污水处理系统技术方案

本实用新型专利技术涉及污水处理技术领域，提供污水处理系统。污水处理系统包括沉淀池以及位于沉淀池上游的絮凝池，还包括：整流栅组件，安装于絮凝池和沉淀池之间的过水通道，且整流栅组件包括安装架、框架和多片导流方向可调的栅条；安装架固定于过水通道，框架铰接于安装架，且框架形成有栅条的插装槽。根据本实用新型专利技术实施例的污水处理系统，通过整流栅组件的设置，可以使得由絮凝池进入沉淀池水流流态更均匀，避免或降低沉淀池内短流现象的发生，最大限度的保障出水水质及降低运行成本。其中，通过将栅条安装于插装槽，可以方便栅条的更换。而将框架铰接于安装架，进而框架可以带动栅条相对安装架转动，实现导流目的。实现导流目的。实现导流目的。

【技术实现步骤摘要】
污水处理系统


[0001]本技术涉及污水处理
，尤其涉及污水处理系统。

技术介绍

[0002]磁混凝沉淀池作为一种新兴的污水深度处理技术，由于可以高效的去除SS(指悬浮在水中的固体物质)和溶解性磷，得到越来越多的应用。其中基于磁混凝沉淀池的污水深度处理技术的一种典型的工艺流程为：请参见图1，需处理的水依次进入混凝池001(投加混凝剂进行混凝)、磁粉投加池002(投加絮凝剂以及磁粉，以磁粉作为重介质/重核，提高污染物的沉淀效率)、絮凝池003(使待分离物充分絮凝形成较大矾花，更利于沉淀)和沉淀池004(污染物得到沉淀去除，清水由上方各集水槽收集后流出)。一般混凝池001、磁粉投加池002、絮凝池003和沉淀池004设计成偶数系列并联运行，以便于单池检修和应急切换。
[0003]工艺设计中理想的沉淀池004布水和出水都是均匀的，沉淀池004顶部各集水槽应以相同的流量均匀出水，使得出水稳定，达到良好处理效果。而在实际作业当中，由于各种原因，导致出水不能稳定达标，且流速大的地方水流会带走部分沉入池底的沉淀物和磁粉，影响出水水质，含磁粉的中本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种污水处理系统，包括沉淀池以及位于所述沉淀池上游的絮凝池，其特征在于，还包括：整流栅组件，安装于所述絮凝池和所述沉淀池之间的过水通道，且所述整流栅组件包括安装架、框架和多片导流方向可调的栅条；所述安装架固定于所述过水通道，所述框架铰接于所述安装架，且所述框架形成有所述栅条的插装槽。2.根据权利要求1所述的污水处理系统，其特征在于，所述框架包括：矩形框，形成有所述插装槽；方形纵梁，固定于所述矩形框的长边；圆杆，固定于所述方形纵梁的顶端；第一限位部，固定于所述圆杆，形成有第一限位孔；所述整流栅组件还包括：第二限位部，固定于所述安装架，形成有沿着所述栅条的转动方向分布的多个第二限位孔；限位栓，用于插入所述第一限位孔和其中一个所述第二限位孔，以锁止所述第一限位部和所述第二限位部。3.根据权利要求2所述的污水处理系统，其特征在于，所述框架还包括：定位柱，固定于所述方形纵梁的底端；所述安装架形成有安装孔，用于安装所述定位柱，所述安装孔和所述定位柱间隙配合以使得所述定位柱可相对所述安装孔转动。4.根据权利要求2所述的污水处理系统，其特征在于，所述第二限位部呈扇形，所述第二限位孔沿着所述第二限位部的周向分布。5.根据权利要求2所述的污水处理系统，其特征在于，在所述圆杆远离所述方形纵梁的一端连接有第二手柄。6.根据权利要求1至5中任意一项所述的污水处理系统，其特征在于，所述沉淀池包括：沉淀池本体；集水组件，安装于所述沉淀池本体内，所述集水组件包括堰槽、堰板和限位件；所述堰板铰接于所述堰槽的...

【专利技术属性】
技术研发人员：齐延斌，王旭，涂强，李清清，李星文，
申请(专利权)人：浦华控股有限公司，
类型：新型
国别省市：