一种磁控溅射卷绕设备的镀膜室装置制造方法及图纸

本公开的实施例提供了一种磁控溅射卷绕镀膜设备的镀膜室。所述镀膜室包括镀膜辊，用于支撑被供给的基材，以进行镀膜处理；输入导辊，其设置在所述镀膜辊的上游侧，基材经所述输入导辊供给至所述镀膜辊；输出导辊，其设置在所述镀膜辊的下游侧，镀膜处理后的基材经所述输出导辊输出；和，腔室，其用于容纳所述镀膜辊、输入导辊和输出导辊，并在其侧壁安装多个朝向所述镀膜辊的阴极，所述输入导辊和输出导辊均设置在所述镀膜辊的下侧。以此方式，可以改善阴极间的隔离效果并防止废渣污染靶材表面；改善磁控溅射卷绕镀膜设备使用维护的便捷性，缩短了维护操作时间，进而提省了生产效率；缩小了腔室容积，节省抽气和布气的时间和能源成本。

【技术实现步骤摘要】
一种磁控溅射卷绕设备的镀膜室装置
本公开的实施例一般涉及镀膜设备
，并且更具体地，涉及一种磁控溅射卷绕设备的镀膜室装置。
技术介绍
真空卷绕镀膜技术发展至今，技术比较成熟且应用领域很多，尤其在传统的包装镀膜行业中应用最广，主要技术原理有溅射镀膜、蒸发镀膜及离子镀膜等。其中溅射镀膜中的磁控溅射镀膜以其膜基结合牢度好、效率高、无污染等优点被广泛应用。磁控溅射为了在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率，通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射效率。磁控溅射的原理是：将基材和靶材安装于真空室内，在处于低压状态气体的辉光放电中形成正、负离子及电子。正离子轰击作为阴极的靶材，使靶材原子被溅射出来，在基材上形成薄膜，从而实现基材的各种功能化。如附图图1所示，现有的磁控溅射卷绕镀膜设备包括镀膜室10和隔离室12，镀膜室10横截面结构均为矩形结构，镀膜辊16在镀膜室10的腔室中间靠上的位置，阴极围绕镀膜辊轴线均布在水平中线以下区域，阴极之间有阴极隔离挡板18。基材从腔室侧壁的顶端入口14进入本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种磁控溅射卷绕镀膜设备的镀膜室，其特征在于，包括/n镀膜辊，用于支撑被供给的基材，以进行镀膜处理；/n输入导辊，其设置在所述镀膜辊的上游侧，基材经所述输入导辊供给至所述镀膜辊；/n输出导辊，其设置在所述镀膜辊的下游侧，镀膜处理后的基材经所述输出导辊输出；和/n腔室，其用于容纳所述镀膜辊、输入导辊和输出导辊，并在其侧壁安装多个朝向所述镀膜辊的阴极；/n所述输入导辊和输出导辊均设置在所述镀膜辊的下侧。/n

【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射卷绕镀膜设备的镀膜室，其特征在于，包括
镀膜辊，用于支撑被供给的基材，以进行镀膜处理；
输入导辊，其设置在所述镀膜辊的上游侧，基材经所述输入导辊供给至所述镀膜辊；
输出导辊，其设置在所述镀膜辊的下游侧，镀膜处理后的基材经所述输出导辊输出；和
腔室，其用于容纳所述镀膜辊、输入导辊和输出导辊，并在其侧壁安装多个朝向所述镀膜辊的阴极；
所述输入导辊和输出导辊均设置在所述镀膜辊的下侧。


2.如权利要求1所述的镀膜室，其特征在于：
所述腔室包括腔室主体和腔室上盖，其中，
所述腔室主体形成为顶部开放的箱体，顶部开口形成有主体法兰；
所述腔室上盖形成为底部开放的罩盖，具有与所述镀膜辊的切面平行设置的多个倾斜壁板，底部开口形成与所述主体法兰配合的上盖法兰。


3.根据权利要求2所述的镀膜室，其特征在于，
在所述腔室主体的侧壁和/或所述腔室上盖的倾斜壁板形成有用于安装所述阴极的安装开口，所述安装开口形成有腔体法兰；
所述阴极具有与所述腔体法兰匹配的阴极法兰。


4.根据权利要求3所述的镀膜室，其特征在于，
所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：余荣沾，王忠雨，袁世成，张欣，于小杰，
申请(专利权)人：广东欣丰科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44