一种基于超薄掺杂金属/介质复合结构的电磁屏蔽曲面光学窗制造技术

一种基于超薄掺杂金属/介质复合结构的电磁屏蔽曲面光学窗属于光学透明件电磁屏蔽领域。该曲面透明电磁屏蔽器件在曲面衬底上依次沉积介质膜和超薄金属薄膜形成复合结构，并利用共掺杂沉积方法在超薄厚度条件下得到表面连续、粗糙度极低的高质量掺杂金属膜，为大尺寸曲面光窗电磁屏蔽提供了新型解决途径。由于超薄掺杂金属薄膜与介质膜厚度均在几十纳米以下，远远小于微波段电磁波波长，可以提供稳定的强电磁反射，极大地拓宽了电磁屏蔽带宽，解决金属网栅结构由于周期性开孔电磁屏蔽带宽严重受限的问题。同时，通过调控超薄金属/介质单元数量控制复合结构的透光率和电磁屏蔽效率，并实现宽频带范围内的强电磁屏蔽。进一步，通过设计超薄掺杂金属与介质单元厚度与单元数的组合实现复合结构对可见光的耦合传输，实现良好的光学通透性。

【技术实现步骤摘要】
一种基于超薄掺杂金属/介质复合结构的电磁屏蔽曲面光学窗
本专利技术属于光学透明件电磁屏蔽领域，特别涉及一种基于超薄掺杂金属/介质复合结构的电磁屏蔽曲面光学窗。
技术介绍
从广播、电视、雷达、卫星通讯与导航、移动通信到无线定位、医疗诊断等，电磁波技术广泛应用于人们日常生活和生产的各个领域。尤其是伴随着电磁波通讯技术的不断发展，发射和接收电磁波的终端设备成数量级的增长，电磁波应用波段不断被展宽，并且电磁波发射功率不断增强，造成了日益严重的电磁污染问题。其影响之一是，电磁辐射波谱的展宽和电磁辐射功率的增强带来了严重的电磁干扰，极大地影响了电子系统的稳定性并带来了相应的电子安全性问题，同时也会给人体健康带来危害。电磁干扰通常可以通过密闭金属壳体或者涂覆吸波材料解决，然而，该方法不能解决需要视觉观测场合下的电磁干扰屏蔽—也就是透明电磁屏蔽，这也是电磁屏蔽领域的一个公认的热点和难点问题。其实际应用方面，包括一切同时需要满足视觉可见和电磁隔离的场合，如航空航天设备中飞行器/卫星光窗、舰船/汽车光窗、光学仪器光窗、商用高精度仪器的显示设备，医用本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于超薄掺杂金属/介质复合结构的电磁屏蔽曲面光学窗，其特征在于：所述的电磁屏蔽曲面光学窗由N个超薄掺杂金属/介质单元依次堆叠在曲面衬底(1)组成，超薄掺杂金属/介质单元由一层超薄掺杂金属和一层介质相邻层叠构成，其中1≤N≤6。/n

【技术特征摘要】
1.一种基于超薄掺杂金属/介质复合结构的电磁屏蔽曲面光学窗，其特征在于：所述的电磁屏蔽曲面光学窗由N个超薄掺杂金属/介质单元依次堆叠在曲面衬底(1)组成，超薄掺杂金属/介质单元由一层超薄掺杂金属和一层介质相邻层叠构成，其中1≤N≤6。


2.根据权利要求1所述的一种基于超薄掺杂金属/介质复合结构的电磁屏蔽曲面光学窗，其特征在于：曲面光学窗中曲面衬底(1)的面形为球面、球冠面、圆柱面或共形曲面。


3.根据权利要求1所述的一种基于超薄掺杂金属/介质复合结构的电磁屏蔽曲面光学窗，其特征在于：曲面光学窗的制作方法为采用电子束蒸发镀膜、热蒸发镀膜或者直流、磁控溅射镀膜等沉积方式按设计顺序依次在曲面衬底表面沉积介质膜和超薄金属薄膜；其中超薄掺杂金属采用金属共掺杂沉积方式在主要金属沉积过程中按一定速率不断掺入少量掺杂金属，通过控制主要金属与掺杂金属电子束功率或者溅射功率改变两者的原子沉积速率比，最终控制超薄掺杂金属中主要和掺杂金属元素的原子浓度比例。


4.根据权利要求1所述的一种基于超薄掺杂金属/介质复合结构的电磁屏蔽曲面光学窗，其特征在于：超薄掺杂金属/介质单元中超薄掺杂金属的厚度小于等于30nm，并且大于等于4nm；超薄掺杂金属由两种或两种以上金属材料通过共沉积的方式形成，其中主要金属元素的原子浓度占比大于等于85％，掺杂金属元素的总原子浓度占比小于等于15％。


5.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：王赫岩，陆振刚，谭久彬，
申请(专利权)人：哈尔滨工业大学，
类型：发明
国别省市：黑龙江;23