一种实现抛光液从转轴处滴落的磨抛头、金相机及方法技术

本发明专利技术公开了一种实现抛光液从转轴处滴落的磨抛头、金相机及方法，解决了现有技术中抛光液存在浪费的问题，具有从箱体转轴处滴落，避免抛光液甩溅的有益效果，具体方案如下：一种实现抛光液从转轴处滴落的磨抛头，包括箱体，箱体安装空心轴电机，通过空心轴电机带动夹持盘转动，夹持盘用于夹持金相试样，箱体内可通入抛光液，抛光液通过空心轴电机和夹持盘可滴落。可滴落。可滴落。

【技术实现步骤摘要】
一种实现抛光液从转轴处滴落的磨抛头、金相机及方法


[0001]本专利技术涉及金相磨抛机领域，尤其是一种实现抛光液从转轴处滴落的磨抛头、金相机及方法。

技术介绍

[0002]本部分的陈述仅仅是提供了与本专利技术相关的
技术介绍
信息，不必然构成在先技术。
[0003]金相显微观察是研究材料内部微观组织的重要方法之一。金相微观组织观察之前的过程包括制样、磨光、抛光、刻蚀，其中决定金相观察质量最重要的是磨抛过程。金相试样的磨抛采用金相磨抛机，其主要分为机座和机头两大部分。在试样的磨抛过程中，机座上利用电机来带动磨/磨抛盘使之高速运动，机头上利用电机带动磨抛头夹持器与机座的磨/抛盘反向高速回转来磨抛试样，此外抛光过程中需要添加液体的抛光液来获得表面质量高的试样。
[0004]在金相磨抛机的磨抛过程中试样和磨抛头夹持器存在如下问题：
[0005]1、金相自动磨抛机抛光时，需要人为地从磨抛头夹持器侧边往磨抛盘上注入液体的抛光液，而抛光时磨抛盘做高速的圆周运动，产生离心力会使抛光液向外甩出，造成抛光液的浪费，并且也影响试样的抛光质量。
[0006]2、金相自动磨抛机的磨抛盘转速过大时，装在磨抛头夹持器的试样会发生自转，导致试样表面出现乱序的划痕。
[0007]3、金相自动磨抛机磨抛时，磨抛头夹持器的尺寸小于磨抛盘的尺寸，会使砂纸或者抛光纸只有特定的位置磨抛，导致砂纸或者抛光纸利用不充分，造成砂纸或者抛光纸的浪费。
[0008]4、金相自动磨抛机磨抛时，磨抛头夹持器的试样尺寸过于单一，大大增加磨抛时间。

技术实现思路

[0009]针对现有技术存在的不足，本专利技术的目的是提供一种实现抛光液从转轴处滴落的磨抛头，实现滚珠丝杠副复杂加载工况下综合性能试验。
[0010]为了实现上述目的，本专利技术是通过如下的技术方案来实现：
[0011]一种实现抛光液从转轴处滴落的磨抛头，包括箱体，箱体安装空心轴电机，通过空心轴电机带动夹持盘转动，夹持盘用于夹持金相试样，箱体内可通入抛光液，抛光液通过空心轴电机和夹持盘可滴落。
[0012]上述的磨抛头，抛光液无需直接向磨抛盘注入，而且通过空心轴电机和夹持盘滴落，保证抛光液滴向磨抛盘，避免抛光液向外甩出，有利于提高抛光质量，同时避免抛光液的浪费。
[0013]如上所述的一种实现抛光液从转轴处滴落的磨抛头，所述空心轴电机中空处安装
有滴管，滴管超出空心轴电机设置，且滴管与所述的夹持盘连接，滴管具有同空心轴电机中空处相通的通孔。
[0014]如上所述的一种实现抛光液从转轴处滴落的磨抛头，所述夹持盘设于滴管的环向，滴管与夹持盘为一体结构件，通过滴管顶部实现与空心轴电机底端的连接。
[0015]如上所述的一种实现抛光液从转轴处滴落的磨抛头，所述滴管的通孔呈上宽下窄的圆锥型，通孔的形状，有利于抛光液向下滴落。
[0016]如上所述的一种实现抛光液从转轴处滴落的磨抛头，所述夹持盘设置多个夹持孔，多个夹持孔的尺寸相同或相异，各个夹持孔的中心轴线均与夹持盘的中心轴线相互平行。
[0017]如上所述的一种实现抛光液从转轴处滴落的磨抛头，所述夹持盘在每个所述夹持孔侧部设有销轴孔，销轴孔与夹持孔相通以安装销轴，销轴孔的中心轴线垂直于夹持孔的中心轴线，实现销轴穿过销轴孔对金相试样周向进行定位，有效避免金相试样发生自转的情况。
[0018]如上所述的一种实现抛光液从转轴处滴落的磨抛头，所述箱体设置抛光液入口，用于向箱体内通入抛光液；
[0019]底侧设置升降单元，升降单元设于所述滴管的侧部，升降单元可带动箱体和夹持盘实现升降，通过升降单元带动夹持盘升降运动，从而保证金相试样与磨抛盘反向的压紧力。
[0020]如上所述的一种实现抛光液从转轴处滴落的磨抛头，所述空心轴电机与控制器连接。
[0021]第二方面，本专利技术还提供了一种实现抛光液从转轴处滴落的金相机，包括：
[0022]机座，机座设置若干磨抛盘，磨抛盘固定安装或可转动安装于机座；
[0023]所述的一种实现抛光液从转轴处滴落的磨抛头，磨抛头可升降安装于机座，磨抛盘的尺寸与夹持盘的尺寸相同，降低砂纸或抛光纸的浪费情况。
[0024]一种实现抛光液从转轴处滴落的金相机的使用方法，包括如下内容：
[0025]根据磨抛盘的位置，将夹持盘位于磨抛盘的上方；
[0026]控制箱体内气体的压力；
[0027]通过夹持盘夹持金相试样；
[0028]空心轴电机带动夹持盘转动；
[0029]抛光液通过空心轴电机和夹持盘向磨抛盘滴落，做圆周运动的磨抛盘产生的离心力可以使抛光液沾到金相试样表面。
[0030]上述本专利技术的有益效果如下：
[0031]1)本专利技术通过空心轴电动带动夹持盘的转动，可通过空心轴电机实现抛光液滴落到磨抛盘，这样做圆周运动的磨抛盘产生的离心力可以使抛光液均匀的沾到试样表面，可以获得高的抛光质量，同时也可以节约抛光液。
[0032]2)本专利技术通过销轴孔的设置，销轴穿过销轴孔对夹持孔处的金相试样进行周向固定，可以防止金相试样在磨抛时自转，容易获得高的表面质量。
[0033]3)本专利技术通过磨抛盘和夹持盘尺寸设为相同，可避免砂纸和抛光纸只有特定位置存在磨抛，充分利用砂纸和抛光纸。
[0034]4)本专利技术通过多个不同尺寸相同或相异夹持孔的设置，可实现不同尺寸大小金相试样的夹持，同一时间内实现不同尺寸大小金相试样的磨抛，大大节约了磨抛时间；而且可以最大程度的利用磨抛纸。
附图说明
[0035]构成本专利技术的一部分的说明书附图用来提供对本专利技术的进一步理解，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。
[0036]图1为本专利技术的实施例中一种实现抛光液从转轴处滴落的金相机整体结构示意图；
[0037]图2为本专利技术的实施例中箱体的结构示意图；
[0038]图3为本专利技术的实施例中夹持盘与滴管的结构示意图；
[0039]图4为本专利技术的实施例中夹持盘与滴管的俯视图；
[0040]图5为本专利技术的实施例中图4中C
‑
C处的剖面图；
[0041]图中：1、箱体；101、控制开关；102、抛光液注射口；103、空心轴电机；2、夹持盘；201、第一夹持孔；202、第二夹持孔；203、滴管；204、销轴孔；3、机座；301、控制器；4、磨抛盘。
具体实施方式
[0042]应该指出，以下详细说明都是例示性的，旨在对本专利技术提供进一步的说明。除非另有指明，本专利技术使用的所有技术和科学术语具有与本专利技术所属
的普通技术人员通常理解的相同含义。
[0043]需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本专利技术的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非本专利技术另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种实现抛光液从转轴处滴落的磨抛头，其特征在于，包括箱体，箱体安装空心轴电机，通过空心轴电机带动夹持盘转动，夹持盘用于夹持金相试样，箱体内可通入抛光液，抛光液通过空心轴电机和夹持盘可滴落。2.根据权利要求1所述的一种实现抛光液从转轴处滴落的磨抛头，其特征在于，所述空心轴电机中空处安装有滴管，滴管超出空心轴电机设置，且滴管与所述的夹持盘连接，滴管具有同空心轴电机中空处相通的通孔。3.根据权利要求2所述的一种实现抛光液从转轴处滴落的磨抛头，其特征在于，所述夹持盘设于滴管的环向，滴管与夹持盘为一体结构件。4.根据权利要求2所述的一种实现抛光液从转轴处滴落的磨抛头，其特征在于，所述滴管的通孔呈上宽下窄的圆锥型。5.根据权利要求1所述的一种实现抛光液从转轴处滴落的磨抛头，其特征在于，所述夹持盘设置多个夹持孔，多个夹持孔的尺寸相同或相异，各个夹持孔的中心轴线均与夹持盘的中心轴线相互平行。6.根据权利要求1所述的一种实现抛光液从转轴处滴落的磨抛头，其特征在于，所述夹持盘在每...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩泉泉，高建，张振华，杨圣钊，
申请(专利权)人：山东大学，
类型：发明
国别省市：