焦距伺服系统技术方案

技术编号:28489066 阅读:22 留言:0更新日期:2021-05-19 22:06
本发明专利技术公开了一种焦距伺服系统,应用于图案化液晶光取向装置,用于矫正运动产生的离焦现象,包括依次相连的检测光源、第二透镜、第二分光片、成像物镜组、第二成像CCD、电机;检测光源位于所述第二透镜的前焦面;第二分光片位于第二透镜的后焦面;第二成像CCD的成像面位于第二透镜的前焦面;电机驱动成像物镜组。本发明专利技术涉及的聚焦伺服系统通过控制物镜作上下移动,实时聚焦,提高分辨率,对于实现大幅面、高效率、可靠性好的液晶光取向具有重大意义。可靠性好的液晶光取向具有重大意义。可靠性好的液晶光取向具有重大意义。

【技术实现步骤摘要】
焦距伺服系统


[0001]本专利技术涉及液晶取向排列控制领域,尤其涉及一种高速曝光图案化液晶光取向装置中的焦距伺服系统。

技术介绍

[0002]液晶在信息显示、光学及光子学器件等领域具有广泛应用;液晶能够按照设计的取向排列进一步实现对光的振幅、相位以及偏振调制,在这些应用中发挥着重要的作用,因此液晶的取向排列控制方式成为了学术和工业生产的研究热点,目前公开的现有技术主要是光控取向技术:
[0003]光控取向是新近发展起来的一种非接触式的液晶取向方法,它利用光敏材料在紫外或蓝光偏光照射下发生定向光交联、异构化或光裂解反应而得到所需的排列,目前光控取向技术分为四种:掩模套刻偏振图案技术、利用全息干涉的方法获得的周期性的液晶取向技术、基于DMD的动态掩模光取向技术,还有基于空间调制器的偏振取向技术。
[0004]基于液晶空间调制器的偏振取向技术是一种能够对入射光的相位和振幅进行调制的可编程控制器件,单次投影取向可以实现不同选区液晶不同取向排列的图案记录。
[0005]专利申请号CN201820881217.1公开了一次曝光实现本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种焦距伺服系统,应用于图案化液晶光取向装置,其特征在于,包括依次相连的检测光源、第二透镜、第二分光片、成像物镜组、第二成像CCD、电机;所述检测光源位于所述第二透镜的前焦面;所述第二分光片位于所述第二透镜的后焦面;所述第二成像CCD的成像面位于所述第二透镜的前焦面;所述电机驱动所述成像物镜组;所述焦距伺服系统,用于矫正运动产生的离焦现象。2.根据权利要求1所述的焦距伺服系统,其特征在于,所述成像物镜组的光路的主轴方向垂直于载有光偏振敏感材料的工作台;所述电机用于驱动所述成像物镜组作竖直方向的上下移动,在所述工作台上形成聚焦面。3.根据权利要求2所述的焦距伺服系统,其特征在于,所述检测光源出射光的波长在偏振光敏吸收波长区域以外值;所述第二透镜,用于将投射到光偏振敏感材料面的光斑反射到第二成像CCD中;所述第二成像CCD,用于通过光斑直径映射Z轴伺服调焦位置;所述电机,用于调整Z轴镜头的上下高度,可以使第二成像CCD中的光斑直径始终保持为R,以通过第二成像CCD检测投射在光偏振敏感材料面的光斑的大小来判断光偏振敏感材料面是否在物镜的聚焦面。4.根据权利要求2所述的焦距伺服系统,其特征在于,所述工作台与运动控制部件相连,所述运动控制部件用于调整载有光偏振敏感材料的工作台的空间位置且将图案光场进行拼接。5.根据据权利要求4所述的成像检测组件,其特征在于,所述工作台设置于所述成像物镜组下方且具有二维运动轨道,用于承载光偏振敏感材料且在所述运动控制部件驱动下带动光偏振敏感材料在二维平面运动,使光偏振敏感材料的表面始终保持在所述成像物镜组的聚焦面。...

【专利技术属性】
技术研发人员:郑致刚黄文彬张新君王骁乾
申请(专利权)人:华东理工大学
类型:发明
国别省市:

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