一种地下暗涵工程沉降变形及地下水位监测两用测点制造技术

本发明专利技术涉及工程安全监测技术领域，具体涉及一种地下暗涵工程沉降变形及地下水位监测两用测点，包括基座，设于暗涵结构的顶部；管件，一端固定安装在基座内，另一端延伸至接近地面，在管件上设有透水结构；监测结构，设于管件远离所述暗涵结构的一端，适于通过管件的高程变化监测暗涵结构的沉降变形量和通过管件内的水位监测地下水位。在管件上设置透水结构，使得地下水可以进入至管件内，通过测量管件内的水位实现地下水位监测，使得该地下暗涵工程沉降变形及地下水位监测两用测点可以同时监测沉降变形值和地下水位，不需要在单独设置一个地下水位监测井。从而减小了监测设施埋设成本，尤其是钻孔成本，也降低了维护成本。

【技术实现步骤摘要】
一种地下暗涵工程沉降变形及地下水位监测两用测点
本专利技术涉及工程安全监测
，具体涉及一种地下暗涵工程沉降变形及地下水位监测两用测点。
技术介绍
由于水资源的分布不均，再加上不同的区域对水的需求不同，越来越多的国家或区域采用了调水输水的工程来解决对水的需求问题。为了保证输水工程的安全和正常运行，需要设置变形观测点，来监测输水工程的变形。目前对于地下输水暗涵结构，因多采用暗挖或盾构法施工，且埋设深度大，难以在其表面安装测点直接进行观测，多采用在结构上方的土体中浇筑混凝土观测墩，通过测量土体变形间接测量暗涵结构的变形量。但采用这种方法观测到的沉降为暗涵上部土体沉降，由于土体本身的不稳定性，从而对暗涵沉降监测结果产生直接影响。地下水位是影响地下输水暗涵结构运行状态的重要因素，多采用钻孔的方式埋设单独的地下水位监测设施，进行工程部位地下水位监测。但是在进行沉降变形和地下水位观测时，通常需要设置两个观测点，进行单独测量，因此，需要投入大量的人力物力，增加了钻孔成本，同时也增加了维护成本。
技术实现思路
因此，本专利技术要解决的技术问题在于克服现有技术中的在进行沉降变形和地下水位监测时，需要设置两个观测点单独测量的缺陷，从而提供一种地下暗涵工程沉降变形及地下水位监测两用测点。为了解决上述技术问题，本专利技术提供了一种地下暗涵工程沉降变形及地下水位监测两用测点，包括基座，设于暗涵结构的顶部；管件，一端固定安装在所述基座内，另一端延伸至地面，在所述管件上设有透水结构；监测结构，设于所述管件远离所述暗涵结构的一端，适于通过所述管件的高程变化监测所述暗涵结构的沉降变形量和通过管件内的水位监测地下水位。可选的，所述管件的外壁上设有反滤结构，所述反滤结构的安装位与所述透水结构的设置位相对应。可选的，所述透水结构为设于所述管件上的通孔。可选的，所述管件包括底部安装在基座内的芯管和套设在所述芯管外壁上的套管，所述透水结构设于所述芯管和套管上。可选的，所述监测结构包括变形测量标志和位于监测结构中心的水位观测孔。可选的，所述反滤结构由土工无纺布和铜丝网组成。可选的，还包括设于所述芯管和套管之间的支撑结构，所述支撑结构沿所述芯管的轴向间隔设置。可选的，所述管件与所述基座安装的一端设有锚固件，所述锚固件设于所述基座中。可选的，接近所述地面的位置设有用于保护所述管件和所述监测结构的保护井，在所述保护井上设有保护盖。本专利技术技术方案，具有如下优点：1.本专利技术提供的地下暗涵工程沉降变形及地下水位监测两用测点，包括基座，设于暗涵结构的顶部；管件，一端固定安装在所述基座内，另一端延伸至接近地面，在所述管件上设有透水结构；监测结构，设于所述管件远离所述暗涵结构的一端，适于通过所述管件的高程变化监测所述暗涵结构的沉降变形量和通过管件内的水位监测地下水位。基座设置在暗涵结构的上表面，并且不破坏暗涵结构，管件安装在基座的中心部分，基座起到了固定管件的作用，并将暗涵结构与管件连接成为一个整体，通过管件的顶端的监测结构的高程，从而观测暗涵结构的高程变化，充分保证观测沉降变形量值的准确性。同时，由于变形监测点直接作用于地下暗涵结构，建立可靠、有效的地下暗涵结构变形观测点，可直接进行地下暗涵结构的沉降变形观测，减少了暗涵结构顶部土体变形对观测结果的影响。并且在管件上设置透水结构，使得地下水可以进入至管件内，然后再利用监测结构中，观测地下水位，使得该地下暗涵工程沉降变形及地下水位监测两用测点可以同时用于监测地下暗涵结构沉降变形值和地下水位，不需要再单独设置一个地下水位监测井。从而减小了监测设施埋设成本，尤其是钻孔成本，同时也降低了维护成本及设施占地成本。2.本专利技术提供的地下暗涵工程沉降变形及地下水位监测两用测点，所述管件的外壁上设有反滤结构，所述反滤结构的安装位与所述透水结构的设置位相对应。反滤结构可以有效的避免地下土壤中的杂质进入至管件内，而影响对地下水位监测的准确值。附图说明为了更清楚地说明本专利技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术提供的一种地下暗涵工程沉降变形及地下水位监测两用测点的结构示意图。1-暗涵结构；2-基座；3-管件；4-套管；5-套管透水段；6-芯管；7-芯管透水段；8-水位观测孔；9-沉降变形观测标点；10-监测结构；11-反滤结构；12-支撑结构；13-锚固件；14-保护井；15-保护盖。具体实施方式下面将结合附图对本专利技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。在本专利技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本专利技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。请参阅图1所示，本专利技术实施例提供的一种地下暗涵工程沉降变形及地下水位监测两用测点，包括基座2，设于暗涵结构1的顶部；管件3，一端固定安装在所述基座2内，另一端延伸至接近地面，在所述管件3上设有透水结构；监测结构10，设于所述管件3远离所述暗涵结构1的一端，适于通过所述管件3的高程变化监测所述暗涵结构1的沉降变形量和通过管件3内的水位监测地下水位。基座2设置在暗涵结构1的上表面，并且不破坏暗涵结构1上表面的结构，管件3安装在基座2的中心部分，基座2起到了固定管件3的作用；将暗涵结构1与基座2和管件3连接成为一个整体，通过管件3的顶端的监测结构10的高程，从而观测暗涵结构1的高程变化，充分保证观测沉降变形量值的准确性。同时，由于变形监测点直接作用于地下暗涵结构，建立可靠、有效的地下暗涵结构变形观测点，可直接进行地下暗涵结构的沉降变形观测，减少了暗涵结构顶部土体变形对观测结果的影响。并且在管件3上设置透水结构，使得地下水可以进入至管件3内，然后再利用监测结构10监测沉降变形量值，同时，还可以利用该监测结构监测地下水位本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种地下暗涵工程沉降变形及地下水位监测两用测点，其特征在于，包括：/n基座(2)，设于暗涵结构(1)的顶部；/n管件(3)，一端固定安装在所述基座(2)内，另一端延伸至接近地面，在所述管件(3)上设有透水结构；/n监测结构(10)，设于所述管件(3)远离所述暗涵结构(1)的一端，适于通过所述管件(3)的高程变化监测所述暗涵结构(1)的沉降变形量和通过管件内的水位监测地下水位。/n

【技术特征摘要】
1.一种地下暗涵工程沉降变形及地下水位监测两用测点，其特征在于，包括：
基座(2)，设于暗涵结构(1)的顶部；
管件(3)，一端固定安装在所述基座(2)内，另一端延伸至接近地面，在所述管件(3)上设有透水结构；
监测结构(10)，设于所述管件(3)远离所述暗涵结构(1)的一端，适于通过所述管件(3)的高程变化监测所述暗涵结构(1)的沉降变形量和通过管件内的水位监测地下水位。


2.根据权利要求1所述的地下暗涵工程沉降变形及地下水位监测两用测点，其特征在于，所述管件(3)的外壁上设有反滤结构(11)，所述反滤结构(11)的安装位与所述透水结构的设置位相对应。


3.根据权利要求2所述的地下暗涵工程沉降变形及地下水位监测两用测点，其特征在于，所述透水结构为设于所述管件(3)上的通孔。


4.根据权利要求2或3所述的地下暗涵工程沉降变形及地下水位监测两用测点，其特征在于，所述管件(3)包括安装在基座(2)内的芯管(6)和套设在所述芯管(6)外壁上的套管(4)，所述透水结构设于所述芯管(6)和套管(4)上。
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【专利技术属性】
技术研发人员：智泓，鲍维猛，尤洋，马春丹，谢文杰，陈新，王晓慧，王长保，刘卫东，王远航，王建慧，侯德，
申请(专利权)人：北京市水科学技术研究院，
类型：发明
国别省市：北京;11