【技术实现步骤摘要】
显示设备及其制造装置和方法、掩模组件及其制造方法相关申请的交叉引用本申请要求于2019年11月21日在韩国知识产权局提交的第10-2019-0150484号韩国专利申请、于2020年4月29日在韩国知识产权局提交的第10-2020-0052893号韩国专利申请以及于2020年8月14日在韩国知识产权局提交的第10-2020-0102708号韩国专利申请的优先权和利益，这些专利申请中的每一个的公开内容通过引用整体并入本文。
一个或多个示例实施例的方面涉及显示设备、掩模组件、制造该掩模组件的方法、用于制造该显示设备的装置以及制造该显示设备的方法。
技术介绍
移动电子设备被广泛地使用。近年来，除了诸如移动电话的小型电子设备以外，平板个人计算机(PC)作为移动电子设备已经被广泛地使用。为了支持各种功能，这种移动电子设备通常包括用于向用户提供诸如图像或视频的视觉信息的显示设备。近年来，随着用于驱动这种显示设备的部件已经被小型化，显示设备在电子设备中所占的面积已经逐渐增加。而且，已经开发出一种可以被弯曲以相对于平...
【技术保护点】
1.一种显示设备，包括：/n基板，包括第一显示区域和第二显示区域，所述第一显示区域包括透射区域，并且所述第二显示区域被布置为包围所述第一显示区域的至少一部分；/n第一像素，在所述第一显示区域中，并且包括第一像素电极、第一中间层和第一对电极；以及/n第二像素，在所述第二显示区域中，并且包括第二像素电极、第二中间层和第二对电极，/n其中，所述第一中间层和所述第二中间层中的每一个包括在其处其厚度是恒定的分段以及在其处其所述厚度是可变的分段，并且在其处所述第一中间层的所述厚度是可变的分段和在其处所述第二中间层的所述厚度是可变的分段中的一个的第一长度不同于在其处所述第一中间层的所述厚...
【技术特征摘要】
20191121 KR 10-2019-0150484;20200429 KR 10-2020-001.一种显示设备，包括：
基板，包括第一显示区域和第二显示区域，所述第一显示区域包括透射区域，并且所述第二显示区域被布置为包围所述第一显示区域的至少一部分；
第一像素，在所述第一显示区域中，并且包括第一像素电极、第一中间层和第一对电极；以及
第二像素，在所述第二显示区域中，并且包括第二像素电极、第二中间层和第二对电极，
其中，所述第一中间层和所述第二中间层中的每一个包括在其处其厚度是恒定的分段以及在其处其所述厚度是可变的分段，并且在其处所述第一中间层的所述厚度是可变的分段和在其处所述第二中间层的所述厚度是可变的分段中的一个的第一长度不同于在其处所述第一中间层的所述厚度是可变的所述分段和在其处所述第二中间层的所述厚度是可变的所述分段中的另一个的第二长度。
2.根据权利要求1所述的显示设备，其中，
所述第一长度和所述第二长度中的一个小于所述第一长度和所述第二长度中的另一个。
3.根据权利要求1所述的显示设备，其中，
由所述第一显示区域提供的图像的分辨率不同于由所述第二显示区域提供的图像的分辨率。
4.根据权利要求1所述的显示设备，进一步包括：
部件，在所述基板的一个表面上以与所述第一显示区域相对应，并且包括发射或接收光的电子元件。
5.根据权利要求1所述的显示设备，其中，
所述第一显示区域的透光率不同于所述第二显示区域的透光率。
6.根据权利要求1所述的显示设备，其中，
所述第一中间层的平面形状的尺寸大于或等于所述第二中间层的平面形状的尺寸。
7.一种包括掩模片的掩模组件，其中，所述掩模片包括：
第一区域，包括至少一个第一图案孔；
第二区域，包括至少一个第二图案孔；以及
突出部分，在所述第一图案孔的内表面或所述第二图案孔的内表面上，并且突出到所述第一图案孔和所述第二图案孔中的一个中，其中，所述第一图案孔的所述内表面不同于所述第二图案孔的所述内表面。
8.根据权利要求7所述的掩模组件，其中，所述突出部分包括：
第一突出部分，从所述第一图案孔的所述内表面突出到所述第一图案孔中。
9.根据权利要求7所述的掩模组件，其中，
所述第一区域的厚度和所述第二区域的厚度彼此相等或不同。
10.根据权利要求7所述的掩模组件，其中，
在所述第二区域的一个表面上形成的所述第二图案孔的平面尺寸大于或等于在所述第一区域的从所述第二区域的所述一个表面延伸的一个表面上形成的所述第一图案孔的平面尺寸。
11.根据权利要求7所述的掩模组件，其中，
多个基准孔在所述第二区域的边缘处形成在所述掩模片中。
12.根据权利要求7所述的掩模组件，其中，
所述第一图案孔和所述第二图案孔在与所述掩模片的一个表面平行的平面上的形状彼此不同。
13.一种制造掩模组件的方法，所述方法包括：
布置第一光致抗蚀剂以在基材的第一表面上具有第一开口；
布置第二光致抗蚀剂以在所述基材的第二表面上具有第二开口和第三开口；
通过将蚀刻溶液喷涂到所述第一开口中，对所述基材的所述第一表面的一部分进行蚀刻；并且
经由通过将蚀刻溶液喷涂到所述第二开口和所述第三开口中来对所述基材的所述第二表面的一部分进行蚀刻，形成穿透所述基材的第一图案孔和第二图案孔。
14.根据权利要求13所述的方法，其中，
所述第二开口的宽度大于所述第一开口的宽度。
15.根据权利要求13所述的方法，其中，
在所述第二图案孔内部的从所述第二图案孔的内表面突出的突出部分在所述第一图案孔内部。
16.根据权利要求15所述的方法，其中，
从所述第一表面到所述突出部分的距离不同于从所述第二表面到所述突出部分的距离。
17.根据权利要求13所述的方法，进一步包括：
去除所述第一光致抗蚀剂。
18.根据权利要求13所述的方法，进一步包括：
去除所述第二光致抗蚀剂。
19.一种制造掩模组件的方法，所述方法包括：
在基材的第一表面上布置第一光致抗蚀剂，所述第一光致抗蚀剂具有位于所述基材的第一区域中的第一开口；
在所述基材的第二表面上布置第二光致抗蚀剂，所述第二光致抗蚀剂具有与所述第一开口相对应的第二开口；
通过将蚀刻溶液喷涂到所述第一开口中，对所述基材的所述第一表面的一部分进行蚀刻；
通过将蚀刻溶液喷涂到所述第二开口中，形成穿透所述基材的第一图案孔；并且
通过将激光束照射到所述基材的所述第二表面中的与所述第一区域相邻的第二区域，形成穿透所述基材的第二图案孔。
20.根据权利要求19所述的方法，其中，
所述第一图案孔和所述第二图案孔在与所述第一表面或所述第二表面平行的平面上的形状彼此不同。
21.根据权利要求19所述的方法，其中，
在与所述第一表面或所述第二表面平行的平面上，所述第一图案孔的面积和所述第二图案孔的面积彼此不同。
22.根据权利要求19所述的方法，其中，
每相等面积的所述第一图案孔的数量和所述第二图案孔的数量彼此不同。
23.根据权利要求19所述的方法，进一步包括：
去除所述第一光致抗蚀剂。
24.根据权利要求19所述的方法，进一步包括：
去除所述第二光致抗蚀剂。
25.根据权利要求19所述的方法，其中，所述第二图案孔的形成包括：
形成所述第二图案孔，使得所述第二图案孔在与所述基材的厚度方向垂直的方向上的宽度从所述第一表面到所述第二表面逐渐增加。
26.根据权利要求19所述的方法，其中，所述第二光致抗蚀剂进一步包括：
第三开口，被形成为与整个所述第二区域相对应，
其中，所述方法进一步包括：通过将蚀刻溶液喷涂到所述第三开口中，对所述基材的所述第二表面的一部分进行蚀刻。
27.根据权利要求26所述的方法，进一步包括：
通过将激光束照射到被形成为与所述基材的所述第二表面上的所述第三开口相对应的蚀刻表面上，形成穿透所述基材的所述第二图案孔。
28.根据权利要求19所述的方法，其中，
所...
【专利技术属性】
技术研发人员：金世一，白大源，李尚玟，高政佑，安洪均，李钟大，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR
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