧；所述射线传输系统包括电子枪加速管、离子泵和分子泵，所述电子枪加速管与所述上屏蔽室固定连接，并贯穿所述上屏蔽室，且朝向所述束下上屏蔽室的方向；所述离子泵与所述上屏蔽室固定连接，并与所述电子枪加速管连通，且位于所述上屏蔽室的外侧；所述分子泵与所述上屏蔽室固定连接，并与所述电子枪加速管连通，且位于所述上屏蔽室靠近所述离子泵的一侧。2.如权利要求1所述的射线...

【专利技术属性】
技术研发人员：贾朝伟，李琦，曾利，罗德坤，
申请(专利权)人：江苏智研科技有限公司，
类型：新型
国别省市：