微纳模具及其制作方法技术

本发明专利技术公开了一种微纳模具的制作方法，该制作方法包括：在基底上涂布一层导电光刻胶，导电光刻胶包括光刻胶和导电浆；对导电光刻胶进行化学刻蚀并形成具有图案的凹槽；在导电光刻胶上形成一层金属层，并在金属层上形成与凹槽对应的凸起；将金属层与导电光刻胶进行剥离并得到具有图案的微纳模具。该制作方法用于制作微纳模具，其步骤简单，制作周期短，制作效率高，微纳模具的外观品质好。本发明专利技术公开了一种微纳模具，该微纳模具通过如上所述的制作方法制成。制成。制成。

【技术实现步骤摘要】
微纳模具及其制作方法


[0001]本专利技术涉及纳米压印
，特别是涉及一种微纳模具及其制作方法。

技术介绍

[0002]随着微纳器件的发展，传统机械制造技术已不能满足这些微机械和微系统的高精度制造和装配加工要求,微纳制造技术是微传感器、微执行器、微结构和功能微纳系统制造的基本手段和重要基础。微纳压印是微纳制造的关键技术。微纳压印离不开模具，传统的模具制作工艺：光刻、显影、蚀刻、金属生长工艺步骤繁多，复杂，生产效率较低。且金属生长工艺普遍需要对光刻胶板表面进行预处理使其导电，常用的方法真空蒸发金属镀，喷涂银膜，工艺复杂且代价昂贵，化学镀的方法，代价较低，但所用化学药品使带入杂质的几率增大，影响金属模具外观品质，特别是在对光刻胶板表面进行预处理使其导电的工艺，带入杂质的几率更大，增加工艺的难度。

技术实现思路

[0003]为了克服现有技术中存在的缺点和不足，本专利技术的目的在于提供一种微纳模具及其制作方法，以解决现有技术中工艺复杂、效率低以及品质差的问题。
[0004]本专利技术的目的通过下述技术方案实现：
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种微纳模具的制作方法，其特征在于，该制作方法包括：在基底(10)上涂布一层导电光刻胶(20)，该导电光刻胶(20)包括光刻胶和导电浆；对该导电光刻胶(20)进行化学刻蚀并形成具有图案的凹槽(21)；在该导电光刻胶(20)上形成一层金属层(30)，并在该金属层(30)上形成与该凹槽(21)对应的凸起(31)；将该金属层(30)与该导电光刻胶(20)进行剥离并得到具有图案的微纳模具(40)。2.根据权利要求1所述的微纳模具的制作方法，其特征在于，在该基底(10)上涂布一层该导电光刻胶(20)的步骤具体为：先将该光刻胶与该导电浆进行混合并形成该导电光刻胶(20)，然后将该导电光刻胶(20)涂布在该基底(10)上；或者，先将该光刻胶与该导电浆同时涂布在该基底(10)上，然后将该光刻胶与该导电浆混合形成该导电光刻胶(20)。3.根据权利要求1所述的微纳模具的制作方法，其特征在于，该制作方法还包括：将剥离后的该微纳模具(40)表面通过弱碱溶液进行处理，除去该微纳模具(40)表面上残留的该导电光刻胶(20)。4.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘麟跃，基亮亮，周小红，
申请(专利权)人：苏州维业达触控科技有限公司，
类型：发明
国别省市：