承载调节结构和测序系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种承载调节结构和测序系统，承载调节结构包括承载模块、一级调节结构和二级调节结构，所述承载模块设置在所述一级调节结构上，所述一级调节结构设置在所述二级调节结构上，所述承载模块用于承载反应器，所述二级调节结构包括第一平面，所述二级调节结构用于调节以使所述第一平面与预设轴线满足第一预设位置关系，所述一级调节结构用于调节以使所述反应器的表面与所述第一平面满足第二预设位置关系。上述承载调节结构，通过两级调节结构，可将反应器的平面调节到与预设轴线满足预设位置关系，因此，基于预设轴线来设定其它装置或组件时，可以使得反应器的平面与其它装置或组件之间的位置关系调节到期望的位置关系，满足了测序的要求。

【技术实现步骤摘要】
承载调节结构和测序系统
本技术涉及基因测序
，特别涉及一种承载调节结构和测序系统。
技术介绍
随着核酸测序技术的不断发展，测序系统也不断更新。在基于光学成像系统检测反应器中的待测核酸分子的测序系统/测序平台中，测序系统包括成像组件，利用成像组件对测序反应时的反应器(例如芯片)中的核酸分子进行拍摄，并分析拍摄所得的图像进而得到测序结果。一般地，要实现对焦和/或追焦以采集多个时间点的芯片上的一个或多个位置/视野的图像，要求测序平台上安装的芯片与成像组件满足或者说保持相对的位置关系。通常地，测序系统包括有承载芯片和/或调节芯片位置用的承载调节结构。如何设计或改进该结构以保证置入测序系统的芯片位于合适位置和/或在测序过程中始终位于相对合适位置以满足测序要求，成为待解决的问题。
技术实现思路
本技术提供一种承载调节结构和测序系统。本技术实施方式的一种承载调节结构，包括承载模块、一级调节结构和二级调节结构，所述承载模块设置在所述一级调节结构上，所述一级调节结构设置在所述二级调节结构上，所述承载模块用于承载反应器本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种承载调节结构，其特征在于，包括承载模块、一级调节结构和二级调节结构，所述承载模块设置在所述一级调节结构上，所述一级调节结构设置在所述二级调节结构上，所述承载模块用于承载反应器，所述二级调节结构包括第一平面，所述二级调节结构用于调节以使所述第一平面与预设轴线满足第一预设位置关系，所述一级调节结构用于调节以使所述反应器的表面与所述第一平面满足第二预设位置关系，所述第一预设位置关系为倾斜，所述第二预设位置关系为倾斜。/n

【技术特征摘要】
1.一种承载调节结构，其特征在于，包括承载模块、一级调节结构和二级调节结构，所述承载模块设置在所述一级调节结构上，所述一级调节结构设置在所述二级调节结构上，所述承载模块用于承载反应器，所述二级调节结构包括第一平面，所述二级调节结构用于调节以使所述第一平面与预设轴线满足第一预设位置关系，所述一级调节结构用于调节以使所述反应器的表面与所述第一平面满足第二预设位置关系，所述第一预设位置关系为倾斜，所述第二预设位置关系为倾斜。


2.根据权利要求1所述的承载调节结构，其特征在于，所述二级调节结构包括第一调节板、第一调节件和支撑件，所述第一调节板设有所述第一平面，所述支撑件设有斜面，所述第一调节板设于所述斜面上，所述第一调节件连接所述支撑件并用于带动所述支撑件移动以调节所述第一调节板在所述斜面上的位置。


3.根据权利要求2所述的承载调节结构，其特征在于，所述二级调节结构包括基板，所述第一调节件和所述支撑件设置在所述基板，所述第一调节板位于所述基板上，所述第一调节件带动所述支撑件时调节所述第一平面相对于所述基板的俯仰角度。


4.根据权利要求3所述的承载调节结构，其特征在于，所述二级调节结构包括连接件、第一配合件和第二配合件，所述连接件连接所述第一调节板和所述基板，所述第一配合件...

【专利技术属性】
技术研发人员：张松振，郑焦，王光明，姜泽飞，周志良，颜钦，
申请(专利权)人：深圳市真迈生物科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44