【技术实现步骤摘要】
一种等离子体化学气相沉积设备水平度的自动调节装置
[0001]本技术涉及船舶
，具体为一种等离子体化学气相沉积设备水平度的自动调节装置。
技术介绍
[0002]等离子体化学气相沉积(plasmachemical vapor deposition)是指用等离子体激活反应气体，促进在基体表面或近表面空间进行化学反应，生成固态膜的技术，按产生等离子体的方法，分为射频等离子体、直流等离子体和微波等离子体CVD等，等离子体化学气相沉积设备在使用的时候需要随时保持水平状态，因此需要使用到等离子体化学气相沉积设备水平度的自动调节装置。
[0003]现有的等离子体化学气相沉积设备水平度的自动调节装置存在的缺陷是：
[0004]1、现有的等离子体化学气相沉积设备水平度的自动调节装置缺少减震缓冲的功能，在受到外界震动影响时，容易对等离子体化学气相沉积设备内部的一些电器部件造成损坏。
[0005]2、现有的等离子体化学气相沉积设备水平度的自动调节装置一般都是针对特定型号的设备进行使用，无法满足不同型号大小的设备进行安...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种等离子体化学气相沉积设备水平度的自动调节装置，其特征在于：包括减震盒（1）、顶座（4）、S7
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300PLC控制器（5）、安装板（8）和固定螺杆（10）；所述减震盒（1）底部的四个角固定安装有支撑机构（2），所述减震盒（1）底部靠近支撑机构（2）的位置处固定安装有万向轮（3），所述减震盒（1）的顶部设有顶座（4），所述顶座（4）顶部前侧的中央位置处固定安装有S7
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300PLC控制器（5），所述顶座（4）的顶部通过电动推杆（6）固定安装有安装板（8），所述电动推杆（6）通过导线与S7
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300PLC控制器（5）电性连接，所述安装板（8）底部的四个角处固定安装有FLS
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CH10水平传感器（7），所述FLS
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CH10水平传感器（7）通过导线与S7
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300PLC控制器（5）电性连接，所述安装板（8）顶部的两侧固定安装有焊接板（9），所述焊接板（9）的一侧通过固定螺杆（10）固定安装有凹型固定架（11），所述凹型固定架（11）内部的两端通过弹簧（12）固定安装有顶板（13）。2.根据权利要求1所述的一种等离子体化学气相沉积设备水平度的自动调节装置，其特征在于：所述减震盒（1）的内部放置有减震垫（101），所述减震盒（1）顶部的四个角设有通孔（102）。3.根据权利要求1所述的一种等离子体化学气相沉积设备水平度的自动调节装置，其特征在于：所述顶座（4）底部的四个角固定安装有插杆（...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄中山，王虎斌，
申请(专利权)人：盛吉盛宁波半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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