曝光设备制造技术

本实用新型专利技术公开一种曝光设备。曝光设备用来对设置于一金属滚轮的一外表面的一光阻层曝光，使光阻层形成一图案化光阻层，曝光设备包括间隔地环绕设置于金属滚轮的一环状光罩以及呈环形并间隔地设置于环状光罩的一曝光装置，并且环状光罩以及曝光装置均能用来沿金属滚轮的一轴心方向任意移动。曝光装置用来对光阻层曝光，而曝光装置发射的一初始光线通过环状光罩后形成图案化光线，并且图案化光线能用来照射光阻层，使光阻层形成图案化光阻层。本实用新型专利技术的其中一个有益效果在于，本实用新型专利技术所提供的曝光设备能通过“环状光罩以及环形并间隔地设置于环状光罩的曝光装置”，使光阻层的各部位皆能受到完整地曝光。

【技术实现步骤摘要】
曝光设备
本技术涉及一种曝光设备，特别是涉及一种环绕式曝光设备。
技术介绍
现有的滚轮曝光设备往往仅能以单个曝光装置对一金属滚轮的外表面的一光阻层进行曝光。由于单个所述曝光装置的照射面积有限，导致所述曝光装置在曝光时需要螺旋地环绕所述金属滚轮，并沿着所述金属滚轮的一轴心方向移动；或者在所述曝光装置沿着所述金属滚轮的所述轴心方向移动时，使所述金属滚轮不停地转动，以使所述曝光装置能对所述光阻层进行完整地曝光。然而，上述曝光装置照射所述光阻层的方法不仅耗时，而且在所述曝光装置照射的过程中，由于所述曝光装置不断地相对所述金属滚轮移动，所述光阻层将可能没有足够的曝光时间，导致所述光阻层没有完整地被曝光，最终使所述金属滚轮于后续的其他制程中良率降低。鉴于此，如何通过结构设计的改进来克服上述的缺陷，已成为本领域所欲解决的重要课题之一。
技术实现思路
本技术实施例在于提供一种曝光设备，其用以改善现有技术的不足。本技术的其中一个实施例公开一种曝光设备，用来对设置于一金属滚轮的一外表面的一光阻层曝光，使所述光阻层形成一图案化本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种曝光设备，其特征在于，所述曝光设备用来对设置于一金属滚轮的一外表面的一光阻层曝光，使所述光阻层形成一图案化光阻层，所述曝光设备包括：/n一环状光罩，用来间隔地环绕设置于所述金属滚轮，并且所述环状光罩能用来沿所述金属滚轮的一轴心方向任意移动；以及/n一曝光装置，呈环形并间隔地设置于所述环状光罩，并且所述曝光装置能用来沿所述金属滚轮的所述轴心方向任意移动；其中，所述曝光装置用来对所述光阻层曝光，而所述曝光装置发射的一初始光线通过所述环状光罩后形成一图案化光线，并且所述图案化光线能用来照射所述光阻层，使所述光阻层形成所述图案化光阻层。/n

【技术特征摘要】
1.一种曝光设备，其特征在于，所述曝光设备用来对设置于一金属滚轮的一外表面的一光阻层曝光，使所述光阻层形成一图案化光阻层，所述曝光设备包括：
一环状光罩，用来间隔地环绕设置于所述金属滚轮，并且所述环状光罩能用来沿所述金属滚轮的一轴心方向任意移动；以及
一曝光装置，呈环形并间隔地设置于所述环状光罩，并且所述曝光装置能用来沿所述金属滚轮的所述轴心方向任意移动；其中，所述曝光装置用来对所述光阻层曝光，而所述曝光装置发射的一初始光线通过所述环状光罩后形成一图案化光线，并且所述图案化光线能用来照射所述光阻层，使所述光阻层形成所述图案化光阻层。


2.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述环状光罩与所述光阻层之间具有介于10微米至30微米的一光罩距离。


3.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述环状光罩包含一透明部以及设置于所述透明部的相对远离所述曝光装置的一侧的多个反射部；其中，多个所述反射部用来反射所述曝光装置所发射的所述初始光线的一部分。


4.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述环状光罩包含一透明部以及位于所述透明部的相对远离所述曝光装置的一侧的多个凹陷部；其中，任一个所述凹陷部用来减少所述透明部的厚度。


5.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述曝光装置包含间隔地环绕设置于所述金属滚轮的一环状件以及间隔地设置于所述环状件的一曝光件，并且所述曝光件能用来对所述光阻层曝光；其中，所述环状件能用来使所述曝光件所发出的光环绕地照射于所述光阻层。


6.根据权利要求5所述的曝光设备，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：林刘恭，
申请(专利权)人：光群雷射科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾;71