阵列基板及其制作方法、显示装置制造方法及图纸

技术编号:28557358 阅读:19 留言:0更新日期:2021-05-25 17:51
本发明专利技术提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置,该阵列基板包括:按照行列方式排布的第一子像素和第二子像素,第一子像素包括第一像素电极,第一像素电极上设置有多个并列排布的第一狭缝,第二子像素包括第二像素电极,第二像素电极上设置有多个并列排布的第二狭缝,第一狭缝相对于参考方向具有第一倾斜角度,第二狭缝相对于参考方向具有第二倾斜角度,第一倾斜角度和第二倾斜角度互补,参考方向为阵列基板的栅线的一延伸方向;同一行中包括至少一个第一子像素和至少一个第二子像素,和/或,同一列中包括至少一个第一子像素和至少一个第二子像素。本发明专利技术中,可以避免色偏以及因同一行或者同一列的子像素倾斜角度相同导致出现的横纹或竖纹。

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及其制作方法、显示装置
本专利技术实施例涉及显示
,尤其涉及一种阵列基板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
液晶显示装置(LiquidCrystalDisplay,LCD)为当前最主流的显示装置之一。目前液晶显示装置的像素结构主要有单畴和双畴两种方式。单畴像素结构的液晶显示装置具有较高的透过率,但存在色偏问题,特别是在大视角下对比度下降严重。为了解决单畴像素结构的液晶显示装置出现的色偏问题,可以将像素结构设计多为双畴结构,双畴结构的液晶显示装置受到取向材料(聚酰亚胺,PI)的锚定作用影响,液晶(LC)初始化状态呈单一取向排列,当薄膜晶体管(ThinFilmTransistor,TFT)打开后,受驱动电场影响,液晶实现双畴效果。双畴像素结构通过畴的互补作用,可以抑制灰阶反转和色偏。但双畴结构的像素的像素电极的中间拐角处电场紊乱,导致液晶排列紊乱,形成暗纹区。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置,用于解决现有的液晶显示装置存在色偏或者存在暗纹区的问题。为了解决上述技术问题,本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:按照行列方式排布的第一子像素和第二子像素,所述第一子像素包括第一像素电极,所述第一像素电极上设置有多个并列排布的第一狭缝,所述第二子像素包括第二像素电极,所述第二像素电极上设置有多个并列排布的第二狭缝,所述第一狭缝相对于参考方向具有第一倾斜角度,所述第二狭缝相对于所述参考方向具有第二倾斜角度,所述第一倾斜角度和所述第二倾斜角度互补,所述参考方向为所述阵列基板的栅线的一延伸方向;/n同一行中包括至少一个所述第一子像素和至少一个所述第二子像素,和/或,同一列中包括至少一个所述第一子像素和至少一个所述第二子像素。/n

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:按照行列方式排布的第一子像素和第二子像素,所述第一子像素包括第一像素电极,所述第一像素电极上设置有多个并列排布的第一狭缝,所述第二子像素包括第二像素电极,所述第二像素电极上设置有多个并列排布的第二狭缝,所述第一狭缝相对于参考方向具有第一倾斜角度,所述第二狭缝相对于所述参考方向具有第二倾斜角度,所述第一倾斜角度和所述第二倾斜角度互补,所述参考方向为所述阵列基板的栅线的一延伸方向;
同一行中包括至少一个所述第一子像素和至少一个所述第二子像素,和/或,同一列中包括至少一个所述第一子像素和至少一个所述第二子像素。


2.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,同一行中,所述第一子像素和所述第二子像素交替设置。


3.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,同一行中,包括第一子像素组和第二子像素组,所述第一子像素组和所述第二子像素组交替排布,所述第一子像素组包括n个连续设置的所述第一子像素,所述第二子像素组包括n个连续设置的所述第二子像素,n为大于或等于2的整数。


4.如权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,n为3的倍数。


5.如权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,n为3,所述第一子像素组中的三个所述第一子像素组成一像素单元,所述第二子像素组的三个所述第二子像素组成一像素单元。


6.如权利要求5所述的阵列基板,其特征在于,

【专利技术属性】
技术研发人员:张新霞杨波耿蒙李群
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司合肥鑫晟光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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