负压式硅片传送流线及硅片检测分选设备制造技术

本发明专利技术提供一种负压式硅片传送流线及硅片检测分选设备，其中，负压式硅片传送流线包括：主传送流线、负压顶升装置以及分传送流线；主传送流线包括若干传送单元，各传送单元沿输送方向依次间隔设置，任意相邻的两个传送单元之间设置有负压顶升装置，任一负压顶升装置的两侧设置有分传送流线；负压顶升装置包括：负压吸附机构、顶升机构以及输送机构，负压吸附机构由顶升机构驱动进行升降运动，输送机构将由负压吸附机构吸附的硅片传送至一侧的分传送流线处。本发明专利技术将输送硅片的传送流线分段设置，各传送单元之间均设置负压顶升装置，其使得硅片在下料时，能够与输送带保持贴合，进而克服了硅片之间容易发生碰撞的问题。克服了硅片之间容易发生碰撞的问题。克服了硅片之间容易发生碰撞的问题。

【技术实现步骤摘要】
负压式硅片传送流线及硅片检测分选设备


[0001]本专利技术涉及硅片检测分选
，尤其涉及一种负压式硅片传送流线及硅片检测分选设备。

技术介绍

[0002]硅片作为重要的工业原材料，被广泛用于太阳能电池、电路板等产品的生产制造中。因此，在硅片生产出厂之前需要对其质量进行严格的把控，以保证由硅片制造的太阳能电池、电路板等产品的质量。
[0003]目前，在硅片的检测分选过程中，在检测完成之后，需要将硅片通过传送流线分流到相应的收纳盒中。现有技术中，需要将流线上的硅片顶起，然后改变其输送方向，使其流入到对应的收纳盒中。
[0004]然而，上述方式存在的问题是，由于工业生产中的输送时间是较为精确和连续的，而将硅片顶起时可能导致硅片与输送流线分离，此时在短时间内硅片处于悬空状态，而输送流线持续工作，硅片下落时可能存在与后方输送而来的硅片发生碰撞的问题。因此，针对上述问题，有必要提出进一步地解决方案。

技术实现思路

[0005]本专利技术旨在提供一种负压式硅片传送流线及硅片检测分选设备，以克服现有技术中存在的不足。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种负压式硅片传送流线，其特征在于，所述负压式硅片传送流线包括：主传送流线、负压顶升装置以及分传送流线；所述主传送流线包括若干传送单元，各传送单元沿输送方向依次间隔设置，任意相邻的两个传送单元之间设置有所述负压顶升装置，任一所述负压顶升装置的两侧设置有所述分传送流线；所述负压顶升装置包括：负压吸附机构、顶升机构以及输送机构，所述负压吸附机构由所述顶升机构驱动进行升降运动，所述输送机构将由所述负压吸附机构吸附的硅片传送至一侧的分传送流线处。2.根据权利要求1所述的负压式硅片传送流线，其特征在于，所述传送单元包括：主传送台以及设置于所述主传送台两侧的主传送带。3.根据权利要求1所述的负压式硅片传送流线，其特征在于，所述分传送流线包括：下料传送台以及设置于所述下料传送台两侧的分传送带。4.根据权利要求1所述的负压式硅片传送流线，其特征在于，所述负压吸附机构包括：吸盘以及负压发生组件，所述吸盘的工作面上开设有吸孔和/或吸槽，所述负压发生组件与所述吸盘相连接，并能够在所述吸孔和/或吸槽处产生负压；所述顶升机构设置于所述负压吸附机构下方，其包括：驱动单元以及顶升组件，所述驱动单元与所述顶升组件传动连接，所述顶升组件与所述负压吸附机构传动连接，并能够带动所述负压吸附机构进行升降运动；所述输送机构包括输送带，所述输送带与所述工作面共面或者略高于所述工作面。5.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：曹葵康，孙靖，顾烨，胡辉来，孙俊，苏傲，钱春辉，程璧，张体瑞，温延培，
申请(专利权)人：苏州天准科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：