【技术实现步骤摘要】
本专利技术属集成电路计算机辅助设计
，具体为一种考虑电压降(IR-drop)大规模集成电路的平面布局规划方法。
技术介绍
随着集成电路工艺发展，工作电压降低，功耗密度增大，电源网络电压降的问题将越来越突出。电压降是由于电流经过电源网络上的电阻而引起的。随着工艺的发展，集成电路的功能越来越强大，电流密度和连线长度都随之增加，这带来了更大的电压降。而且集成电路的工作电压随着工艺发展而降低，使得正常工作的最大容许电压降也在降低。因此，电压降问题将随着工艺的发展而越来越突出。布局是后端设计的第一个阶段，在这个阶段模块的大小以及模块间的相对位置将被确定，而且满足各种约束条件。布局是非常关键的一个阶段，它决定了一个版图的总体框架，而且可以用来验证设计的可行性。我们在布局阶段是尽可能的考虑到各种约束条件，给后续的物理设计阶段提供一个好的框架，减少返回设计的次数。电压降问题和模块的相对位置关系很大，而且我们如果能在物理设计初期，就能很好解决电压降问题，那么能更快的做到设计收敛，降低设计成本。本专利技术提出在布局阶段考虑电压降的约束，布局阶段同时优化布局的电压降以及面积。专...
【技术保护点】
考虑电压降的布局规划方法，其特征在于规划问题的描述如下：给定Ｎ个模块组成的集合Ｂ＝｛ｂ↓［ｌ］，…ｂ↓［ｎ］｝，其中ｂ↓［ｉ］＝｛ａ↓［ｉ］，ｐ↓［ｉ］｝，１≤ｉ≤ｎ，ａ↓［ｉ］为模块的面积，ｐ↓［ｉ］为模块的功耗，对Ｎ个模块进行布 局，在这些模块不相互重叠的前提下，使得电压降以及芯片面积得到优化；用距离芯片上电压降最大点的距离ｄ↓［ｉ］来量化电压降的大小，建立评价布局电压降的目标函数：Ｃｏｓｔ↓［ＩＲ］＝＊ｗ↓［ｉ］（ｄ↓［ｍａｘ］－ｄ↓［ｉ］） 其中，ｄ↓［ｍａｘ］为离电压降最大点的最长距离，ｄ↓［ｉ］为模块ｂ↓［...
【技术特征摘要】
1.考虑电压降的布局规划方法，其特征在于规划问题的描述如下给定N个模块组成的集合B＝{b1，...bn}，其中bi＝{ai，pi}，1≤i≤n，ai为模块的面积，pi为模块的功耗，对N个模块进行布局，在这些模块不相互重叠的前提下，使得电压降以及芯片面积得到优化；用距离芯片上电压降最大点的距离di来量化电压降的大小，建立评价布局电压降的目标函数CostIR=Σi=1i=Nwi(dmax-di)]]>其中，dmax为离电压降最大点的最长距离，di为模块bi离电压降最大点的距离，wi为模块bi的电压降权重；然后彩模拟退火算法和相应选择策略，完成布局规划。2.根据权利要求1所述的布局规划...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈建，赵长虹，周晓方，周电，
申请(专利权)人：复旦大学，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]
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