不包含磷酸的蚀刻液组合物以及利用上述蚀刻液组合物的金属布线的形成方法技术

本发明专利技术公开一种在有机发光二极管(OLED)像素制造中使用的不包含磷酸的蚀刻液组合物以及利用上述蚀刻液组合物的金属布线形成方法。具体来讲，涉及一种通过在金属布线的制造工程中将金属膜蚀刻成特定图案而形成金属布线的蚀刻液组合物。上述蚀刻液组合物包含：羧基化合物40至60重量％、磺酸化合物1至4.9重量％、硝酸盐化合物10至20重量％、唑类化合物0.1至1重量％、以及余量的水。

【技术实现步骤摘要】
不包含磷酸的蚀刻液组合物以及利用上述蚀刻液组合物的金属布线的形成方法
本专利技术涉及一种不包含磷酸的蚀刻液组合物以及利用上述蚀刻液组合物的金属布线的形成方法，尤其涉及一种适用于有机发光二极管(OLED)像素的不包含磷酸的蚀刻液组合物以及利用上述蚀刻液组合物的金属布线的形成方法。
技术介绍
在现代社会，用于对多种多样的大量信息进行处理并对上述信息进行显示的显示装置正在快速发展。而且为了表现出信息的多样性以及上述信息中所包含的数据，显示装置也得到了多样化的发展。显示装置从阴极射线管(CRT，Cathode-raytube)时代快速发展到了目前被广泛使用的液晶显示装置(LCD，LiquidCrystalDisplaydevice)、有机发光二极管(OLED，OrganicLightEmittingDiodes)等。在从阴极射线管(CRT)发展到液晶显示装置(LCD)以及有机发光二极管(OLED)的过程中，显示屏的适用范围也变得越来越广泛，因此构成显示装置的材料也随之一起发展。虽然目前显示屏市场的主流趋势(Trend)仍然是以液晶显示装本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蚀刻液组合物，其特征在于，包含：/n羧基化合物40至60重量％；/n磺酸化合物1至4.9重量％；/n硝酸盐化合物10至20重量％；/n唑类化合物0.1至1重量％；以及/n余量的水。/n

【技术特征摘要】
20191112 KR 10-2019-01444331.一种蚀刻液组合物，其特征在于，包含：
羧基化合物40至60重量％；
磺酸化合物1至4.9重量％；
硝酸盐化合物10至20重量％；
唑类化合物0.1至1重量％；以及
余量的水。


2.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于：
上述蚀刻液组合物不包含磷酸。


3.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于：
上述唑类化合物是从由唑、咪唑、吡唑、氨基噻唑、乙内酰脲、苯并三唑以及它们的混合物构成的组中选择的至少1种以上。


4.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于：
上述硝酸盐化合物是从由硝酸(HNO3)、硝酸钾(KNO3)、硝酸铵(NH4NO3)、硝酸钠(NaNO3)、硝酸铁(Fe(NO3)3)以及它们的混合物构成的组中选择的至少2种以上。


5.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于：
上述羧...

【专利技术属性】
技术研发人员：李大雨，申贤哲，李相赫，金奎怖，
申请(专利权)人：东进世美肯株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国;KR