流道控制系统技术方案

本发明专利技术提供一种流道控制系统，适用于控制第一流道及第二流道，包括壳体、相位阻流装置及驱动装置。第一流道及第二流道穿设于壳体，相位阻流装置设置于壳体内且邻设于第一流道及第二流道，驱动装置与相位阻流装置相连接。其中，相位阻流装置受驱动装置驱动，当相位阻流装置运作于第一相位，第一流道受压迫阻流且第二流道保持畅通，当相位阻流装置运作于第二相位，第二流道受压迫阻流且第一流道保持畅通，当相位阻流装置运作于第三相位，第一流道及第二流道同时受压迫阻流，以及当相位阻流装置运作于第四相位，第一流道及第二流道保持畅通。通。通。

【技术实现步骤摘要】
流道控制系统


[0001]本专利技术涉及一种控制系统，尤其涉及一种流道控制系统。

技术介绍

[0002]在喷印机的清洁系统中，抽墨系统对喷头清洁相当重要，抽墨系统主要由吸墨垫通过墨泵运转将墨水抽至废墨区。墨泵转速与运转参数的设定往往影响整体的清洁效能。一般而言，喷印机通常具有两个以上的喷头及其各自搭配的流道，当墨泵进行抽墨动作时，多半是以单一墨泵对应多个喷头进行吸墨与清洁。
[0003]如此一来，虽可对所有喷头都进行清洁，但也伴随着以下缺陷：首先，当仅有单一喷头的喷孔需进行清洁时，也因其机械的设计因素必须连带清洁所有正常喷头，每一个喷头及其流道皆须输出墨水以进行清洁动作，造成耗墨量过高；此外，同时清洁所有喷头亦可能造成正常喷头或其流道堵塞，甚至造成喷头的额外损坏，使得清洁成功率降低。因此，公知技术对于喷头的清洁存在清洁效益过低的问题。
[0004]故此，如何发展一种能通过相位控制，达成对两个流道管路分别或同时启闭的流道控制系统，实为目前尚待解决的问题。

技术实现思路

[0005]本专利技术的主要目的为提供一种流道控制系统，以解决并改善前述现有技术的问题与缺点。
[0006]本专利技术的另一目的为提供一种流道控制系统，通过相位阻流装置运作于第一相位、第二相位、第三相位及第四相位之间，能达成对第一流道及第二流道单独或同时的启闭控制，进而可根据需求减少流体的浪费。
[0007]本专利技术的另一目的为提供一种流道控制系统，当流道控制系统应用于喷印机的清洁系统，通过马达或电磁阀的控制达成对流道阻流的控制，能有效针对需被清洁的喷头进行清洁，正常喷头所连接的流道对应关闭，可以有效减少墨水的浪费，以节省喷印成本，同时因为没有进行不必要的清洁，能有效提升清洁效益，降低清洁所耗费的时间，连带提升喷印效能及产能。
[0008]为达上述目的，本专利技术的一较佳实施方式为提供一种流道控制系统，适用于控制一第一流道及一第二流道，包括一壳体、一相位阻流装置以及一驱动装置。其中该第一流道及该第二流道穿设于该壳体；一相位阻流装置，设置于该壳体内且邻设于该第一流道及该第二流道；以及一驱动装置，与该相位阻流装置相连接；其中该相位阻流装置受该驱动装置驱动以运作于一第一相位、一第二相位、一第三相位及一第四相位之间，当该相位阻流装置运作于该第一相位，该第一流道受该相位阻流装置压迫阻流且该第二流道保持畅通，当该相位阻流装置运作于该第二相位，该第二流道受该相位阻流装置压迫阻流且该第一流道保持畅通，当该相位阻流装置运作于该第三相位，该第一流道及该第二流道同时受该相位阻流装置压迫阻流，以及当该相位阻流装置运作于该第四相位，该第一流道及该第二流道保
持畅通。
[0009]本专利技术的有益效果在于，本专利技术提供一种流道控制系统，通过相位阻流装置运作于第一相位、第二相位、第三相位及第四相位之间，能达成对第一流道及第二流道单独或同时的启闭控制，进而可根据需求减少流体的浪费。
附图说明
[0010]图1为本专利技术一实施例的流道控制系统的结构示意图。
[0011]图2为图1所示的流道控制系统的分解结构示意图。
[0012]图3A为图2所示的流道阻流装置运作于第一相位的俯视示意图。
[0013]图3B为图2所示的流道阻流装置运作于第二相位的俯视示意图。
[0014]图3C为图2所示的流道阻流装置运作于第三相位的俯视示意图。
[0015]图3D为图2所示的流道阻流装置运作于第四相位的俯视示意图。
[0016]图4为本专利技术一实施例的流道控制系统的结构示意图。
[0017]图5为图4所示的流道控制系统的分解结构示意图。
[0018]图6A为图5所示的流道阻流装置运作于第一相位的俯视示意图。
[0019]图6B为图5所示的流道阻流装置运作于第二相位的俯视示意图。
[0020]图6C为图5所示的流道阻流装置运作于第三相位的俯视示意图。
[0021]图6D为图5所示的流道阻流装置运作于第四相位的俯视示意图。
[0022]附图标记如下：
[0023]1：流道控制系统
[0024]11：壳体
[0025]111：上盖体
[0026]12：相位阻流装置
[0027]120：圆形转轮
[0028]121：第一凸出部
[0029]122：第二凸出部
[0030]123：第三凸出部
[0031]13：驱动装置
[0032]14：感测器
[0033]21：第一流道
[0034]22：第二流道
[0035]3：流道控制系统
[0036]31：壳体
[0037]311：上盖体
[0038]32：相位阻流装置
[0039]321：第一压制键
[0040]322：第二压制键
[0041]33：驱动装置
[0042]331：第一电磁驱动器
[0043]332：第二电磁驱动器
[0044]41：第一流道
[0045]42：第二流道
具体实施方式
[0046]体现本专利技术特征与优点的一些典型实施例将在后段的说明中详细叙述。应理解的是本专利技术能够在不同的方式上具有各种的变化，其皆不脱离本专利技术的范围，且其中的说明及图示在本质上当作说明之用，而非架构于限制本专利技术。
[0047]请参阅图1、图2及图3A至图3D，其中图1为本专利技术一实施例的流道控制系统的结构示意图，图2为图1所示的流道控制系统的分解结构示意图，图3A为图2所示的流道阻流装置运作于第一相位的俯视示意图，图3B为图2所示的流道阻流装置运作于第二相位的俯视示意图，图3C为图2所示的流道阻流装置运作于第三相位的俯视示意图，以及图3D为图2所示的流道阻流装置运作于第四相位的俯视示意图。如图1至图3D所示，本专利技术一实施例的流道控制系统1适用于控制多个流道，于本实施例中以两个流道，即第一流道21及第二流道22为例示出，其中第一流道21及第二流道22以软性管路或易于形变的管路为佳，但不以此为限。流道控制系统1包括壳体11、相位阻流装置12及驱动装置13。第一流道21及第二流道22穿设于壳体11，相位阻流装置12设置于壳体11内且邻设于第一流道21及第二流道22，驱动装置13与相位阻流装置12相连接。其中，相位阻流装置12受驱动装置13驱动以运作于第一相位、第二相位、第三相位及第四相位之间。换言之，相位阻流装置12可被选定以受驱动装置13驱动运作于第一相位、第二相位、第三相位或第四相位。
[0048]当相位阻流装置12运作于第一相位，第一流道21受相位阻流装置12压迫阻流且第二流道22保持畅通(如图3A所示)；当相位阻流装置12运作于第二相位，第二流道22受相位阻流装置12压迫阻流且第一流道21保持畅通(如图3B所示)；当相位阻流装置12运作于第三相位，第一流道21及第二流道22同时受相位阻流装置12压迫阻流(如图3C所示)；另当相位阻流装置12运作于本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种流道控制系统，适用于控制一第一流道及一第二流道，包括：一壳体，其中该第一流道及该第二流道穿设于该壳体；一相位阻流装置，设置于该壳体内且邻设于该第一流道及该第二流道；以及一驱动装置，与该相位阻流装置相连接；其中该相位阻流装置受该驱动装置驱动以运作于一第一相位、一第二相位、一第三相位及一第四相位之间，当该相位阻流装置运作于该第一相位，该第一流道受该相位阻流装置压迫阻流且该第二流道保持畅通，当该相位阻流装置运作于该第二相位，该第二流道受该相位阻流装置压迫阻流且该第一流道保持畅通，当该相位阻流装置运作于该第三相位，该第一流道及该第二流道同时受该相位阻流装置压迫阻流，以及当该相位阻流装置运作于该第四相位，该第一流道及该第二流道保持畅通。2.如权利要求1所述的流道控制系统，其中该驱动装置为一马达，该相位阻流装置包括一圆形转轮，且该圆形转轮受该马达直接或间接驱动旋转。3.如权利要求2所述的流道控制系统，其中该相位阻流装置包括一第一凸出部、一第二凸出部及一第三凸出部，该第一凸出部、该第二凸出部及该第三凸出部自该圆形转轮的圆周延伸凸出，当该相位阻流装置运作于该第一相位，该第一流道受该第一凸出部压迫，当该相位阻流装置运作于该第二相位，该第二流道受该第一凸出部压迫，以及当该相位阻流装置运作于该第三相位，该第一流道及该第二流道分别受该第二凸出部及该第三凸出部压迫，或分别受该第三凸出部及该第二凸出部压迫。4.如权利要求3所述的流道控制系统，其中该第二凸出部及该第三凸出部位于该圆形转轮的同一直径上...

【专利技术属性】
技术研发人员：欧腾元，
申请(专利权)人：东友科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：