杂芳基氨基喹啉和类似物制造技术

本公开涉及杀真菌活性化合物，更具体地涉及杂芳基氨基喹啉及其类似物，用于制备其的方法和中间体，及其作为杀真菌活性化合物、特别是以杀真菌剂组合物形式的用途。本公开还涉及使用这些化合物或包含它们的组合物防治植物的植物病原性真菌的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】杂芳基氨基喹啉和类似物
本公开涉及杀真菌活性化合物，更具体地涉及杂芳基氨基喹啉及其类似物，用于制备其的方法和中间体，及其作为杀真菌活性化合物、特别是以杀真菌剂组合物形式的用途。本公开还涉及使用这些化合物或包含它们的组合物防治植物的植物病原性真菌的方法。
技术介绍
WO2011/081174和WO2012/161071公开了适合用作杀真菌剂的含氮杂环化合物。WO2013/058256公开了适合用作杀真菌剂的其他含氮杂环化合物。然而，由于对杀真菌剂活性化合物的生态要求和经济要求不断增加，例如关于活性谱、毒性、选择性、施用率、残留物的形成和有利的制造的要求，并且由于还可能存在与抗性相关的问题，因此持续需要开发至少在这些方面中的某些方面比已知化合物和组合物具有优势的新的杀真菌化合物和组合物。
技术实现思路
因此，本专利技术提供如本文在下文中记载的杂芳基氨基喹啉及其类似物，其可用作杀微生物剂、优选用作杀真菌剂。活性成分本专利技术提供式(I)的化合物及其盐、N-氧化物、金属络合物、类金属络合物和光学活性异构体或几何异构体，其中·A为5或6元不饱和杂环基环，其包含1、2或3个独立地选自N、O和S的杂原子，其中环A的分别连接至基团B和基团L的两个连接点是相邻碳原子(表示为●)；·B为部分饱和的或不饱和的5元杂环基环，其包含1、2、3或4个独立地选自N、O和S的杂原子；·Q1为CY1或N，其中：Y1选自氢原子、卤素原子、C1-C8-烷基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C1-C8-卤代烷基、C2-C8-烯基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C2-C8-卤代烯基、C2-C8-炔基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C2-C8-卤代炔基、C3-C7-环烷基、C4-C7-环烯基、羟基、C1-C8-烷氧基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C1-C8-卤代烷氧基、甲酰基、氨基、C1-C8-烷基氨基、二-C1-C8-烷基氨基、硫烷基、C1-C8-烷基硫烷基、C1-C8-烷基亚磺酰基、C1-C8-烷基磺酰基、C1-C6-三烷基甲硅烷基、氰基和硝基，其中所述C3-C7-环烷基或C4-C7-环烯基可被一个或多个Ya取代基取代；·Y2、Y3、Y4和Y5独立地选自氢原子、卤素原子、C1-C8-烷基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C1-C8-卤代烷基、C2-C8-烯基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C2-C8-卤代烯基、C2-C8-炔基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C2-C8-卤代炔基、C3-C7-环烷基、C4-C7-环烯基、羟基、C1-C8-烷氧基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C1-C8-卤代烷氧基、甲酰基、氨基、C1-C8-烷基氨基、二-C1-C8-烷基氨基、硫烷基、C1-C8-烷基硫烷基、C1-C8-烷基亚磺酰基、C1-C8-烷基磺酰基、C1-C6-三烷基甲硅烷基、氰基和硝基，其中所述C3-C7-环烷基或C4-C7-环烯基可被一个或多个Ya取代基取代；·Z选自氢原子、卤素原子、羟基、C1-C8-烷基、C2-C8-烯基、C2-C8-炔基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C2-C8-卤代炔基、C1-C8-烷氧基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C1-C8-卤代烷基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C2-C8-卤代烯基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C1-C8-卤代烷氧基、C3-C7-环烷基、C4-C7-环烯基、甲酰基、C1-C8-烷基氨基、二-C1-C8-烷基氨基、硫烷基、C1-C8-烷基硫烷基、C1-C8-烷基亚磺酰基、C1-C8-烷基磺酰基、C1-C6-三烷基甲硅烷基、氰基和硝基；其中所述C3-C7-环烷基或C4-C7-环烯基可被一个或多个Za取代基取代；·m为0、1、2、3或4；·n为0、1、2或3；·L为CR1R2或NR3，其中R1和R2独立地选自氢原子、卤素原子、C1-C8-烷氧基和C1-C8烷基，R3选自氢原子、C1-C8-烷基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C1-C8-卤代烷基、C2-C8-烯基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C2-C8-卤代烯基、C3-C8-炔基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C3-C8-卤代炔基、C3-C7-环烷基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C3-C7-卤代环烷基、C3-C7-环烷基-C1-C8-烷基、C1-C8-烷基羰基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C1-C8-卤代烷基羰基、C1-C8-烷氧基羰基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C1-C8-卤代烷氧基羰基、C1-C8-烷基磺酰基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C1-C8-卤代烷基磺酰基、芳基-C1-C8-烷基和苯基磺酰基，其中所述C3-C7-环烷基、C3-C7-环烷基-C1-C8-烷基、芳基-C1-C8-烷基和苯基磺酰基可被一个或多个R3a取代基取代；·W独立地选自卤素原子、羟基、C1-C8-烷基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C1-C8-卤代烷基、C1-C8-烷氧基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C1-C8-卤代烷氧基、C1-C8-羟基烷基、C1-C8-烷氧基-C1-C8-烷基、C2-C8-烯基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C2-C8-卤代烯基、C2-C8-炔基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C2-C8-卤代炔基、C3-C7-环烷基、C4-C8-环烯基、芳基、芳基-C1-C8-烷基、杂环基、杂环基-C1-C8-烷基、芳氧基、杂芳氧基、芳基硫烷基、芳基亚磺酰基、芳基磺酰基、杂芳基硫烷基、杂芳基亚磺酰基、杂芳基磺酰基、芳基氨基、杂芳基氨基、芳氧基-C1-C8-烷基、杂芳氧基-C1-C8-烷基、芳基硫烷基-C1-C8-烷基、芳基亚磺酰基-C1-C8-烷基、芳基磺酰基-C1-C8-烷基、杂芳基硫烷基-C1-C8-烷基、杂芳基亚磺酰基-C1-C8-烷基、杂芳基磺酰基-C1-C8-烷基、芳基氨基-C1-C8-烷基、杂芳基氨基-C1-C8-烷基、芳基-C1-C8-烷氧基、杂芳基-C1-C8-烷氧基、芳基-C1-C8-烷基硫烷基、芳基-C1-C8-烷基亚磺酰基、芳基-C1-C8-烷基磺酰基、杂芳基-C1-C8-烷基硫烷基、杂芳基-C1-C8-烷基亚磺酰基、杂芳基-C1-C8-烷基磺酰基、芳基-C1-C8-烷基氨基、杂芳基-C1-C8-烷基氨基、甲酰基、C1-C8-烷基羰基、(羟基亚氨基)C1-C8-烷基、(C1-C8-烷氧基亚氨基)C1-C8-烷基、羧基、C1-C8-烷氧基羰基、氨基甲酰基、C1-C8-烷基氨基甲酰基、二-C1-C8-烷基氨基甲酰基、氨基、C1-C8-烷基氨基、二-C1-C8-烷基氨基、硫烷基、C1-C8-烷基硫烷基、C1-C8-烷基亚磺酰基、C1-C8-烷基磺酰基、C1-C6-三烷基甲硅烷基、三(C1-C8-烷基)甲本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.式(I)的化合物及其盐、N-氧化物、金属络合物、类金属络合物和光学活性异构体或几何异构体：/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181018 EP 18201294.81.式(I)的化合物及其盐、N-氧化物、金属络合物、类金属络合物和光学活性异构体或几何异构体：



其中
·A为5或6元不饱和杂环基环，其包含1、2或3个独立地选自N、O和S的杂原子，其中环A的分别连接至基团B和基团L的两个连接点是相邻碳原子；
·B为部分饱和的或不饱和的5元杂环基环，其包含1、2、3或4个独立地选自N、O和S的杂原子；
·Q1为CY1或N，其中：
Y1选自氢原子、卤素原子、C1-C8-烷基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C1-C8-卤代烷基、C2-C8-烯基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C2-C8-卤代烯基、C2-C8-炔基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C2-C8-卤代炔基、C3-C7-环烷基、C4-C7-环烯基、羟基、C1-C8-烷氧基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C1-C8-卤代烷氧基、甲酰基、氨基、C1-C8-烷基氨基、二-C1-C8-烷基氨基、硫烷基、C1-C8-烷基硫烷基、C1-C8-烷基亚磺酰基、C1-C8-烷基磺酰基、C1-C6-三烷基甲硅烷基、氰基和硝基，
其中所述C3-C7-环烷基或C4-C7-环烯基可被一个或多个Ya取代基取代；
·Y2、Y3、Y4和Y5独立地选自氢原子、卤素原子、C1-C8-烷基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C1-C8-卤代烷基、C2-C8-烯基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C2-C8-卤代烯基、C2-C8-炔基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C2-C8-卤代炔基、C3-C7-环烷基、C4-C7-环烯基、羟基、C1-C8-烷氧基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C1-C8-卤代烷氧基、甲酰基、氨基、C1-C8-烷基氨基、二-C1-C8-烷基氨基、硫烷基、C1-C8-烷基硫烷基、C1-C8-烷基亚磺酰基、C1-C8-烷基磺酰基、C1-C6-三烷基甲硅烷基、氰基和硝基，
其中所述C3-C7-环烷基或C4-C7-环烯基可被一个或多个Ya取代基取代；
·Z选自氢原子、卤素原子、羟基、C1-C8-烷基、C2-C8-烯基、C2-C8-炔基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C2-C8-卤代炔基、C1-C8-烷氧基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C1-C8-卤代烷基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C2-C8-卤代烯基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C1-C8-卤代烷氧基、C3-C7-环烷基、C4-C7-环烯基、甲酰基、C1-C8-烷基氨基、二-C1-C8-烷基氨基、硫烷基、C1-C8-烷基硫烷基、C1-C8-烷基亚磺酰基、C1-C8-烷基磺酰基、C1-C6-三烷基甲硅烷基、氰基和硝基；
其中所述C3-C7-环烷基或C4-C7-环烯基可被一个或多个Za取代基取代；
·m为0、1、2、3或4；
·n为0、1、2或3；
·L为CR1R2或NR3，其中
R1和R2独立地选自氢原子、卤素原子、C1-C8-烷氧基和C1-C8烷基，
R3选自氢原子、C1-C8-烷基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C1-C8-卤代烷基、C2-C8-烯基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C2-C8-卤代烯基、C3-C8-炔基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C3-C8-卤代炔基、C3-C7-环烷基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C3-C7-卤代环烷基、C3-C7-环烷基-C1-C8-烷基、C1-C8-烷基羰基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C1-C8-卤代烷基羰基、C1-C8-烷氧基羰基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C1-C8-卤代烷氧基羰基、C1-C8-烷基磺酰基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C1-C8-卤代烷基磺酰基、芳基-C1-C8-烷基和苯基磺酰基，
其中所述C3-C7-环烷基、C3-C7-环烷基-C1-C8-烷基、芳基-C1-C8-烷基和苯基磺酰基可被一个或多个R3a取代基取代；
·W独立地选自卤素原子、羟基、C1-C8-烷基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C1-C8-卤代烷基、C1-C8-烷氧基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C1-C8-卤代烷氧基、C1-C8-羟基烷基、C1-C8-烷氧基-C1-C8-烷基、C2-C8-烯基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C2-C8-卤代烯基、C2-C8-炔基、包含最高达9个可以相同或不同的卤素原子的C2-C8-卤代炔基、C3-C7-环烷基、C4-C8-环烯基、芳基、芳基-C1-C8-烷基、杂环基、杂环基-C1-C8-烷基、芳氧基、杂芳氧基、芳基硫烷基、芳基亚磺酰基、芳基磺酰基、杂芳基硫烷基、杂芳基亚磺酰基、杂芳基磺酰基、芳基氨基、杂芳基氨基、芳氧基-C1-C8-烷基、杂芳氧基-C1-C8-烷基、芳基硫烷基-C1-C8-烷基、芳基亚磺酰基-C1-C8-烷基、芳基磺酰基-C1-C8-烷基、杂芳基硫烷基-C1-C8-烷基、杂芳基亚磺酰基-C1-C8-烷基、杂芳基磺酰基-C1-C8-烷基、芳基氨基-C1-C8-烷基、杂芳基氨基-C1-C8-烷基、芳基-C1-C8-烷氧基、杂芳基-C1-C8-烷氧基、芳基-C1-C8-烷基硫烷基、芳基-C1-C8-烷基亚磺酰基、芳基-C1-C8-烷基磺酰基、杂芳基-C1-C8-烷基硫烷基、杂芳基-C1-C8-烷基亚磺酰基、杂芳基-C1-C8-烷基磺酰基、芳基-C1-C8-烷基氨基、杂芳基-C1-C8-烷基氨基、甲酰基、C1-C8-烷基羰基、(羟基亚氨基)C1-C8-烷基、(C1-C8-烷氧基亚氨基)C1-C8-烷基、羧基、C1-C8-烷氧基羰基、氨基甲酰基、C1-C8-烷基氨基甲酰基、二-C1-C8-烷基氨基甲酰基、氨基、C1-C8-烷基氨基、二-C1-C8-烷基氨基、硫烷基、C1-C8-烷基硫烷基、C1-C8-烷基亚磺酰基、C1-C8-烷基磺酰基...

【专利技术属性】
技术研发人员：P·克里斯托，P·德斯博德斯，J·杜弗尔，M·古尔格斯，D·洛克，S·诺德，V·托马斯，
申请(专利权)人：拜耳公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE